[發明專利]一種真空濺射鍍膜生產系統

有效

• 申請號: 202010633426.6
• 申請日: 2020-07-02
• 公開（公告）號: CN111607774B
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: 韓陽;賈祥文;李均平;黃彩連;張海軍;鄒健
• 申請（專利權）人: 蘇州銳世訊光學科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 蘇州彰尚知識產權代理事務所(普通合伙) 32336
• 代理人: 趙成磊

1.一種真空濺射鍍膜生產系統，其特征在于：包括依次連通的進料區(1)、工作區(20)和卸料區(4)，工作區(20)依據鍍膜工藝流程方向依次包括第一預真空室(201)、第二預真空室(202)、第一鍍膜室(203)、第一過渡室(204)、第二鍍膜室(205)、第二過渡室(206)和第三過渡室(207)，工作區(20)各室均具備所需真空環境，所述各室通過密封裝置分隔，第一預真空室(201)和第三過渡室(207)外分別依次連接第四羅茨泵(208)和滑閥泵(209)，通過第四羅茨泵(208)和滑閥泵(209)對第一預真空室(201)和第三過渡室(207)進行抽真空處理，第二預真空室(202)外連接有第一擴散泵(221)，第一過渡室(204)、第一鍍膜室(203)、第二過渡室(206)和第二鍍膜室(205)外均分別連接兩個第二擴散泵(210)，第一擴散泵(221)的自由端依次連接有第一羅茨泵(211)和第一旋片泵(212)，第二過渡室(206)和第一鍍膜室(203)外的四個第二擴散泵(210)的自由端一起連接有第二羅茨泵(213)和第二旋片泵(214)，第二過渡室(206)和第二鍍膜室(205)外的四個第二擴散泵(210)的自由端一起連接有第三羅茨泵(215)和第三旋片泵(216)，所述第一過渡室(204)和第二過渡室(206)室外連接的管道上設有真空檢測機構(5)和PLC控制系統(6)，所述真空檢測機構(5)包括第一真空規(51)、第二真空規(52)和第三真空規(53)，所述第一真空規(51)、第二真空規(52)和第三真空規(53)分別與PLC控制系統(6)的信號輸入端連接，工作區(20)內部設有工作軌道(218)，卸料區(4)的一側設有卸料口(42)和鍍膜機輸入口(219)，進料區(1)設有進料口(12)和出架口(220)，鍍膜機輸入口(219)和進料口(12)通過真空鍍膜機的工作軌道(218)連接，出架口(220)和卸料口(42)通過傳輸軌道(3)連接；第一預真空室(201)的真空度與第三過渡室(207)的真空度相同，第二預真空室(202)、第二過渡室(206)、第一鍍膜室(203)、第一過渡室(204)和第二鍍膜室(205)的真空度相同；第一預真空室(201)和第三過渡室(207)的真空度小于第二預真空室(202)、第二過渡室(206)、第一鍍膜室(203)、第一過渡室(204)和第二鍍膜室(205)的真空度。

2.如權利要求1所述的真空濺射鍍膜生產系統，其特征在于：卸料區(4)內設有卸料系統(41)，卸料系統(41)包括兩相互平行的第一平移軌道(411)和第一平移架(412)。

3.如權利要求1所述的真空濺射鍍膜生產系統，其特征在于：進料區(1)內設有上料系統(11)，上料系統(11)包括兩相互平行的第二平移軌道(111)和第二平移架(112)。

4.如權利要求1所述的真空濺射鍍膜生產系統，其特征在于：第一鍍膜室(203)和第二鍍膜室(205)的兩邊均設有對稱的兩個靶材(217)。

5.如權利要求1所述的真空濺射鍍膜生產系統，其特征在于：傳輸軌道(3)包括兩條相互平行的鋼軌(31)和設置在鋼軌(31)下方的控制柜，鋼軌(31)由數條矩形鋼條(311)首尾連接組成，相對的兩條鋼條(311)的端口均設有支撐桿(32)，靠近真空鍍膜機的鋼條(311)的外側壁設有限位條(33)，限位條(33)的長度與鋼軌(31)的長度相同且限位條(33)固定在控制柜的上方。

6.如權利要求5所述的真空濺射鍍膜生產系統，其特征在于：遠離真空鍍膜機的鋼條(311)的外側壁設有數個光電感應器(7)，光電感應器(7)與控制柜中的控制器電性連接。

7.如權利要求1所述的真空濺射鍍膜生產系統，其特征在于：傳輸軌道(3)內部間隔設有輸送齒輪(34)，輸送齒輪(34)與機片架的條齒配合運動。

8.如權利要求1所述的真空濺射鍍膜生產系統，其特征在于：工作區(20)室外上裝有檢測機構(8)。