[發(fā)明專利]一種真空濺射鍍膜及其工藝

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010633421.3
• 申請(qǐng)日: 2020-07-02
• 公開（公告）號(hào): CN111607773A
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李均平;賈祥文;韓陽;張威;鄒健
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州銳世訊光學(xué)科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/14;C23C14/08;C23C14/54
• 代理公司: 蘇州彰尚知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32336
• 代理人: 趙成磊

一種真空濺射鍍膜及其工藝，包括基片和鍍膜機(jī)，鍍膜機(jī)內(nèi)設(shè)有鍍膜靶材，鍍膜靶材包括：Si、ITO和Li₂O，真空濺射鍍膜的步驟包括：Step1:檢測(cè)真空度，符合檢測(cè)要求后開啟鍍膜靶材對(duì)基片進(jìn)行鍍膜；Step2:同時(shí)開啟AE電源，電源的輸出端連接有鍍膜靶材，通過調(diào)節(jié)AE電源的電流大小來控制鍍膜產(chǎn)品上的鍍膜結(jié)構(gòu)的厚度，電流越大則鍍膜結(jié)構(gòu)厚度越厚，電流越小則鍍膜結(jié)構(gòu)厚度越薄；Step3用透過率儀檢測(cè)鍍膜結(jié)構(gòu)厚度，達(dá)到鍍膜結(jié)構(gòu)厚度要求后停止調(diào)節(jié)電流，最后得到鍍膜成品。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，較為具體的，涉及到一種真空濺射鍍膜及其工藝。

背景技術(shù)

目前，真空磁控濺射鍍膜機(jī)是對(duì)金屬、玻璃和塑料表面進(jìn)行鍍膜的專用設(shè)備，其可適用于鍍制耐磨損的涂層。現(xiàn)有技術(shù)的真空磁控濺射鍍膜機(jī)，包括真空抽氣系統(tǒng)、真空室、真空室的進(jìn)料口220、設(shè)置在真空室中的工件轉(zhuǎn)架以及設(shè)置在真空室體上的磁控濺射裝置，可利用物理氣相沉積(以下簡(jiǎn)稱“PVD”)技術(shù)在工件表面沉積一層幾個(gè)微米薄的金屬層。隨著生活水平的提高，人們對(duì)于具有更加廣泛用途和性能的涂層需求也越來越大。

目前鍍膜產(chǎn)品根據(jù)客戶需求需要做到多層膜結(jié)構(gòu)，一般多層膜結(jié)構(gòu)需要反復(fù)的調(diào)節(jié)每層膜的厚度來達(dá)到客戶所需要的要求，如何簡(jiǎn)單便捷的控制膜層厚度是當(dāng)下需要解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，為了解決如何簡(jiǎn)單便捷的控制膜層厚度的問題上述的問題，本發(fā)明提出真空濺射鍍膜及其工藝，將需要鍍膜產(chǎn)品放置在機(jī)片架上進(jìn)入真空鍍膜室進(jìn)行抽真空處理，通過AE電源控制電流大小拉力控制每層膜的厚度。

一種真空濺射鍍膜及其工藝，包括基片4和鍍膜機(jī)，鍍膜機(jī)內(nèi)設(shè)有鍍膜靶材，鍍膜靶材包括：Si、ITO和Li₂O，真空濺射鍍膜的步驟包括：

Step1:檢測(cè)真空度，符合檢測(cè)要求后開啟鍍膜靶材對(duì)基片4進(jìn)行鍍膜；

Step2:同時(shí)開啟AE電源，電源的輸出端連接有鍍膜靶材，通過調(diào)節(jié)AE

電源的電流大小來控制鍍膜產(chǎn)品上的鍍膜結(jié)構(gòu)的厚度，電流越大則鍍膜結(jié)構(gòu)厚度越厚，電流越小則鍍膜結(jié)構(gòu)厚度越薄；

Step3:用透過率儀檢測(cè)鍍膜結(jié)構(gòu)厚度，達(dá)到鍍膜結(jié)構(gòu)厚度要求后停止調(diào)節(jié)電流，最后得到鍍膜成品。

進(jìn)一步的，鍍膜成品為三層鍍膜結(jié)構(gòu)時(shí)，鍍膜成品由外到內(nèi)依次為：Si層膜結(jié)構(gòu)1、ITO層膜結(jié)構(gòu)2和Li2O層膜結(jié)構(gòu)3，Si層膜結(jié)構(gòu)1的厚度為5nm，ITO層膜結(jié)構(gòu)2厚度為20nm，Li2O層膜結(jié)構(gòu)3的厚度為20nm。

進(jìn)一步的，鍍膜成品為二層鍍膜結(jié)構(gòu)時(shí)，鍍膜成品由外到內(nèi)依次為：Si層膜結(jié)構(gòu)1和Li2O層膜結(jié)構(gòu)3，Si層膜結(jié)構(gòu)1的厚度為10nm，Li2O層膜結(jié)構(gòu)3的厚度為40nm。

進(jìn)一步的，鍍膜成品為一層鍍膜結(jié)構(gòu)時(shí)，鍍膜成品為L(zhǎng)i2O層膜結(jié)構(gòu)3，Li2O層膜結(jié)構(gòu)3的厚度為60nm。

進(jìn)一步的，鍍膜機(jī)通過添加O₂或者Ar其中一種氣體進(jìn)行抽真空處理，一般O₂的輸入量為130CC,Ar的輸入量為400CC。

進(jìn)一步的，鍍膜機(jī)的抽真空的標(biāo)準(zhǔn)值為小于或者等于1.0*10^-3Par。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提出真空濺射鍍膜及其工藝，將需要鍍膜產(chǎn)品放置在機(jī)片架上進(jìn)入真空鍍膜室進(jìn)行抽真空處理，通過AE電源控制電流大小拉力控制每層膜的厚度，該方法簡(jiǎn)單、便捷。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的鍍膜成品的結(jié)構(gòu)示意圖。

主要元件符號(hào)說明