[發明專利]檢測裝置及檢測方法在審
| 申請號: | 202010625814.X | 申請日: | 2020-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN111812100A | 公開(公告)日: | 2020-10-23 |
| 發明(設計)人: | 陳魯;方一;李青格樂;張軍;張嵩 | 申請(專利權)人: | 深圳中科飛測科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/88 | 分類號: | G01N21/88;G01N21/89;G01N21/01;G01B11/00 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永強 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍華區大浪街*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢測 裝置 方法 | ||
1.一種檢測裝置,其特征在于,所述檢測裝置包括:
定位模塊,用于對待測物的待測區域進行定位,以獲取所述待測區域在二維平面內的位置信息;
第一檢測模塊,用于根據所述位置信息確定第一檢測軌跡,以及根據所述第一檢測軌跡獲取所述待測區域的三維位置信息,所述三維位置信息包括至少一個點的三維坐標。
2.根據權利要求1所述的檢測裝置,其特征在于,所述定位模塊為成像裝置,所述成像裝置,用于對所述待測物進行成像,以獲取所述待測物的第一圖像,并根據所述第一圖像確定所述位置信息;
或者,所述定位模塊為三維坐標檢測裝置,且所述定位模塊的視場大于所述第一檢測模塊的視場,所述三維坐標檢測裝置,用于檢測所述待測物表面多個點的三維坐標,以獲取所述位置信息。
3.根據權利要求1所述的檢測裝置,其特征在于,還包括:第二檢測模塊,用于根據所述位置信息確定所述待測區域的第二檢測軌跡,以及根據所述第二檢測軌跡對所述待測區域進行檢測,以獲取所述待測區域的幾何尺寸或表面缺陷。
4.根據權利要求3所述的檢測裝置,其特征在于,所述第二檢測模塊為成像裝置、形貌檢測裝置或膜厚檢測裝置。
5.根據權利要求3或4所述的檢測裝置,其特征在于,所述定位模塊的視場大于所述第二檢測模塊的視場。
6.根據權利要求3所述的檢測裝置,其特征在于,所述第二檢測模塊,還用于在對所述待測區域進行檢測過程中,根據所述三維位置信息對所述待測區域進行聚焦。
7.根據權利要求3或6所述的檢測裝置,其特征在于,所述第二檢測模塊包括光源、鏡頭與探測器,所述光源發出的光束經所述待測物反射后被所述鏡頭接收;
所述探測器,用于探測所述鏡頭收集的光束。
8.根據權利要求7所述的檢測裝置,其特征在于,還包括:
第一平移臺,用于使所述鏡頭與所述待測物沿所述鏡頭光軸方向相對移動;
和/或,所述第一平移臺,用于使所述探測器與所述待測物沿所述鏡頭光軸方向相對移動。
9.根據權利要求7或8所述的檢測裝置,其特征在于,所述鏡頭為變焦鏡頭,所述變焦鏡頭的焦距可調。
10.根據權利要求3所述的檢測裝置,其特征在于,還包括:
第二平移臺,用于使所述第二檢測模塊與所述待測物沿平行于所述二維平面的方向相對移動。
11.根據權利要求1所述的檢測裝置,其特征在于,還包括:
第三平移臺,用于使所述待測物與所述第一檢測模塊沿平行于所述二維平面的方向相對移動。
12.根據權利要求1所述的檢測裝置,其特征在于,所述第一檢測模塊為光譜共聚焦設備、激光測距設備、白光干涉設備、共聚焦成像設備中的其中一個。
13.根據權利要求1所述的檢測裝置,其特征在于,所述待測區域包括多個定位點,所述位置信息包括多個定位點的二維坐標。
14.根據權利要求1所述的檢測裝置,其特征在于,所述待測物為屏幕,所述屏幕中具有開口;所述待測區域為所述開口的邊緣區域;
至少部分所述待測區域的表面具有膜層。
15.一種檢測方法,其特征在于,所述方法包括:
對待測物的待測區域進行定位,以獲取所述待測區域在二維平面內的位置信息;
根據所述位置信息確定所述待測區域的第一檢測軌跡;
根據所述第一檢測軌跡對所述待測區域進行第一檢測,以獲取所述待測區域的三維位置信息,所述三維位置信息包括至少一個點的三維坐標。
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