[發(fā)明專(zhuān)利]增亮膜的轉(zhuǎn)印式制造方法及增亮膜有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010655547.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-07-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113917583B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-07-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林劉恭 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 光群雷射科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02B5/02 | 分類(lèi)號(hào): | G02B5/02 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 王紅艷 |
| 地址: | 中國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 增亮膜 轉(zhuǎn)印式 制造 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)一種增亮膜的轉(zhuǎn)印式制造方法及增亮膜,增亮膜的轉(zhuǎn)印式制造方法包括:制造一增亮膜轉(zhuǎn)印滾輪;以增亮膜轉(zhuǎn)印滾輪滾壓一透光膜,進(jìn)而構(gòu)成一增亮膜。增亮膜轉(zhuǎn)印滾輪的制造過(guò)程包含:于一透光圓管的外表面涂布一負(fù)光阻層;將一光源搭配一光罩來(lái)共同伸入透光圓管內(nèi),并以一預(yù)定光形穿過(guò)透光圓管并照射在負(fù)光阻層;將光源與光罩相對(duì)于透光圓管旋轉(zhuǎn),以使透光圓管的外表面的負(fù)光阻層的一部位,其能夠受到具備預(yù)定光形的光線照射而構(gòu)成一棱鏡微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印層;去除未形成棱鏡微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印層的負(fù)光阻層的另一部位,構(gòu)成增亮膜轉(zhuǎn)印滾輪。本發(fā)明所提供的增亮膜能通過(guò)增亮膜的轉(zhuǎn)印式制造方法,以大幅降低增亮膜的制造時(shí)間及制造成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種增亮膜的制造方法及增亮膜,特別是涉及一種增亮膜的轉(zhuǎn)印式制造方法及以所述增亮膜的轉(zhuǎn)印式制造方法制造的增亮膜。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的增亮膜制造方法往往需要借由特殊的處理制造(如:鉆石雕刻刀切割),上述特殊的處理經(jīng)常需要耗費(fèi)大量的經(jīng)費(fèi)與時(shí)間,使增亮膜的制造時(shí)間及制造成本大幅提升。
因此,如何通過(guò)增亮膜制造方法的設(shè)計(jì)與改良,以克服上述的缺陷,已成為該項(xiàng)事業(yè)所要解決的重要課題之一。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足提供一種增亮膜的轉(zhuǎn)印式制造方法及增亮膜,其能有效地改善現(xiàn)有增亮膜制造方法所可能產(chǎn)生的缺陷。
本發(fā)明的其中一個(gè)實(shí)施例公開(kāi)一種增亮膜的轉(zhuǎn)印式制造方法,其包括:一滾輪制造步驟:制造一增亮膜轉(zhuǎn)印滾輪,其制造過(guò)程包含:一涂布步驟:于一透光圓管的外表面涂布圍繞360度的一負(fù)光阻層;一光形步驟:將一光源搭配一光罩來(lái)共同伸入所述透光圓管內(nèi),以使所述光源所發(fā)出的光線能穿過(guò)所述光罩、而以一預(yù)定光形穿過(guò)所述透光圓管并照射在所述負(fù)光阻層;一曝光步驟:將所述光源與所述光罩相對(duì)于所述透光圓管旋轉(zhuǎn),以使鄰近所述透光圓管的所述外表面的所述負(fù)光阻層的一部位,其能夠受到具備所述預(yù)定光形的所述光線照射而構(gòu)成一棱鏡微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印層;及一顯影步驟:去除未形成所述棱鏡微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印層的所述負(fù)光阻層的另一部位,以令所述透光圓管及形成于所述透光圓管上的所述棱鏡微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印層共同構(gòu)成所述增亮膜轉(zhuǎn)印滾輪;以及一增亮膜轉(zhuǎn)印步驟:以所述增亮膜轉(zhuǎn)印滾輪不間斷地滾壓于一透光膜上,以使所述透光膜形成有多條棱鏡微結(jié)構(gòu)、進(jìn)而構(gòu)成一增亮膜。
優(yōu)選地,在所述增亮膜轉(zhuǎn)印滾輪的制造過(guò)程中,所述棱鏡微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印層形成有彼此平行且依次相連的多個(gè)長(zhǎng)條狀結(jié)構(gòu);其中,多條所述棱鏡微結(jié)構(gòu)是通過(guò)多個(gè)長(zhǎng)條狀結(jié)構(gòu)不間斷地滾壓于所述透光膜而形成、且依次相連不間斷。
優(yōu)選地,任兩個(gè)相鄰的所述長(zhǎng)條狀結(jié)構(gòu)具有不同的高度,以使任兩條相鄰的所述棱鏡微結(jié)構(gòu)具有不同的高度。
優(yōu)選地,任兩個(gè)相鄰所述長(zhǎng)條狀結(jié)構(gòu)的垂直其長(zhǎng)軸方向的截面具有不同的形狀。
優(yōu)選地,任兩個(gè)相鄰所述長(zhǎng)條狀結(jié)構(gòu)的垂直其長(zhǎng)軸方向的截面具有不同的三角形。
優(yōu)選地,所述增亮膜的多條所述棱鏡微結(jié)構(gòu)的數(shù)量大于所述棱鏡微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印層的多個(gè)所述長(zhǎng)條狀結(jié)構(gòu)的數(shù)量。
優(yōu)選地,對(duì)應(yīng)于任一個(gè)所述長(zhǎng)條狀結(jié)構(gòu)的所述光罩部位的灰階值為漸層式分布。
優(yōu)選地,所述透光圓管定義有一中心軸線,并且每個(gè)所述長(zhǎng)條狀結(jié)構(gòu)平行于所述中心軸線。
優(yōu)選地,所述光源包含有能夠發(fā)出介于340納米(nm)~410納米的至少一個(gè)發(fā)光二極管芯片。
本發(fā)明的其中一個(gè)實(shí)施例公開(kāi)一種增亮膜,其是以上述增亮膜的轉(zhuǎn)印式制造方法所制成。
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