[發(fā)明專利]一種曝光方法及曝光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010647419.1
• 申請(qǐng)日: 2020-07-07
• 公開（公告）號(hào): CN113900356B
• 公開（公告）日: 2023-03-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周曉方
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 上海晨皓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

1.一種曝光方法，采用曝光機(jī)執(zhí)行，所述曝光機(jī)包括第一承載臺(tái)和第二承載臺(tái)，所述第一承載臺(tái)和所述第二承載臺(tái)交替工作，其特征在于，所述曝光方法包括：

提取當(dāng)前晶圓組中各晶圓的首層圖形或前層圖形的曝光規(guī)則，所述曝光規(guī)則包括晶圓編號(hào)與承載臺(tái)的對(duì)應(yīng)關(guān)系，其中，所述晶圓編號(hào)的排列順序標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)晶圓的曝光順序；

根據(jù)所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形的實(shí)際曝光信息，獲取所述當(dāng)前晶圓組內(nèi)的至少一個(gè)空缺晶圓的編號(hào)；

剔除所述當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則中的所述至少一個(gè)空缺晶圓的編號(hào)，將同一承載臺(tái)對(duì)應(yīng)的排列順序后于各所述空缺晶圓的編號(hào)的晶圓編號(hào)依次前移，補(bǔ)齊編號(hào)空缺位，以獲得當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則，使得對(duì)所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓進(jìn)行曝光時(shí)，所述第一承載臺(tái)和所述第二承載臺(tái)一直交替工作，其中，所述同一承載臺(tái)對(duì)應(yīng)的排列順序?yàn)榕c所述至少一個(gè)空缺晶圓對(duì)應(yīng)的所述同一承載臺(tái)中所述晶圓的排列順序；

根據(jù)所述當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則對(duì)所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形進(jìn)行曝光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其特征在于，根據(jù)所述當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則對(duì)所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形進(jìn)行曝光包括：

按照所述當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則中的晶圓編號(hào)的排列順序，依次抽取晶圓盒中對(duì)應(yīng)的晶圓交替放置于所述第一承載臺(tái)和所述第二承載臺(tái)上進(jìn)行當(dāng)層圖形的曝光。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光方法，其特征在于，根據(jù)所述當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則對(duì)所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形進(jìn)行曝光之前，還包括：

按照所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓的編號(hào)從小到大的順序，將所述當(dāng)前晶圓組中的各晶圓依次放置于所述晶圓盒內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其特征在于，根據(jù)所述當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則對(duì)所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形進(jìn)行曝光之后，還包括：

判斷下一晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形對(duì)應(yīng)的曝光條件與所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形對(duì)應(yīng)的曝光條件是否相同；

若是，則根據(jù)當(dāng)前晶圓組中最后曝光的晶圓對(duì)應(yīng)的承載臺(tái)信息以及所述下一晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則，形成所述下一晶圓組的當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則，并按照下一晶圓組的當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則對(duì)所述下一晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形進(jìn)行曝光。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光條件包括光掩膜版的編號(hào)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其特征在于，同一承載臺(tái)對(duì)應(yīng)的晶圓編號(hào)依次增大；

所述首層圖形或前層圖形的曝光規(guī)則中交替設(shè)置的所述第一承載臺(tái)對(duì)應(yīng)的晶圓編號(hào)和所述第二承載臺(tái)對(duì)應(yīng)的晶圓編號(hào)依次增大。

7.一種曝光裝置，其特征在于，包括：

規(guī)則提取模塊，用于提取當(dāng)前晶圓組中各晶圓的首層圖形或前層圖形的曝光規(guī)則，所述曝光規(guī)則包括晶圓編號(hào)與承載臺(tái)的對(duì)應(yīng)關(guān)系，其中，所述晶圓編號(hào)的排列順序標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)晶圓的曝光順序；

編號(hào)獲取模塊，用于根據(jù)所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形的實(shí)際曝光信息，獲取所述當(dāng)前晶圓組內(nèi)的至少一個(gè)空缺晶圓的編號(hào)；

規(guī)則獲得模塊，用于剔除所述當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則中的所述至少一個(gè)空缺晶圓的編號(hào)，將同一承載臺(tái)對(duì)應(yīng)的排列順序后于各所述空缺晶圓的編號(hào)的晶圓編號(hào)依次前移，補(bǔ)齊編號(hào)空缺位，以獲得當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則，使得對(duì)所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓進(jìn)行曝光時(shí)，第一承載臺(tái)和第二承載臺(tái)一直交替工作，其中，所述同一承載臺(tái)對(duì)應(yīng)的排列順序?yàn)榕c所述至少一個(gè)空缺晶圓對(duì)應(yīng)的所述同一承載臺(tái)中所述晶圓的排列順序；

曝光執(zhí)行模塊，用于根據(jù)所述當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則對(duì)所述當(dāng)前晶圓組中各晶圓的當(dāng)層圖形進(jìn)行曝光。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，曝光執(zhí)行模塊具體用于：

按照所述當(dāng)層圖形的曝光規(guī)則中的晶圓編號(hào)的排列順序，依次抽取晶圓盒中對(duì)應(yīng)的晶圓交替放置于第一承載臺(tái)和第二承載臺(tái)上進(jìn)行當(dāng)層圖形的曝光。