[發(fā)明專利]觸控面板及其制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010663312.6
• 申請日: 2020-07-10
• 公開（公告）號: CN111782086B
• 公開（公告）日: 2022-05-06
• 發(fā)明（設計）人: 金鴻杰;張軒滿;葉佳锜;鄞閔慧;高逸群;黃彥衡
• 申請（專利權）人: 業(yè)成科技（成都）有限公司;業(yè)成光電（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G06F3/044
• 代理公司: 成都希盛知識產權代理有限公司 51226
• 代理人: 楊冬梅;張行知

1.一種觸控面板，其特征在于，包括：

一感測單元，其包括一第一導電網(wǎng)格層，一第二導電網(wǎng)格層以及至少一導線，該第一導電網(wǎng)格層包括復數(shù)觸控感應電極，該第二導電網(wǎng)格層包括復數(shù)觸控驅動電極，該導線系與該第一導電網(wǎng)格層或該第二導電網(wǎng)格層電性連接，且其中該導線由至少一導線高阻抗部以及至少一導線低阻抗部所組成，該導線高阻抗部之薄膜電阻大于該導線低阻抗部以及該第一導電網(wǎng)格層、該第二導電網(wǎng)格層之薄膜電阻；以及

一基板，用以令該感測單元設置于該基板之至少一表面上；

其中定義有一顯示區(qū)以及一邊框區(qū)；該顯示區(qū)包括一疊構，該疊構包括該第一導電網(wǎng)格層、該第二導電網(wǎng)格層、至少一絕緣層、該基板之一顯示部以及一液晶顯示模組；而該邊框區(qū)包括該基板之一周邊部，且該周邊部與至少一該導線自該邊框區(qū)以相同方向延伸至該顯示區(qū)并包覆部分該液晶顯示模組，以及該周邊部與至少一該導線自該邊框區(qū)以相同方向延伸至該顯示區(qū)并貼附于該顯示模組下方，又該周邊部定義有復數(shù)彎折部以及復數(shù)非彎折部，該導線高阻抗部對應該復數(shù)彎折部之形狀設置。

2.如權利要求1所述之觸控面板，其中該導線高阻抗部之薄膜電阻至少為該導線低阻抗部以及該導電網(wǎng)格層之薄膜電阻的1.1倍。

3.如權利要求1所述之觸控面板，其中該導線高阻抗部之薄膜電阻為該導線低阻抗部以及該導電網(wǎng)格層之薄膜電阻的1.1～1.25倍。

4.如權利要求1所述之觸控面板，其中該導線高阻抗部及該導線低阻抗部皆系由銅、金、銀、鋁、錫、鐵、鎳或氧化銦錫材料之中不同的任二者所組成。

5.如權利要求1所述之觸控面板，其中該導線高阻抗部及該導線低阻抗部皆系由銅、金、銀、鋁、錫、鐵、鎳或氧化銦錫材料之中的任一者所組成。

6.如權利要求1所述之觸控面板，其中該導線高阻抗部系由納米銀線、銀粒子或導電高分子PEDOT:PSS所組成。

7.如權利要求1所述之觸控面板，其中該導線高阻抗部定義有一第一側面以及其相對之一第二側面，該第一側面以及該第二側面之表面與該基板之表面的夾角皆不大于30度。

8.如權利要求1所述之觸控面板，其中該導線高阻抗部定義有一第一側面以及其相對之一第二側面，該第一側面以及該第二側面之表面與該基板之表面的夾角皆為20～30度。

9.一種觸控面板之制造方法，包括一曝光制程，其特征在于進一步包括下列步驟：

以至少一第一光罩以及至少一第二光罩分別對應于一納米銀材料之至少一低阻抗區(qū)以及至少一高阻抗區(qū)設置并曝光，并且其中該第一光罩之光穿透率大于該第二光罩之光穿透率；該步驟用以透過曝光制程中曝光程度之差異，造成該高阻抗區(qū)之銀致密程度小于該低阻抗區(qū)之銀致密程度。

10.如權利要求9所述之制造方法，其中該第二光罩系多灰階制程光罩或半色調光罩。

11.一種觸控面板的制造方法，其特征在于，包括一濺鍍鍍膜制程，其特征在于進一步包括下列步驟：

將至少一遮罩對應一銀靶材之至少一高阻抗區(qū)設置，以一具第一能量之電子束轟擊該銀靶材，接著將至少一該遮罩對應該銀靶材之至少一低阻抗區(qū)設置，以一具第二能量之電子束轟擊，并且其中該第一能量小于該第二能量；該步驟用以透過濺鍍鍍膜制程中電子束之能量差異，造成該高阻抗區(qū)之銀致密程度小于該低阻抗區(qū)之銀致密程度。