[發明專利]一種真空濺射鍍膜生產系統

有效

• 申請號: 202010633426.6
• 申請日: 2020-07-02
• 公開（公告）號: CN111607774B
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: 韓陽;賈祥文;李均平;黃彩連;張海軍;鄒健
• 申請（專利權）人: 蘇州銳世訊光學科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 蘇州彰尚知識產權代理事務所(普通合伙) 32336
• 代理人: 趙成磊

為了解決如何穩定控制鍍膜設備的真空度的問題，本發明提出一種真空濺射鍍膜生產系統，第一預真空室201和第三過渡室207先用滑閥泵209進行抽真空處理，隨后啟動第四羅茨泵208進行更高真空度的抽取，基片架隨著工作軌道218依次通過第一預真空室201、第二預真空室202、第一鍍膜室203、第一過渡室204、第二鍍膜室205、第二過渡室206和第三過渡室207，進行基片的鍍膜，隨后從卸料口42出來進入卸料區4后隨著傳輸軌道3進入進料區1進行上料后進入工作區20的進料口12進行下一次的鍍膜，濺射鍍膜生產系統的結構簡單，自動化程度高，保證了鍍膜設備的真空度的的穩定性。

技術領域

本發明涉及濺射鍍膜技術領域，較為具體的，涉及到一種真空濺射鍍膜生產系統。

背景技術

目前，真空磁控濺射鍍膜機是對金屬、玻璃和塑料表面進行鍍膜的專用設備，其可適用于鍍制耐磨損的涂層。現有技術的真空磁控濺射鍍膜機，包括真空抽氣系統、真空室、真空室的進料口、設置在真空室中的工件轉架以及設置在真空室體上的磁控濺射裝置，可利用物理氣相沉積(以下簡稱

“PVD”)技術在工件表面沉積一層幾個微米薄的金屬層。隨著生活水平的提高，人們對于具有更加廣泛用途和性能的涂層需求也越來越大。

目前的鍍膜設備采用雙面鍍膜的方式，設備有正反兩面區分，設備兩邊同時裝有靶材，且裝載基片架也分正反兩面，在鍍膜過程中，在基片架的正反面分別轉載基片，鍍膜時裝有基片的基片架在真空室內行走，基片架經過靶區通過磁控濺射的方式進行鍍膜，這種方式對抽真空的要求會很高，真空鍍膜時，真空度一般在10的負3次方左右，真空度大小是真空鍍膜時必須嚴格要求的指標之一，它對鍍膜產品的顏色、耐磨性、牢固度有直接的關系，如何穩定控制鍍膜設備的真空度成了當下需要解決的問題。

發明內容

有鑒于此，為了解決如何穩定控制鍍膜設備的真空度的問題，本發明提出一種真空濺射鍍膜生產系統，第一預真空室201和第三過渡室207先用滑閥泵209進行抽真空處理，隨后啟動第四羅茨泵208進行更高真空度的抽取，基片架隨著工作軌道218依次通過第一預真空室201、第二預真空室202、第一鍍膜室203、第一過渡室204、第二鍍膜室205、第二過渡室206和第三過渡室207，進行基片的鍍膜，隨后從卸料口42出來進入卸料區4后隨著傳輸軌道3進入進料區1進行上料后進入工作區20的進料口12進行下一次的鍍膜，濺射鍍膜生產系統的結構簡單，自動化程度高，保證了鍍膜設備的真空度的的穩定性。

一種真空濺射鍍膜生產系統，其特征在于：包括依次連通的進料區1、工作區20和卸料區4，工作區20依據鍍膜工藝流程方向依次包括第一預真空室201、第二預真空室202、第一鍍膜室203、第一過渡室204、第二鍍膜室205、第二過渡室206和第三過渡室207，工作區20各室均具備所需真空環境，所述各室通過密封裝置分隔，第一預真空室201和第三過渡室207外分別依次連接第四羅茨泵208和滑閥泵209，通過第四羅茨泵208和滑閥泵209對第一預真空室201和第三過渡室207進行抽真空處理，第二預真空室202外連接有第一擴散泵221，第一過渡室204、第一鍍膜室203、第二過渡室206和第二鍍膜室205外均分別連接兩個第二擴散泵210，第一擴散泵221的自由端依次連接有第一羅茨泵211和第一旋片泵212，第二過渡室206和第一鍍膜室203外的四個第二擴散泵210的自由端一起連接有第二羅茨泵213和第二旋片泵214，第二過渡室206和第二鍍膜室205外的四個第二擴散泵210的自由端一起連接有第三羅茨泵215和第三旋片泵216，所述第一過渡室204和第二過渡室206室外連接的管道上設有真空檢測機構5和PLC控制系統6，所述真空檢測機構5包括第一真空規51、第二真空規52和第三真空規53，所述第一真空規51、第二真空規52和第三真空規53分別與PLC控制系統6的信號輸入端連接，工作區20內部設有工作軌道218，卸料區4的一側設有卸料口42和鍍膜機輸入口219，進料區1設有進料口12和出架口220，鍍膜機輸入口219和進料口12通過真空鍍膜機的工作軌道218連接，出架口220和卸料口42通過傳輸軌道3連接。