[發(fā)明專利]RTK定位結果的粗差檢驗方法及系統(tǒng)

在審

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• 申請日: 2020-06-28
• 公開（公告）號: CN113848576A
• 公開（公告）日: 2021-12-28
• 發(fā)明（設計）人: 陳華炎
• 申請（專利權）人: 千尋位置網絡有限公司
• 主分類號: G01S19/44
• 分類號: G01S19/44;G01S19/41;G01S19/07
• 代理公司: 上海一平知識產權代理有限公司 31266
• 代理人: 竺云;須一平

1.一種RTK定位結果的粗差檢驗方法，其特征在于，包含：

獲取RTK定位結果的粗差標記結果以及至少一個粗差相關特征的值，其中，所述粗差相關特征包括：GDOP值、部分模糊度固定剔除衛(wèi)星數、固定衛(wèi)星數、無電離層組合的殘差、寬巷組合的殘差、第一頻定位結果與第二頻定位結果的定位差、無電離層組合的定位結果與RTK定位結果的定位差、寬巷組合的定位結果與RTK定位結果的定位差中的一者或多者；

利用分類算法，以及所述每個RTK定位結果的粗差標記結果與所述粗差相關特征，對粗差檢驗模型進行訓練，以確定粗差檢驗模型的參考偏置值和所述每個粗差相關特征相應的參考權值系數；

將待檢驗的RTK定位結果相應的所述粗差相關特征代入所述訓練后的粗差檢驗模型，以對待檢驗的RTK定位結果進行粗差檢驗。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述粗差相關特征還包括ratio值和/或RTK定位的殘差。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述RTK定位結果為單頻RTK定位結果，所述粗差相關特征包括：RTK定位的殘差、GDOP值、部分模糊度固定剔除衛(wèi)星數和固定衛(wèi)星數。

4.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述RTK定位結果為雙頻RTK定位結果，所述粗差相關特征包括：RTK定位的殘差、GDOP值、部分模糊度固定剔除衛(wèi)星數、固定衛(wèi)星數、無電離層組合的定位結果與RTK定位結果的定位差和無電離層組合的殘差。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述利用分類算法，以及所述每個RTK定位結果的粗差標記結果與所述粗差相關特征，對粗差檢驗模型進行訓練，以確定粗差檢驗模型的參考偏置值和所述每個粗差相關特征相應的參考權值系數的步驟中，進一步包括：

對所述一個或多個粗差相關特征的值進行非線性映射；

利用非線性映射后的所述粗差相關特征對粗差檢驗模型進行訓練。

6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，當所述粗差相關特征包括固定衛(wèi)星數時，所述對所述粗差相關特征的值進行非線性映射的步驟中，通過以下方式對固定衛(wèi)星數進行非線性映射：

N_fix＝10lg(n_fix)+1

其中，n_fix為固定衛(wèi)星數；N_fix為固定衛(wèi)星數相應的映射后的樣本特征。

7.如權利要求5所述的方法，其特征在于，當所述粗差相關特征包括部分模糊度固定剔除衛(wèi)星數時，所述對所述粗差相關特征的值進行非線性映射的步驟中，通過以下方式對部分模糊度固定剔除衛(wèi)星數進行非線性映射：

N_kick＝n_kick/(n_kick+n_fix)

其中，n_kick為RTK定位算法部分模糊度固定時剔除的衛(wèi)星數；N_kick為相應的映射后的樣本特征，n_fix為固定衛(wèi)星數。

8.如權利要求5所述的方法，其特征在于，當所述粗差相關特征包括無電離層組合的殘差、或寬巷組合的殘差時，所述對所述每個粗差相關特征的值進行非線性映射的步驟中，通過以下方式對無電離層組合的殘差、或寬巷組合的殘差進行非線性映射：

其中，為第i顆固定衛(wèi)星的寬巷組合的殘差或無電離層組合的殘差；為對應殘差的均值；Std_*為對應殘差相應的映射后的樣本特征，n_fix為固定衛(wèi)星數。