[發明專利]一種利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法在審
| 申請號： | 202010650608.4 | 申請日： | 2020-07-08 |
| 公開（公告）號： | CN111781218A | 公開（公告）日： | 2020-10-16 |
| 發明（設計）人： | 李光來;尹曉燕;宋炎;劉小波;蘇曄;龍偉康 | 申請（專利權）人： | 東華理工大學 |
| 主分類號： | G01N23/00 | 分類號： | G01N23/00;G01N21/84 |
| 代理公司： | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人： | 周敏 |
| 地址： | 330013 江西*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 徑跡 蝕刻 定位 礦石 礦物 方法 | ||
1.一種利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法，其特征在于：包括如下步驟：
(1)將礦石制備成探針片；
(2)去除相機膠片表面的薄膜；
(3)將步驟(2)處理后的相機膠片覆蓋在步驟(1)制得的探針片上，然后進行輻照；
(4)將步驟(3)輻照后的相機膠片自所述的探針片上取下，然后用蝕刻溶液進行蝕刻，再進行清洗；
(5)將步驟(4)清洗后的相機膠片在光學顯微鏡下尋找蝕刻密集點并進行標記；
(6)根據步驟(5)標記后的相機膠片上的蝕刻密集點在所述的探針片的相應位置上進行標記，然后利用探測儀器對所述探針片上的標記處的礦物成分進行分析以確認礦物種類。
2.根據權利要求1所述的利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法，其特征在于：所述的礦物為鈾的氧化物的質量含量≤1％的礦物、或釷的氧化物的質量含量≤1％的礦物、或鈾的氧化物和釷的氧化物的總質量含量≤1％的礦物。
3.根據權利要求1所述的利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法，其特征在于：所述的礦物的結晶粒度為2～100μm。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法，其特征在于：所述的礦物為富鎢礦物和/或含稀有稀土金屬礦物。
5.根據權利要求1所述的利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法，其特征在于：控制步驟(3)的輻照時間為25～30天。
6.根據權利要求1所述的利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法，其特征在于：步驟(4)中采用的蝕刻溶液包括5～15wt％的KOH、10～20wt％的NaOH、2～5wt％的KMnO4以及70～80wt％的水。
7.根據權利要求6所述的利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法，其特征在于：步驟(4)中采用的蝕刻溶液包括6～9wt％的KOH、12～16wt％的NaOH、3～4.5wt％的KMnO4以及72～78wt％的水。
8.根據權利要求1所述的利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法，其特征在于：步驟(4)中，進行所述的蝕刻的溫度為60～65℃，蝕刻時間為50～70min。
9.根據權利要求1所述的利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法，其特征在于：所述的探測儀器包括探針、掃描電鏡中的一種或多種。
10.根據權利要求1所述的利用α徑跡蝕刻定位礦石中礦物的方法，其特征在于：步驟(6)中進行定性分析的方法包括對所述的探針片的標記處進行噴碳或噴金后，利用掃描電鏡對標記處的礦物開展能譜分析，篩選出所述礦物并標記，同時采集所述礦物的背散射電子圖像。
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