[發(fā)明專利]一種曝光方法及曝光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010647419.1
• 申請日: 2020-07-07
• 公開（公告）號: CN113900356B
• 公開（公告）日: 2023-03-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周曉方
• 申請（專利權(quán)）人: 長鑫存儲技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海晨皓知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

本發(fā)明公開了一種曝光方法及曝光裝置。所述曝光方法包括：提取當前晶圓組中各晶圓的首層圖形或前層圖形的曝光規(guī)則，曝光規(guī)則包括晶圓編號與承載臺的對應關(guān)系；根據(jù)當前晶圓組中各晶圓的當層圖形的實際曝光信息，獲取當前晶圓組內(nèi)的至少一個空缺晶圓的編號；剔除當層圖形的曝光規(guī)則中的至少一個空缺晶圓的編號，將同一承載臺對應的排列順序后于各空缺晶圓的編號的晶圓編號依次前移，補齊編號空缺位，以獲得當層圖形的曝光規(guī)則；根據(jù)當層圖形的曝光規(guī)則對當前晶圓組中各晶圓的當層圖形進行曝光。本發(fā)明實施例的技術(shù)方案，避免了承載臺出現(xiàn)空載的情況，提升了曝光機的產(chǎn)能。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明實施例涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種曝光方法及曝光裝置。

背景技術(shù)

曝光機能夠?qū)⒐庋谀ぐ嫔系膱D案投影于涂有光刻膠的基板上，以便后續(xù)經(jīng)過顯影和刻蝕工藝對基板上的膜層進行圖形化。目前曝光機已廣泛應用于集成電路制造領(lǐng)域。

現(xiàn)有技術(shù)中曝光機按照預先設(shè)定的順序依次曝光晶圓組中的各晶圓，當晶圓組中出現(xiàn)空缺晶圓時，空缺晶圓對應的曝光機的承載臺上并沒有晶圓被曝光，導致曝光機的有效曝光時長變短，單位時間內(nèi)曝光的晶圓數(shù)量減少，曝光機產(chǎn)能下降。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種曝光方法及曝光裝置，以提高曝光機產(chǎn)能。

第一方面，本發(fā)明實施例提供了一種曝光方法，采用曝光機執(zhí)行，所述曝光機包括第一承載臺和第二承載臺，所述第一承載臺和所述第二承載臺交替工作，所述曝光方法包括：

提取當前晶圓組中各晶圓的首層圖形或前層圖形的曝光規(guī)則，所述曝光規(guī)則包括晶圓編號與承載臺的對應關(guān)系，其中，所述晶圓編號的排列順序標識對應晶圓的曝光順序；

根據(jù)所述當前晶圓組中各晶圓的當層圖形的實際曝光信息，獲取所述當前晶圓組內(nèi)的至少一個空缺晶圓的編號；

剔除所述當層圖形的曝光規(guī)則中的所述至少一個空缺晶圓的編號，將同一承載臺對應的排列順序后于各所述空缺晶圓的編號的晶圓編號依次前移，補齊編號空缺位，以獲得當層圖形的曝光規(guī)則；

根據(jù)所述當層圖形的曝光規(guī)則對所述當前晶圓組中各晶圓的當層圖形進行曝光。

第二方面，本發(fā)明實施例還提供了一種曝光裝置，包括：

規(guī)則提取模塊，用于提取當前晶圓組中各晶圓的首層圖形或前層圖形的曝光規(guī)則，所述曝光規(guī)則包括晶圓編號與承載臺的對應關(guān)系，其中，所述晶圓編號的排列順序標識對應晶圓的曝光順序；

編號獲取模塊，用于根據(jù)所述當前晶圓組中各晶圓的當層圖形的實際曝光信息，獲取所述當前晶圓組內(nèi)的至少一個空缺晶圓的編號；

規(guī)則獲得模塊，用于剔除所述當層圖形的曝光規(guī)則中的所述至少一個空缺晶圓的編號，將同一承載臺對應的排列順序后于各所述空缺晶圓的編號的晶圓編號依次前移，補齊編號空缺位，以獲得當層圖形的曝光規(guī)則；

曝光執(zhí)行模塊，用于根據(jù)所述當層圖形的曝光規(guī)則對所述當前晶圓組中各晶圓的當層圖形進行曝光。

本發(fā)明實施例的技術(shù)方案，通過提取當前晶圓組中各晶圓的首層圖形或前層圖形的曝光規(guī)則，曝光規(guī)則包括晶圓編號與承載臺的對應關(guān)系，其中，晶圓編號的排列順序標識對應晶圓的曝光順序，根據(jù)當前晶圓組中各晶圓的當層圖形的實際曝光信息，獲取當前晶圓組內(nèi)的至少一個空缺晶圓的編號，剔除當層圖形的曝光規(guī)則中的至少一個空缺晶圓的編號，將同一承載臺對應的排列順序后于各空缺晶圓的編號的晶圓編號依次前移，補齊編號空缺位，以獲得當層圖形的曝光規(guī)則，根據(jù)當層圖形的曝光規(guī)則對當前晶圓組中各晶圓的當層圖形進行曝光，使得存在空缺晶圓時，同一承載臺中位于空缺晶圓之后的各晶圓依次提前曝光，避免了該承載臺出現(xiàn)空載的情況，進而提升了曝光機的產(chǎn)能。

附圖說明

通過閱讀參照以下附圖所作的對非限制性實施例所作的詳細描述，本發(fā)明的其它特征、目的和優(yōu)點將會變得更明顯：