[發(fā)明專利]一種晶圓光刻設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010615581.5
• 申請(qǐng)日: 2020-06-30
• 公開（公告）號(hào): CN111722478A
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州聰慧青貿(mào)易有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/30
• 分類號(hào): G03F7/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明公開了一種晶圓光刻設(shè)備，其結(jié)構(gòu)包括主體、控制面板、進(jìn)料口、光刻塊、顯影裝置，進(jìn)料口設(shè)置在主體的左側(cè)，顯影裝置包括光蝕劑回收箱、晶圓收集箱、傳送帶、載盤、滑動(dòng)桿、噴料裝置，噴料裝置包括橫向滑動(dòng)塊、限位塊、旋轉(zhuǎn)塊、螺紋桿、通料管、出料裝置，出料裝置包括通料槽、噴料頭、凹槽、動(dòng)力噴頭、刷渣裝置，刷渣裝置包括擋料裝置、轉(zhuǎn)桿、刷子，擋料裝置設(shè)置在刷渣裝置的側(cè)端，本發(fā)明利用動(dòng)力噴頭垂直噴出光蝕劑，對(duì)安裝在凹槽正中間的刷渣裝置進(jìn)行沖擊，使得擋料裝置受到?jīng)_擊力進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而讓嵌固在轉(zhuǎn)桿上的刷子通過旋轉(zhuǎn)對(duì)晶圓表面的殘?jiān)M(jìn)行刷洗，避免由反應(yīng)過后的殘?jiān)皆诰A的表面，影響后反應(yīng)的晶圓光刻位置顯影。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及晶圓光刻顯影設(shè)備領(lǐng)域，具體的是一種晶圓光刻設(shè)備。

背景技術(shù)

集成電路技術(shù)是現(xiàn)今所有電子產(chǎn)品所需的基本技術(shù)，集成電路技術(shù)的承載物是集成電路板，集成電路板的最重要的零件是晶圓,晶圓光刻的工作及其重要，如光刻失敗會(huì)直接導(dǎo)致晶圓報(bào)廢，晶圓在進(jìn)行光刻之后需要利用光蝕劑進(jìn)行顯影。

基于上述本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有的一種晶圓光刻設(shè)備主要存在以下幾點(diǎn)不足，比如：將光蝕劑噴涂在晶圓的表面，讓光蝕劑與晶圓發(fā)生化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行顯影，光蝕劑與晶圓進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)所產(chǎn)生的殘?jiān)糜诰A的表面，在光蝕劑的帶動(dòng)下發(fā)生偏移，有部分未從晶圓表面脫落的殘?jiān)鼤?huì)附在未進(jìn)行反應(yīng)的光刻位置上，讓后反應(yīng)的光刻位置得不到充分的反應(yīng)，從而造成晶圓光刻失敗的情況。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述問題，本發(fā)明提供一種晶圓光刻設(shè)備。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明是通過如下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：一種晶圓光刻設(shè)備，其結(jié)構(gòu)包括主體、控制面板、進(jìn)料口、光刻塊、顯影裝置，所述主體的前端設(shè)有控制面板，所述進(jìn)料口設(shè)置在主體的左側(cè)，所述光刻塊位于主體的一端，所述顯影裝置設(shè)置在主體的另一端，所述顯影裝置包括光蝕劑回收箱、晶圓收集箱、傳送帶、載盤、滑動(dòng)桿、噴料裝置，所述光蝕劑回收箱安裝在顯影裝置的底部一端，所述晶圓收集箱安裝在顯影裝置的底部另一端，所述傳送帶設(shè)置在光蝕劑回收箱的正上方，所述載盤設(shè)有十個(gè)以上，且橫向安裝在傳送帶的上端，所述滑動(dòng)桿嵌固在顯影裝置的頂部兩端，所述噴料裝置安裝在滑動(dòng)桿中，且與滑動(dòng)桿螺紋配合。

進(jìn)一步的，所述噴料裝置包括橫向滑動(dòng)塊、限位塊、旋轉(zhuǎn)塊、螺紋桿、通料管、出料裝置，所述滑動(dòng)塊的前端正中間設(shè)有限位塊，所述旋轉(zhuǎn)塊安裝在滑動(dòng)塊的底部前端，所述螺紋桿垂直安裝在限位塊與旋轉(zhuǎn)塊之間，所述通料管連接于螺紋桿的頂部，所述出料裝置焊接在螺紋桿的底部，所述螺紋桿內(nèi)部為剖空狀，且與通料管還有出料裝置相連通。

進(jìn)一步的，所述出料裝置包括通料槽、噴料頭、凹槽、動(dòng)力噴頭、刷渣裝置，所述通料槽設(shè)置在出料裝置的內(nèi)部，所述噴料頭嵌固在通料槽的底部，所述凹槽設(shè)置在通料槽的側(cè)端，所述動(dòng)力噴頭安裝在凹槽的頂部，所述刷渣裝置卡合在凹槽的水平兩側(cè)，所述刷渣裝置的長度小于凹槽的寬度。

進(jìn)一步的，所述刷渣裝置包括擋料裝置、轉(zhuǎn)桿、刷子，所述擋料裝置設(shè)置在刷渣裝置的側(cè)端，所述轉(zhuǎn)桿連接于擋料裝置的側(cè)端，所述刷子安裝在轉(zhuǎn)桿的側(cè)端，所述刷子設(shè)有十個(gè)以上，且以每組為四個(gè)，環(huán)繞于轉(zhuǎn)桿進(jìn)行排列。

進(jìn)一步的，所述擋料裝置包括載體、擋料板、集料槽、蓋板、排料頭，所述載體為圓柱狀，所述擋料板設(shè)有四個(gè)，且均勻環(huán)繞于載體排列，所述集料槽設(shè)置在擋料板的內(nèi)部，所述蓋板卡合在集料槽的上端，所述排料頭安裝在集料槽的末端，所述蓋板的長度小于集料槽的長度。

進(jìn)一步的，所述蓋板包括集料孔、進(jìn)料頭、安裝槽、復(fù)位彈簧、卡塊，所述集料孔設(shè)有五個(gè)以上，且橫向在列在蓋板的內(nèi)部，所述進(jìn)料頭設(shè)有五個(gè)以上，分別安裝在集料孔的上端，所述安裝槽設(shè)有兩個(gè)，分別設(shè)于蓋板的左右兩側(cè)，所述復(fù)位彈簧設(shè)有四個(gè)，且分別嵌固在安裝槽的內(nèi)側(cè)，所述卡塊設(shè)有兩個(gè)，卡合在安裝槽中，且與復(fù)位彈簧活動(dòng)配合，所述集料孔與水平面之間的夾角為45度。