[發(fā)明專利]發(fā)光器件、包括其的顯示設(shè)備、及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010640435.8 | 申請日: | 2020-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN112186113A | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李熙在;金星祐;張銀珠;丁大榮;韓文奎 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 金擬粲 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 器件 包括 顯示 設(shè)備 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明涉及發(fā)光器件、包括其的顯示設(shè)備、及其制造方法。發(fā)光器件包括:第一電極和具有面向所述第一電極的表面的第二電極;設(shè)置在所述第一電極和所述第二電極之間并且包括量子點(例如,多個量子點)的發(fā)射層;以及設(shè)置在所述發(fā)射層和所述第二電極之間的電子輔助層。所述電子輔助層包括包含第一金屬氧化物的第一層、和設(shè)置在所述第一層上并且包括第二金屬氧化物的第二層。當(dāng)通過電子顯微鏡法分析測定時,所述第二層和所述第二電極之間的界面的粗糙度小于約10nm。所述第二層的導(dǎo)帶底能級與所述第二電極的功函之間的差的絕對值可小于或等于約0.5eV,和所述第一層的導(dǎo)帶底能級可小于所述第二層的導(dǎo)帶底能級。
對相關(guān)申請的交叉引用
本申請要求2019年7月5日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的韓國專利申請No.10-2019-0081628的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益、以及由其產(chǎn)生的所有權(quán)益,將其全部內(nèi)容通過引用引入本文中。
技術(shù)領(lǐng)域
公開了發(fā)光器件和顯示設(shè)備。
背景技術(shù)
與塊體材料不同,納米顆粒的固有物理特性(例如,能帶隙或熔點)可通過改變納米顆粒的尺寸而改變。量子點可呈現(xiàn)出電致發(fā)光和光致發(fā)光性質(zhì)。例如,也稱作量子點的半導(dǎo)體納米晶體顆粒如果被置于激發(fā)能態(tài)下、例如在來自光源的照射的情況下或在電能例如施加的電流下,可發(fā)射與量子點的尺寸對應(yīng)的波長的光。
因此,量子點可用作可發(fā)射特定波長的光的發(fā)光元件,并且是當(dāng)前令人感興趣的。
發(fā)明內(nèi)容
關(guān)于使用量子點作為發(fā)光器件中的發(fā)光元件的研究正在進(jìn)行并且是令人非常感興趣的。本文中公開了開發(fā)量子點和對使用具有改善性能的量子點的發(fā)光器件的設(shè)計改進(jìn)。
實施方式提供具有改善的性能的發(fā)光器件。
實施方式提供包括所述發(fā)光器件的電子設(shè)備。
根據(jù)實施方式,發(fā)光器件包括:第一電極和具有面對所述第一電極的表面的第二電極;
設(shè)置在所述第一電極和所述第二電極之間并且包括量子點(例如,多個量子點)的發(fā)射層;以及
以及設(shè)置在所述發(fā)射層和所述第二電極之間的電子輔助層,
其中所述電子輔助層包括靠近所述發(fā)射層并且包括第一金屬氧化物的第一層、和設(shè)置在所述第一層上并且靠近所述第二電極的第二層,所述第二層包括第二金屬氧化物,
其中當(dāng)通過電子顯微鏡法分析測定時,所述第二層(例如,直接設(shè)置在所述第二電極的表面上的第二層的相對表面)和所述第二電極的表面之間的界面的粗糙度小于約10納米(nm)。
在實施方式中,所述第二層的導(dǎo)帶底能級(導(dǎo)帶邊緣能級,conduction band edgeenergy level)與所述第二電極的功函之間的差的絕對值可小于或等于約0.5電子伏特(eV)。
在實施方式中,所述第一層的導(dǎo)帶底能級可小于所述第二層的導(dǎo)帶底能級。
在實施方式中,所述第二層的導(dǎo)帶底能級可大于所述第二電極的功函。
在實施方式中,所述第二金屬氧化物或第二層的能帶隙可小于或等于約3.5eV、小于或等于約3.4eV、小于或等于約3.35eV、或者小于或等于約3.3eV。
在實施方式中,所述第二金屬氧化物或第二層的能帶隙可大于或等于約3.0eV、大于或等于約3.1eV、或者大于或等于約3.2eV。
所述第二層的導(dǎo)帶底能級與所述第二電極的功函之間的差的絕對值小于或等于約0.3eV。
所述第二層的導(dǎo)帶底能級與所述第二電極的功函之間的差的絕對值小于或等于約0.1eV。
所述發(fā)射層可不包括鎘、鉛、汞、或其組合。所述發(fā)射層可不包括鎘。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
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H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





