[發(fā)明專利]一種金屬輥狀模具的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010650780.X | 申請日: | 2020-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN111679555A | 公開(公告)日: | 2020-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 易偉華;張迅;劉明禮;孫如;侯大剛 | 申請(專利權(quán))人: | 江西沃格光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 李曉光 |
| 地址: | 338004 江西省新余*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金屬 模具 制備 方法 | ||
1.一種金屬輥狀模具的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:
提供一待處理金屬輥;
在所述待處理金屬輥上涂覆光刻膠;
控制曝光光源、掩膜板和所述待處理金屬輥的空間位置狀態(tài),對所述光刻膠進(jìn)行曝光處理;
進(jìn)行顯影操作,形成具有預(yù)設(shè)紋理圖案的光刻膠模型;
依據(jù)所述光刻膠模型,對所述待處理金屬輥進(jìn)行蝕刻處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述光刻膠為正性光刻膠或負(fù)性光刻膠。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,在所述待處理金屬輥上涂覆光刻膠之后,所述制備方法還包括:
對所述光刻膠進(jìn)行烘烤處理。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述控制曝光光源、掩膜板和所述待處理金屬輥的空間位置狀態(tài),對所述光刻膠進(jìn)行曝光處理,包括:
控制所述曝光光源的空間位置固定不變;
控制所述掩膜板進(jìn)行水平移動;
控制所述待處理金屬輥的空間位置固定不變,且控制所述待處理金屬輥以中心軸進(jìn)行圓周運動。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述掩膜板勻速進(jìn)行水平移動,且速度與所述待處理金屬輥旋轉(zhuǎn)的線速度相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述控制曝光光源、掩膜板和所述待處理金屬輥的空間位置狀態(tài),對所述光刻膠進(jìn)行曝光處理,包括:
控制所述掩膜板的空間位置固定不變;
控制所述曝光光源和所述待處理金屬輥,沿著相同的方向進(jìn)行水平移動;
在所述待處理金屬輥的水平移動過程中,控制所述待處理金屬輥以中心軸進(jìn)行圓周運動。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述曝光光源和所述待處理金屬輥均以勻速進(jìn)行水平移動,且速度相同;
所述待處理金屬輥旋轉(zhuǎn)的線速度與所述待處理金屬輥的水平移動速度相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求5或7所述的制備方法,其特征在于,所述待處理金屬輥旋轉(zhuǎn)的線速度為所述待處理金屬輥上光刻膠的表面線速度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述待處理金屬輥旋轉(zhuǎn)的線速度為所述待處理金屬輥半徑和所述光刻膠厚度之和,與預(yù)設(shè)角速度的乘積。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述制備方法還包括:
去除所述光刻膠模型。
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