[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用浸沒(méi)式光刻機(jī)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010600046.2
• 申請(qǐng)日: 2020-06-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111624858A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-09-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王佩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東萬(wàn)合新材料科技有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 廣東省暢欣知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44631
• 代理人: 齊軍彩

本發(fā)明公開(kāi)了一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用浸沒(méi)式光刻機(jī)，其結(jié)構(gòu)包括支撐桌、裝料箱、光刻裝置，支撐桌的頂部正中間設(shè)有裝料箱，光刻裝置位于裝料箱的正上方，裝料箱包括載盤(pán)、折射鏡、下料管、下壓裝置，下壓裝置包括下料槽、進(jìn)料槽、第二彈簧、下壓塊，下壓塊包括安裝槽、下壓槽、轉(zhuǎn)軸、伸縮桿、下壓體，下壓體包括壓塊、安裝座、接觸塊、橡膠塊，本發(fā)明利用第二彈簧復(fù)位帶動(dòng)下壓塊對(duì)疊放的硅片進(jìn)行下壓，讓硅片能夠保持與下料管垂直，使得硅片正常下落，避免硅片在下料管中出現(xiàn)卡件的情況，讓硅片可以正常進(jìn)行光刻電路圖。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光刻機(jī)領(lǐng)域，具體的是一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用浸沒(méi)式光刻機(jī)。

背景技術(shù)

光刻機(jī)通過(guò)光源能量、形狀控制，將光束透射過(guò)畫(huà)著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片的膠面上，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖，而在在光刻之前需要對(duì)硅片進(jìn)行清洗，清洗過(guò)后在進(jìn)行烘干，最后進(jìn)行涂膠。

基于上述本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有的一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用浸沒(méi)式光刻機(jī)主要存在以下幾點(diǎn)不足，比如：硅片疊放在下料槽中，通過(guò)推動(dòng)塊將硅片推動(dòng)到載板上，才能夠進(jìn)行光刻工作，由于硅片使通過(guò)自身重力往下掉落的，在疊放不整齊的情況下，置于下料槽上端的硅片會(huì)出現(xiàn)傾斜的現(xiàn)象，導(dǎo)致硅片卡在下料槽中，造成卡件的情況。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用浸沒(méi)式光刻機(jī)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明是通過(guò)如下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用浸沒(méi)式光刻機(jī)，其結(jié)構(gòu)包括支撐桌、裝料箱、光刻裝置，所述支撐桌的頂部正中間設(shè)有裝料箱，所述光刻裝置位于裝料箱的正上方，所述裝料箱包括載盤(pán)、折射鏡、下料管、下壓裝置，所述載盤(pán)設(shè)于裝料箱的內(nèi)部正中間，所述折射鏡安裝在裝料箱的頂部正中間，所述下料管嵌固在折射鏡的一旁，所述下壓裝置安裝在下料管的內(nèi)部頂端。

進(jìn)一步的，所述載盤(pán)包括推動(dòng)塊、卡合槽、滑動(dòng)槽、光刻槽，所述推動(dòng)塊安裝在載盤(pán)的頂部正中間，所述卡合槽設(shè)于載盤(pán)的中間，所述滑動(dòng)槽設(shè)于卡合槽的外側(cè)，所述光刻槽設(shè)置在滑動(dòng)槽的末端，且光刻槽的深度比滑動(dòng)槽深，所述卡合槽的前端的深度比后端還要深。

進(jìn)一步的，所述推動(dòng)塊包括第一彈簧、滾動(dòng)輪、真空腔、活塞、夾取塊，所述第一彈簧的底部安裝有滾動(dòng)輪，所述真空腔設(shè)于推動(dòng)塊的側(cè)端，所述活塞安裝在真空腔的前端，所述夾取塊設(shè)置在真空腔的后端，所述夾取塊與真空腔之間活動(dòng)配合。

進(jìn)一步的，所述夾取塊包括主桿、夾取體、夾取槽，所述主桿的前端設(shè)有夾取體，所述夾取槽為三角形狀，且位于夾取體的內(nèi)側(cè)，所述夾取體為V字狀。

進(jìn)一步的，所述下壓裝置包括下料槽、進(jìn)料槽、第二彈簧、下壓塊，所述下料槽的側(cè)端設(shè)有進(jìn)料槽，所述第二彈簧嵌固在下料槽的頂端，所述下壓塊設(shè)置在第二彈簧的底部，所述下壓塊的頂部通過(guò)鋼絲連接。

進(jìn)一步的，所述下壓塊包括安裝槽、下壓槽、轉(zhuǎn)軸、伸縮桿、下壓體，所述安裝槽設(shè)置在下壓塊的頂部正中間，所述下壓槽位于下壓塊的底部，所述轉(zhuǎn)軸設(shè)有兩個(gè)，且分別安裝在下壓槽的兩端，所述伸縮桿設(shè)有四個(gè)且兩兩連接于轉(zhuǎn)軸，所述下壓體與伸縮桿的頂端相連接，所述下壓體為圓弧狀。

進(jìn)一步的，所述下壓體包括壓塊、安裝座、接觸塊、橡膠塊，所述壓塊的頂部設(shè)有兩個(gè)安裝座，所述接觸塊設(shè)有三個(gè)，且橫向排列在壓塊的內(nèi)部，所述橡膠塊為三角形狀，設(shè)有十個(gè)以上，且分別排列在接觸塊的表面，所述接觸塊為梯形狀。

有益效果

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下有益效果：

1.本發(fā)明通過(guò)推動(dòng)塊中的滾動(dòng)輪與卡合槽活動(dòng)配合，能夠?qū)χ糜诨瑒?dòng)槽中的硅片進(jìn)行夾取，避免硅片在載盤(pán)上進(jìn)行摩擦導(dǎo)致硅片出現(xiàn)劃痕。