[發(fā)明專利]一種金屬輥狀模具的制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010650780.X
• 申請(qǐng)日: 2020-07-08
• 公開（公告）號(hào): CN111679555A
• 公開（公告）日: 2020-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 易偉華;張迅;劉明禮;孫如;侯大剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江西沃格光電股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/00
• 分類號(hào): G03F7/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 李曉光

本發(fā)明提供了一種金屬輥狀模具的制備方法，包括：提供一待處理金屬輥；在所述待處理金屬輥上涂覆光刻膠；控制曝光光源、掩膜板和所述待處理金屬輥的空間位置狀態(tài)，對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光處理；進(jìn)行顯影操作，形成具有預(yù)設(shè)紋理圖案的光刻膠模型；依據(jù)所述光刻膠模型，對(duì)所述待處理金屬輥進(jìn)行蝕刻處理。該制備方法簡單，且可以實(shí)現(xiàn)更多紋理圖案的制作，并且可以大批量生產(chǎn)，提高生產(chǎn)效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及圖形化制作技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種金屬輥狀模具的制備方法。

背景技術(shù)

目前用于R2R UV轉(zhuǎn)印的金屬輥狀模具現(xiàn)階段最主要的制備方式有兩種，其一：CNC雕刻的方式，采用鉆石刀頭直接在金屬輥上雕刻出想要的模具紋理；其二：平板模具貼金屬棍的方式，通過光刻制備平板模具，再用電鑄法復(fù)制成鎳平板，最后再貼合至金屬棍上。

但是，第一種制備方式僅僅只能制備一些紋理簡單的模具，例如對(duì)于單條紋理寬度逐漸變化的模具，則無法通過CNC雕刻的方式加工，并且，單個(gè)模具的加工時(shí)間很長，也無法實(shí)現(xiàn)大批量制程。

第二種制備方式其制備流程較長，且貼合的方式會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)品良率較低，并且，鎳板模具貼合至金屬輥之后會(huì)留有板縫，影響模具生產(chǎn)使用。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，為解決上述問題，本發(fā)明提供一種金屬輥狀模具的制備方法，技術(shù)方案如下：

一種金屬輥狀模具的制備方法，所述制備方法包括：

提供一待處理金屬輥；

在所述待處理金屬輥上涂覆光刻膠；

控制曝光光源、掩膜板和所述待處理金屬輥的空間位置狀態(tài)，對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光處理；

進(jìn)行顯影操作，形成具有預(yù)設(shè)紋理圖案的光刻膠模型；

依據(jù)所述光刻膠模型，對(duì)所述待處理金屬輥進(jìn)行蝕刻處理。

可選的，在上述制備方法中，所述光刻膠為正性光刻膠或負(fù)性光刻膠。

可選的，在上述制備方法中，在所述待處理金屬輥上涂覆光刻膠之后，所述制備方法還包括：

對(duì)所述光刻膠進(jìn)行烘烤處理。

可選的，在上述制備方法中，所述控制曝光光源、掩膜板和所述待處理金屬輥的空間位置狀態(tài)，對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光處理，包括：

控制所述曝光光源的空間位置固定不變；

控制所述掩膜板進(jìn)行水平移動(dòng)；

控制所述待處理金屬輥的空間位置固定不變，且控制所述待處理金屬輥以中心軸進(jìn)行圓周運(yùn)動(dòng)。

可選的，在上述制備方法中，所述掩膜板勻速進(jìn)行水平移動(dòng)，且速度與所述待處理金屬輥旋轉(zhuǎn)的線速度相同。

可選的，在上述制備方法中，所述控制曝光光源、掩膜板和所述待處理金屬輥的空間位置狀態(tài)，對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光處理，包括：

控制所述掩膜板的空間位置固定不變；

控制所述曝光光源和所述待處理金屬輥，沿著相同的方向進(jìn)行水平移動(dòng)；

在所述待處理金屬輥的水平移動(dòng)過程中，控制所述待處理金屬輥以中心軸進(jìn)行圓周運(yùn)動(dòng)。

可選的，在上述制備方法中，所述曝光光源和所述待處理金屬輥均以勻速進(jìn)行水平移動(dòng)，且速度相同；

所述待處理金屬輥旋轉(zhuǎn)的線速度與所述待處理金屬輥的水平移動(dòng)速度相同。

可選的，在上述制備方法中，所述待處理金屬輥旋轉(zhuǎn)的線速度為所述待處理金屬輥上光刻膠的表面線速度。