[發(fā)明專利]一種耐高溫聚酰亞胺薄膜及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010630642.5 | 申請日： | 2020-07-03 |
| 公開（公告）號： | CN111704798B | 公開（公告）日： | 2022-11-15 |
| 發(fā)明（設計）人： | 金文斌 | 申請（專利權）人： | 浙江中科玖源新材料有限公司 |
| 主分類號： | C08L79/08 | 分類號： | C08L79/08;C08K9/06;C08K3/36;C08K7/00;C08J5/18;C08G73/10 |
| 代理公司： | 合肥金律專利代理事務所(普通合伙) 34184 | 代理人： | 楊霞 |
| 地址： | 321100 浙江省金華*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 耐高溫 聚酰亞胺 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種耐高溫聚酰亞胺薄膜，其特征在于，其原料包括：二胺單體、二酐單體和填料，其中，填料為氮化硼納米片和改性納米二氧化硅；
填料的含量為20-25wt％，氮化硼納米片和改性納米二氧化硅的重量比為1:0.8-1，改性納米二氧化硅為3-氨基丙基三乙氧基硅烷改性納米二氧化硅；
二胺單體為2,2’-二甲基-4,4’-二氨基聯苯胺，二酐單體為3,3’,4,4’-聯苯四酸酐；
上述耐高溫聚酰亞胺薄膜的制備方法，包括如下步驟：
S1、將氮化硼納米片、部分二胺單體與N,N-二甲基乙酰胺超聲分散均勻得到溶液1；將改性納米二氧化硅、剩余二胺單體與N,N-二甲基乙酰胺超聲分散均勻得到溶液2；
S2、在惰性氣體氛圍中，向溶液1中加入部分二酐單體，水浴室溫反應30-50min，然后加入溶液2混勻，再加入剩余二酐單體，繼續(xù)水浴室溫反應1.5-2h得到聚酰胺酸溶液；取聚酰胺酸溶液脫泡，涂覆于基板表面，然后亞胺化，冷卻至室溫，脫膜得到耐高溫聚酰亞胺薄膜；
在S1中，溶液1和溶液2中的二胺單體的重量相同；在S2中，兩次加入的二酐單體的重量相同。
2.根據權利要求1所述耐高溫聚酰亞胺薄膜，其特征在于，氮化硼納米片的尺寸小于100×100nm，厚度為8-10nm。
3.根據權利要求1或2所述耐高溫聚酰亞胺薄膜，其特征在于，在S2中，亞胺化的程序為：100-120℃保溫1h，200-220℃保溫0.5h，280-300℃保溫0.5h，350-360℃保溫20min。
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