[發(fā)明專利]一種電路板的加工方法及電路板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010623428.7 | 申請日: | 2020-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN113873786A | 公開(公告)日: | 2021-12-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊之誠;王亮 | 申請(專利權(quán))人: | 深南電路股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/42 | 分類號: | H05K3/42;H05K3/46 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 黎堅(jiān)怡 |
| 地址: | 518117 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電路板 加工 方法 | ||
1.一種電路板的加工方法,其特征在于,所述電路板的加工方法包括:
提供至少兩個(gè)目標(biāo)面銅及至少一個(gè)基材,以分別間隔疊層設(shè)置后,進(jìn)行層壓,并保證最外層為所述目標(biāo)面銅;
在層壓后的至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅及至少一個(gè)所述基材上鉆第一通孔,并電鍍所述第一通孔;
通過金屬漿料填充所述第一通孔;
將至少一個(gè)面銅和至少一個(gè)所述基材分別間隔疊層設(shè)置于層壓后的至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅及至少一個(gè)所述基材的一側(cè)后進(jìn)行層壓,并保證每一所述基材的兩側(cè)均為所述面銅或所述目標(biāo)面銅;
在填充有所述金屬漿料的所述第一通孔上鉆插針盲孔,以獲取到所述電路板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板的加工方法,其特征在于,所述提供至少兩個(gè)目標(biāo)面銅及至少一個(gè)基材,以分別間隔疊層設(shè)置后,進(jìn)行層壓,并保證最外層為所述目標(biāo)面銅的步驟包括:
提供至少兩個(gè)目標(biāo)面銅及至少一個(gè)基材,對預(yù)疊層設(shè)置于至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅及至少一個(gè)所述基材內(nèi)層中的所述目標(biāo)面銅進(jìn)行線路圖形制作;
將至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅及至少一個(gè)所述基材分別間隔疊層設(shè)置后,進(jìn)行層壓,并保證最外層為所述目標(biāo)面銅。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電路板的加工方法,其特征在于,所述通過金屬漿料填充所述第一通孔的步驟之后,所述將至少一個(gè)面銅和至少一個(gè)所述基材分別間隔疊層設(shè)置于層壓后的至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅及至少一個(gè)所述基材的一側(cè)后進(jìn)行層壓,并保證每一所述基材的兩側(cè)均為所述面銅或所述目標(biāo)面銅的步驟之前,還包括:
對層壓后的至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅及至少一個(gè)所述基材最外層的所述目標(biāo)面銅進(jìn)行線路圖形制作;
對預(yù)疊層設(shè)置于至少一個(gè)所述面銅、至少一個(gè)所述基材、以及層壓后的至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅及至少一個(gè)所述基材內(nèi)層中的每一所述面銅進(jìn)行線路圖形制作。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板的加工方法,其特征在于,所述將至少一個(gè)面銅和至少一個(gè)所述基材分別間隔疊層設(shè)置于層壓后的至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅及至少一個(gè)所述基材的一側(cè)后進(jìn)行層壓,并保證每一所述基材的兩側(cè)均為所述面銅或所述目標(biāo)面銅的步驟之后,所述在填充有所述金屬漿料的所述第一通孔上鉆插針盲孔,以獲取到所述電路板的步驟之前,還包括:
在層壓后的至少一個(gè)所述面銅、至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅以及至少兩個(gè)所述基材上的預(yù)設(shè)位置處鉆第二通孔,并電鍍所述第二通孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板的加工方法,其特征在于,所述在層壓后的至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅及至少一個(gè)所述基材上鉆第一通孔,并電鍍所述第一通孔的步驟包括:
通過比所述插針盲孔的直徑大至少0.2mm的鉆頭對層壓后的至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅及至少一個(gè)所述基材鉆所述第一通孔,并電鍍所述第一通孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板的加工方法,其特征在于,所述在填充有所述金屬漿料的所述第一通孔上鉆插針盲孔,以獲取到所述電路板的步驟包括:
在填充有所述金屬漿料的所述第一通孔上鉆插針盲孔,并保證所述插針盲孔的深度小于所述第一通孔的深度至少0.1mm,以獲取到所述電路板。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板的加工方法,其特征在于,所述提供至少兩個(gè)目標(biāo)面銅及至少一個(gè)基材,以分別間隔疊層設(shè)置后,進(jìn)行層壓,并保證最外層為所述目標(biāo)面銅的步驟包括:
提供至少兩個(gè)所述目標(biāo)面銅、至少一個(gè)所述基材以及至少四個(gè)半固化片,將其中的每一所述基材通過兩個(gè)所述半固化片與相應(yīng)的兩個(gè)所述目標(biāo)面銅分別間隔疊層設(shè)置,并保證最外層為所述目標(biāo)面銅。
8.一種電路板,其特征在于,所述電路板包括:
間隔疊層設(shè)置的至少三個(gè)圖案化的面銅及至少兩個(gè)基材,其中,所述電路板上設(shè)置有盲孔,且所述盲孔的底部與其中一內(nèi)層的所述圖案化的面銅遠(yuǎn)離所述盲孔的一側(cè)平齊;
電鍍銅層,設(shè)置在所述盲孔的內(nèi)壁上;
金屬銅層,所述金屬銅層包括相互貫通呈一體結(jié)構(gòu)的第一金屬銅層和第二金屬銅層,其中,所述第一金屬銅層設(shè)置在所述電鍍銅層上,所述第二金屬銅層設(shè)置在所述盲孔的底部上。
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