[發明專利]一種對準裝置、方法及對準重復性檢測方法

在審

• 申請號: 202010612166.4
• 申請日: 2020-06-29
• 公開（公告）號: CN113934117A
• 公開（公告）日: 2022-01-14
• 發明（設計）人: 楊金良;陳小娟;忻斌杰
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種對準裝置，包括照明系統、設置在掩模臺上的掩模版、投影物鏡、設置在工件臺上的基準板、探測器以及控制系統，所述掩模版和所述基準板分設于所述投影物鏡兩側，所述照明系統位于所述掩模版背離所述投影物鏡的一側，所述探測器位于所述基準板背離所述投影物鏡的一側，其特征在于，

所述基準板上設置有至少一個基準標記，所述探測器的通道與所述基準標記一一對應；所述基準標記包括至少一個基準子標記，所述基準子標記包括至少一個沿X方向延伸的X向基準狹縫和至少一個沿Y方向延伸的Y向基準狹縫；

所述掩模版上設置有掩模標記，所述掩模標記包括至少一個掩模子標記，所述掩模子標記包括至少一個沿X方向延伸的X向掩模狹縫和至少一個沿Y方向延伸的Y向掩模狹縫；

其中，所述基準標記和所述掩模標記滿足如下要求：當一所述基準標記中的所述X向掩模狹縫與一所述掩模標記中的所述X向基準狹縫對準時，經所述Y向掩模狹縫通過的光無法通過所述Y向基準狹縫；當一所述基準標記中的所述Y向掩模狹縫與一所述掩模標記中的所述Y向基準狹縫對準時，經所述X向掩模狹縫通過的光無法通過所述X向基準狹縫；所述X方向和所述Y方向交叉。

2.根據權利要求1所述的對準裝置，其特征在于，每個所述基準標記包括多個基準子標記，相鄰兩基準子標記之間不交疊；每個所述掩模標記包括多個掩模子標記，相鄰兩掩模子標記之間不交疊。

3.根據權利要求1所述的對準裝置，其特征在于，所述基準子標記包括第一X向基準狹縫、第二X向基準狹縫、第一Y向基準狹縫和第二Y向基準狹縫；所述第一X向基準狹縫所在直線、所述第二X向基準狹縫所在直線、第一Y向基準狹縫所在直線和所述第二Y向基準狹縫所在直線圍成一基準矩形；

所述掩模子標記包括第一X向掩模狹縫、第二X向掩模狹縫、第一Y向掩模狹縫和第二Y向掩模狹縫；所述第一X向掩模狹縫所在直線、所述第二X向掩模狹縫所在直線、第一Y向掩模狹縫所在直線和所述第二Y向掩模狹縫所在直線圍成一掩模矩形。

4.根據權利要求3所述的對準裝置，其特征在于，同一所述基準標記中，多個所述基準子標記成行成列排布；同一所述掩模標記中，多個所述掩模子標記成行成列排布。

5.根據權利要求4所述的對準裝置，其特征在于，沿所述X方向的相鄰兩個基準子標記中，一個所述基準子標記的第二Y向基準狹縫復用為另一個所述基準子標記的第一Y向基準狹縫；沿所述Y方向的相鄰兩個基準子標記中，一個所述基準子標記的第二X向基準狹縫復用為另一個所述基準子標記的第一X向基準狹縫；

沿所述X方向的相鄰兩個掩模子標記中，一個所述掩模子標記的第二Y向掩模狹縫復用為另一個所述掩模子標記的第一Y向掩模狹縫；沿所述Y方向的相鄰兩個掩模子標記中，一個所述掩模子標記的第二X向掩模狹縫復用為另一個所述掩模子標記的第一X向掩模狹縫。

6.根據權利要求3所述的對準裝置，其特征在于，同一所述基準標記中，多個所述基準子標記的多個基準矩形呈同心矩形狀；同一所述掩模標記中，多個所述掩模子標記的多個掩模矩形呈同心矩形狀。

7.根據權利要求6所述的對準裝置，其特征在于，同一基準標記中，沿任一所述基準子標記的基準矩形的中心指向邊緣的方向，所述基準子標記的透光面積逐漸增大；同一掩模標記中，沿任一所述掩模子標記的掩模矩形的中心指向邊緣的方向，所述掩模子標記的透光面積逐漸增大。

8.根據權利要求1所述的對準裝置，其特征在于，所述基準板上設置有2個所述基準標記，2個所述基準標記構成基準標記組；所述掩模版上設置有多個所述掩模標記，每2個所述掩模標記構成掩模標記組；

其中，同一所述基準標記組中，相鄰兩個所述基準標記之間的距離滿足基準預設值；同時，同一所述掩模標記組中，相鄰兩個所述掩模標記之間的距離滿足掩模預設值。