[發(fā)明專利]過程分析儀適配器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010650911.4 | 申請日: | 2020-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN112198115A | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | J.施密特;P.韋爾;J.庫巴塔;D.福斯;B.比恩格爾 | 申請(專利權(quán))人: | ABB瑞士股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/01 | 分類號: | G01N21/01;F16J15/06;F16J15/16 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 石宏宇;王瑋 |
| 地址: | 瑞士*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 過程 分析 適配器 | ||
1.一種過程分析儀適配器,包括:
- 第一部件;
- 第二部件;以及
- 第三部件;
其中,所述第一部件構(gòu)造成連接到過程分析儀;
其中,所述第一部件旋轉(zhuǎn)地連接到所述第二部件,其中,所述第一部件可圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn);
其中,所述第二部件旋轉(zhuǎn)地連接到所述第三部件,其中,所述第二部件可圍繞第二軸線旋轉(zhuǎn),并且其中,所述第二部件圍繞所述第二軸線的旋轉(zhuǎn)構(gòu)造成使所述第一軸線傾斜;并且
其中,所述第三部件構(gòu)造成連接到工業(yè)過程裝備的凸緣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適配器,其特征在于,所述第一軸線正交于所述第二軸線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1-2中的任一項所述的適配器,其特征在于,所述第一軸線和第二軸線相交于相交點處。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任一項所述的適配器,其特征在于,密封件設(shè)于所述第一部件與所述第三部件之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求3-4中的任一項所述的適配器,其特征在于,所述第一部件的球形形狀的外部部分具有以所述相交點為中心的曲率半徑。
6.根據(jù)從屬于權(quán)利要求4時的權(quán)利要求5所述的適配器,其特征在于,所述密封件是所述第三部件的密封件,其構(gòu)造成在所述第一部件圍繞所述第一軸線旋轉(zhuǎn)時和/或在所述第二部件圍繞所述第二軸線旋轉(zhuǎn)時接觸所述第一部件的所述球形形狀的外部部分。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的適配器,其特征在于,所述密封件包括位于所述第三部件內(nèi)的O型環(huán)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的適配器,其特征在于,所述O型環(huán)置于所述第三部件中的三角形形狀的凹槽中。
9.根據(jù)權(quán)利要求3-4中的任一項所述的適配器,其特征在于,所述第三部件的球形形狀的外部部分具有以所述相交點為中心的曲率半徑。
10.根據(jù)從屬于權(quán)利要求4時的權(quán)利要求9所述的適配器,其特征在于,所述密封件是所述第一部件的密封件,其構(gòu)造成在所述第一部件圍繞所述第一軸線旋轉(zhuǎn)時和/或在所述第二部件圍繞所述第二軸線旋轉(zhuǎn)時接觸所述第三部件的所述球形形狀的外部部分。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的適配器,其特征在于,所述密封件是位于所述第一部件內(nèi)的O型環(huán)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的適配器,其特征在于,所述O型環(huán)置于所述第一部件中的三角形形狀的凹槽中。
13.根據(jù)權(quán)利要求1-12中的任一項所述的適配器,其特征在于,所述適配器進一步包括至少一個對準螺釘,其構(gòu)造成使所述第一部件圍繞所述第一軸線旋轉(zhuǎn)和/或使所述第二部件圍繞所述第二軸線旋轉(zhuǎn)。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





