[發明專利]增亮膜的轉印式制造方法及增亮膜有效
| 申請號: | 202010655547.0 | 申請日: | 2020-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN113917583B | 公開(公告)日: | 2023-07-25 |
| 發明(設計)人: | 林劉恭 | 申請(專利權)人: | 光群雷射科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/02 | 分類號: | G02B5/02 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 王紅艷 |
| 地址: | 中國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 增亮膜 轉印式 制造 方法 | ||
1.一種增亮膜的轉印式制造方法,其特征在于,所述增亮膜的轉印式制造方法包括以下步驟:
一滾輪制造步驟:制造一增亮膜轉印滾輪,其制造過程包含:
一涂布步驟:于一透光圓管的外表面涂布圍繞360度的一負光阻層;
一光形步驟:將一光源搭配一光罩來共同伸入所述透光圓管內,以使所述光源所發出的光線能穿過所述光罩、而以一預定光形穿過所述透光圓管并照射在所述負光阻層;
一曝光步驟:將所述光源與所述光罩相對于所述透光圓管旋轉,以使鄰近所述透光圓管的所述外表面的所述負光阻層的一部位,其能夠受到具備所述預定光形的所述光線照射而構成一棱鏡微結構轉印層;及
一顯影步驟:去除未形成所述棱鏡微結構轉印層的所述負光阻層的另一部位,以令所述透光圓管及形成于所述透光圓管上的所述棱鏡微結構轉印層共同構成所述增亮膜轉印滾輪;以及
一增亮膜轉印步驟:以所述增亮膜轉印滾輪不間斷地滾壓于一透光膜上,以使所述透光膜形成有多條棱鏡微結構、進而構成一增亮膜。
2.根據權利要求1所述的增亮膜的轉印式制造方法,其特征在于,在所述增亮膜轉印滾輪的制造過程中,所述棱鏡微結構轉印層形成有彼此平行且依次相連的多個長條狀結構;其中,多條所述棱鏡微結構是通過多個長條狀結構不間斷地滾壓于所述透光膜而形成、且依次相連不間斷。
3.根據權利要求2所述的增亮膜的轉印式制造方法,其特征在于,任兩個相鄰的所述長條狀結構具有不同的高度,以使任兩條相鄰的所述棱鏡微結構具有不同的高度。
4.根據權利要求2所述的增亮膜的轉印式制造方法,其特征在于,任兩個相鄰所述長條狀結構的垂直其長軸方向的截面具有不同的形狀。
5.根據權利要求2所述的增亮膜的轉印式制造方法,其特征在于,任兩個相鄰所述長條狀結構的垂直其長軸方向的截面具有不同的三角形。
6.根據權利要求2所述的增亮膜的轉印式制造方法,其特征在于,所述增亮膜的多條所述棱鏡微結構的數量大于所述棱鏡微結構轉印層的多個所述長條狀結構的數量。
7.根據權利要求2所述的增亮膜的轉印式制造方法,其特征在于,對應于任一個所述長條狀結構的所述光罩部位的灰階值為漸層式分布。
8.根據權利要求2所述的增亮膜的轉印式制造方法,其特征在于,所述透光圓管定義有一中心軸線,并且每個所述長條狀結構平行于所述中心軸線。
9.根據權利要求1所述的增亮膜的轉印式制造方法,其特征在于,所述光源包含有能夠發出介于340納米~410納米的至少一個發光二極管芯片。
10.一種增亮膜,其特征在于,所述增亮膜是以如權利要求1所述的增亮膜的轉印式制造方法所制成。
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