[發明專利]一種樣品臺柱及其制造方法在審
| 申請號： | 202010630887.8 | 申請日： | 2020-07-03 |
| 公開（公告）號： | CN111751183A | 公開（公告）日： | 2020-10-09 |
| 發明（設計）人： | 董旭林 | 申請（專利權）人： | 長江存儲科技有限責任公司 |
| 主分類號： | G01N1/28 | 分類號： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 柳虹 |
| 地址： | 430074 湖北省武漢*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 樣品 臺柱 及其 制造 方法 | ||
1.一種樣品臺柱，其特征在于，所述樣品臺柱具有一個側平面；所述樣品臺柱的頂部具有固定平面和側墻，所述側墻位于所述固定平面除所述側平面之外的其他側，所述固定平面用于固定待測芯片。
2.根據權利要求1所述的樣品臺柱，其特征在于，所述側墻位于所述固定平面的相對的兩側，或相鄰的兩側。
3.根據權利要求2所述的樣品臺柱，其特征在于，在所述側墻位于所述固定平面的相對的兩側時，所述側墻的延伸方向與所述側平面垂直，所述側墻與所述固定平面相鄰的表面為平面。
4.根據權利要求1所述的樣品臺柱，其特征在于，所述側墻包圍所述固定平面，且在所述側平面所在平面內具有開口，在所述待測芯片固定于所述固定平面內時，所述待測芯片通過所述開口暴露一側側壁。
5.根據權利要求1-4任意一項所述的樣品臺柱，其特征在于，所述固定平面所在區域內還形成有凹槽。
6.一種樣品臺柱的制造方法，其特征在于，包括：
提供樣品臺柱；所述樣品臺柱具有一個側平面；
對所述樣品臺柱的頂部進行刻蝕，以在所述樣品臺柱的頂部形成固定平面和側墻；所述側墻位于所述固定平面除所述側平面之外的其他側，所述固定平面用于固定待測芯片。
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述側墻位于所述固定平面的相對的兩側，或相鄰的兩側。
8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，在所述側墻位于所述固定平面的相對的兩側時，所述側墻的延伸方向與所述側平面垂直，所述側墻在與所述固定平面相鄰的表面為平面。
9.根據權利要求6-8任意一項所述的方法，其特征在于，還包括：
對所述固定平面進行刻蝕，以形成凹槽。
10.根據權利要求6-8任意一項所述的方法，其特征在于，所述對所述樣品臺柱的頂部進行刻蝕，采用離子刻蝕工藝。
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