[發明專利]顯示基板及其制備方法、曝光對位方法

有效

• 申請號: 202010618823.6
• 申請日: 2020-06-30
• 公開（公告）號: CN111736427B
• 公開（公告）日: 2022-07-26
• 發明（設計）人: 周毅;張立震;徐勝;何偉;吳慧利;趙雪飛;賀芳;李士佩;顧仁權;黎午升
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G03F9/00;G09F9/30
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 解婷婷;曲鵬

提供一種顯示基板及其制備方法、曝光對位方法，該顯示基板包括襯底以及設置在所述襯底上的低反射膜層，所述低反射膜層包括設置于所述襯底之上的晶體基底以及形成于所述晶體基底上的多個棱錐微結構，所述棱錐微結構的外表面形成有多個微孔。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，具體涉及一種顯示基板及其制備方法、曝光對位方法。

背景技術

彩膜基板是實現彩色顯示的關鍵材料，在顯示屏中所占的成本極高。彩膜基板除了影響色彩外，還影響亮度、對比度等光學特性。彩膜基板主要結構包括襯底、黑色矩陣(BM)、色層(RGB)、保護層、導電膜層、隔墊柱等。黑色矩陣的基本功能是遮光，目的是提高對比度，避免相連色層混色，減少外界光反射，防止外界光線照射到薄膜晶體管而增加漏電流，使用黑色矩陣可以有效遮斷子像素間的漏光。在G2.5代線中，涂覆黑色矩陣后無法識別前層的對位標記，無法在曝光機上自動對位，需要手動對應，降低了良率和效率。

發明內容

本發明實施例所要解決的技術問題是，提供一種顯示基板及其制備方法、曝光對位方法，實現在曝光機上自動對位，提高了生產效率。

為了解決上述技術問題，本發明實施例提供了一種顯示基板，包括襯底以及設置在所述襯底上的低反射膜層，所述低反射膜層包括設置于所述襯底之上的晶體基底以及形成于所述晶體基底上的多個棱錐微結構，所述棱錐微結構的外表面形成有多個微孔。

在一些可能的實現方式中，所述微孔在所述棱錐微結構的外表面呈螺旋形排布。

在一些可能的實現方式中，所述棱錐微結構的高度不同。

在一些可能的實現方式中，所述低反射膜層采用多晶硅材料。

在一些可能的實現方式中，還包括設置于所述襯底之上的發光驅動電路，所述發光驅動電路位于所述襯底與所述低反射膜層之間。

在一些可能的實現方式中，還包括設置于所述低反射膜層之上的導電膜層，所述低反射膜層中設置有與所述發光驅動電路連通的過孔，所述導電膜層通過所述過孔與所述發光驅動電路連接。

在一些可能的實現方式中，還包括設置于所述襯底之上的擋墻，所述擋墻圍繞所述低反射膜層的四周。

本發明實施例還提供了一種顯示基板的制備方法，包括：

在襯底上沉積晶體薄膜；

對所述晶體薄膜進行腐蝕，使所述晶體薄膜形成晶體基底以及形成于所述晶體基底上的多個棱錐微結構；

在所述棱錐微結構上形成多個金屬粒子；

通過刻蝕工藝，使所述金屬粒子嵌入所述棱錐微結構中；

將所述棱錐微結構上的金屬粒子去除，使所述棱錐微結構的外表面上形成多個微孔，所述晶體基底和所述棱錐微結構形成低反射膜層。

在一些可能的實現方式中，在所述棱錐微結構上形成多個金屬粒子，包括：

在所述棱錐微結構上沉積金屬薄膜；

對所述金屬薄膜進行退火工藝，使所述金屬薄膜在所述棱錐微結構上形成多個金屬粒子。

本發明實施例還提供了一種曝光對位方法，包括：

在襯底上沉積鈍化層；

在所述鈍化層上形成對位標記；

在所述鈍化層上沉積覆蓋所述對位標記的晶體薄膜；

使曝光光線穿過所述晶體薄膜與所述對位標記進行自動曝光對位；

對所述晶體薄膜進行腐蝕，使所述晶體薄膜形成晶體基底以及形成于所述晶體基底上的多個棱錐微結構；