[發明專利]半導體封裝結構和其制造方法在審
| 申請號: | 202010655249.1 | 申請日: | 2020-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN112242361A | 公開(公告)日: | 2021-01-19 |
| 發明(設計)人: | 劉瑋瑋;翁輝翔;賴律名 | 申請(專利權)人: | 日月光半導體制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/31 | 分類號: | H01L23/31;H01L21/56 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 蕭輔寬 |
| 地址: | 中國臺灣高雄市楠梓*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 封裝 結構 制造 方法 | ||
1.一種半導體封裝結構,其包括:
電子設備,所述電子設備具有鄰近于第一表面的暴露區;
壩,所述壩圍繞所述電子設備的所述暴露區并安置在第一表面上,所述壩包括遠離所述第一表面的上表面;
包封料,所述包封料包封所述電子設備的所述第一表面,所述包封料暴露所述電子設備的所述暴露區,
其中所述壩的表面從所述包封料的上表面縮回。
2.根據權利要求1所述的半導體封裝結構,其中所述暴露區包括可移動部分。
3.根據權利要求1所述的半導體封裝結構,其中所述可移動部分包括膜。
4.根據權利要求1所述的半導體封裝結構,其進一步包括導電端,所述導電端位于所述第一表面上,所述導電端電連接到所述暴露區。
5.根據權利要求1所述的半導體封裝結構,其中從俯視圖角度看,所述暴露區包括圓形形狀。
6.根據權利要求5所述的半導體封裝結構,其中從俯視圖角度看,所述壩包括圓形形狀。
7.根據權利要求1所述的半導體封裝結構,其中所述壩未投射于所述暴露區之上。
8.根據權利要求1所述的半導體封裝結構,其中從橫截面角度看,所述壩包括圓角。
9.根據權利要求1所述的半導體封裝結構,其進一步包括導電通孔,所述導電通孔位于所述包封料中并且與所述暴露區電耦接。
10.根據權利要求1所述的半導體封裝結構,其進一步包括導電通孔,所述導電通孔位于所述電子設備中并且與所述暴露區電耦接。
11.一種半導體封裝結構,其包括:
電子設備,所述電子設備具有鄰近于第一表面的暴露區;以及
壩,所述壩圍繞所述電子設備的所述暴露區并安置在所述第一表面上,所述壩包括覆蓋第二電介質的第一電介質。
12.根據權利要求11所述的半導體封裝結構,其中所述第一電介質與所述第二電介質的上表面接觸。
13.根據權利要求12所述的半導體封裝結構,其中所述第一電介質進一步與所述第二電介質的側表面接觸。
14.根據權利要求11所述的半導體封裝結構,其中所述第一電介質包括環氧樹脂基材料。
15.根據權利要求11所述的半導體封裝結構,其中所述第二電介質包括聚酰亞胺或聚苯并噁唑。
16.根據權利要求11所述的半導體封裝結構,其進一步包括包封料,所述包封料包封所述電子設備和所述壩,所述包封料包括上表面,所述上表面的一部分基本上高于所述壩的上表面。
17.一種用于制造半導體封裝結構的方法,所述方法包括:
在電子設備的第一表面之上圖案化鈍化層;
在所述第一表面上鄰近于所述鈍化層圖案化壩;以及
去除所述鈍化層的至少一部分并暴露所述電子設備的所述第一表面。
18.根據權利要求17所述的方法,其中去除所述鈍化層的至少一部分包括執行定向蝕刻。
19.根據權利要求17所述的方法,其進一步包括包封所述電子設備并在所述鈍化層之上形成開放腔。
20.根據權利要求17所述的方法,其中去除所述鈍化層的至少一部分進一步包括去除所述壩的一部分。
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