[發明專利]一種LCD平面靶材側邊拋光工藝

在審

• 申請號: 202010626350.4
• 申請日: 2020-07-01
• 公開（公告）號: CN111775030A
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 姚力軍;竇興賢;王學澤;王青松;吳先幫
• 申請（專利權）人: 合肥江豐電子材料有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B27/033
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 王巖

本發明公開了一種LCD平面靶材側邊拋光工藝。一種LCD平面靶材側邊拋光工藝，將IPA液涂于百潔布上，對LCD平面靶材的側邊進行拋光。本發明通過IPA液涂在百潔布上，對靶材的側邊進行拋光，將LCD平面靶材側邊的異物、銅銹、非靶材一體物質去除，提高了靶材拋光的周轉率，降低了人工作業時間，減少了不良產品，拋光后粗糙度穩定，使得一次性通過率提高。

技術領域

本發明涉及靶材加工技術領域，尤其涉及一種LCD平面靶材側邊拋光工藝。

背景技術

如今液晶顯示(LCD)技術已經廣泛應用到生活中，國內也有很多LCD產品的生產廠商。但是，生產使用的LCD靶材仍然需要進口，LCD靶材的自動化加工方法也掌握在他人手中，特別是LCD靶材的表面處理技術，人員加工進度緩慢，且品質難以得到穩定的保障。

目前LCD靶材的主面上的雜質、異物主要通過拋光機進行拋光去除，但是，LCD靶材的側面的異物、氧化物、非靶材一體物質的去除，一般現有拋光方法使用手工砂紙或氣動拋光機，砂紙拋光銅銹難去除，效率低，直接用砂紙或氣動拋光機拋光，每枚產品在線加工時間3小時左右，且粗糙度不穩定，波動性大，導致品質不穩定，難以滿足當前生產總量及品質需求。

CN110877235A公開了一種靶材背板表面的拋光處理方法，所述方法通過將靶材組件倒置在磁力拋光裝置中，靶材背板朝上，進行磁力拋光處理，不僅拋光效率高，拋光后靶材背板表面的拋光紋路均勻無序，靶材背板不易生銹，而且能夠將靶材背板上孔的孔內銹跡和毛刺去除干凈，較好地滿足了濺射靶材背板的需求，具有較高的工業應用價值。該發明對靶材的背板表面進行的拋光，但是對靶材的側面拋光效果不好，粗糙度的穩定性欠佳。

CN110606666A公開了一種工控LCD顯示面板鍍膜工藝及其清理方法，包括堵透氣孔、表面處理、拋光、清洗、烘干和鍍膜；該發明在鍍膜過程中將液晶顯示屏中殘存的液晶除去，從而避免影響鍍膜效果，且板鍍膜工藝及其清理方法與處理過程依次進行互不干擾，保證對液晶屏的成像不造成影響；與現有技術相比，該發明在除去液晶屏表面的液晶時，對液晶屏的強度進一步加強，使其提高抗沖擊的能力，減少由于碰撞導致液晶屏碎裂的情況；采用清潔劑對顯示屏表面進行清洗，去污能力強，清洗效果更好，且不會對液晶屏的玻璃造成俯腐蝕，鰲合劑的加入防止了金屬離子在清洗對象上的再沉降。該發明的拋光工藝采用拋光機進行拋光，但是，其拋光是對LCD顯示面板的主面進行拋光，對其側面拋光及其拋光后的粗糙度并沒有介紹。

因此，提供一種拋光效果好、產品良率高的LCD平面靶材側邊拋光工藝很有必要。

發明內容

針對現有技術的不足，本發明的目的在于提供一種LCD平面靶材側邊拋光工藝，對靶材的側邊進行拋光，將LCD平面靶材側邊的異物、銅銹、非靶材一體物質去除，提高了靶材拋光的周轉率，降低了人工作業時間，減少了不良產品，拋光后粗糙度穩定，使得一次性通過率提高。

為達此目的，本發明采用以下技術方案：

一種LCD平面靶材側邊拋光工藝，所述拋光工藝為，將IPA液涂于百潔布對LCD平面靶材的側邊進行拋光。

本發明通過IPA液涂在百潔布上，對靶材的側邊進行拋光，將LCD平面靶材側邊的異物、銅銹、非靶材一體物質去除，提高了靶材拋光的周轉率，降低了人工作業時間，減少了不良產品，拋光后粗糙度穩定，使得一次性通過率最高提高到95％。

LCD平面靶材的材質可以為銅或鋁，銅可以和氧化性酸反應，鋁可以和所有的酸和堿反應，而IPA液是醇類，與銅不反應，故不影響產品品質問題。優選地，所述IPA液的用量為80～100mL，例如IPA液的用量為80mL、81mL、82mL、83mL、84mL、85mL、86mL、87mL、88mL、89mL、90mL、91mL、92mL、93mL、94mL、95mL、96mL、97mL、98mL、99mL或100mL等。