[發明專利]一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機在審
| 申請號: | 202010600046.2 | 申請日: | 2020-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN111624858A | 公開(公告)日: | 2020-09-04 |
| 發明(設計)人: | 王佩 | 申請(專利權)人: | 廣東萬合新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 廣東省暢欣知識產權代理事務所(普通合伙) 44631 | 代理人: | 齊軍彩 |
| 地址: | 510700 廣東省廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 半導體 芯片 生產 浸沒 光刻 | ||
1.一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機,其結構包括支撐桌(1)、裝料箱(2)、光刻裝置(3),所述支撐桌(1)的頂部正中間設有裝料箱(2),所述光刻裝置(3)位于裝料箱(2)的正上方,其特征在于:
所述裝料箱(2)包括載盤(21)、折射鏡(22)、下料管(23)、下壓裝置(24),所述載盤(21)設于裝料箱(2)的內部正中間,所述折射鏡(22)安裝在裝料箱(2)的頂部正中間,所述下料管(23)嵌固在折射鏡(22)的一旁,所述下壓裝置(24)安裝在下料管(23)的內部頂端。
2.根據權利要求1所述的一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機,其特征在于:所述載盤(21)包括推動塊(211)、卡合槽(212)、滑動槽(213)、光刻槽(214),所述推動塊(211)安裝在載盤(21)的頂部正中間,所述卡合槽(212)設于載盤(21)的中間,所述滑動槽(213)設于卡合槽(212)的外側,所述光刻槽(214)設置在滑動槽(213)的末端,且光刻槽(214)的深度比滑動槽(213)深。
3.根據權利要求2所述的一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機,其特征在于:所述推動塊(211)包括第一彈簧(a1)、滾動輪(a2)、真空腔(a3)、活塞(a4)、夾取塊(a5),所述第一彈簧(a1)的底部安裝有滾動輪(a2),所述真空腔(a3)設于推動塊(211)的側端,所述活塞(a4)安裝在真空腔(a3)的前端,所述夾取塊(a5)設置在真空腔(a3)的后端。
4.根據權利要求3所述的一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機,其特征在于:所述夾取塊(a5)包括主桿(a51)、夾取體(a52)、夾取槽(a53),所述主桿(a51)的前端設有夾取體(a52),所述夾取槽(a53)為三角形狀,且位于夾取體(a52)的內側。
5.根據權利要求1所述的一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機,其特征在于:所述下壓裝置(24)包括下料槽(241)、進料槽(242)、第二彈簧(243)、下壓塊(244),所述下料槽(241)的側端設有進料槽(242),所述第二彈簧(243)嵌固在下料槽(241)的頂端,所述下壓塊(244)設置在第二彈簧(243)的底部。
6.根據權利要求5所述的一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機,其特征在于:所述下壓塊(244)包括安裝槽(b1)、下壓槽(b2)、轉軸(b3)、伸縮桿(b4)、下壓體(b5),所述安裝槽(b1)設置在下壓塊(244)的頂部正中間,所述下壓槽(b2)位于下壓塊(244)的底部,所述轉軸(b3)設有兩個,且分別安裝在下壓槽(b2)的兩端,所述伸縮桿(b4)設有四個且兩兩連接于轉軸(b3),所述下壓體(b5)與伸縮桿(b4)的頂端相連接。
7.根據權利要求6所述的一種半導體芯片生產用浸沒式光刻機,其特征在于:所述下壓體(b5)包括壓塊(b51)、安裝座(b52)、接觸塊(b53)、橡膠塊(b54),所述壓塊(b51)的頂部設有兩個安裝座(b52),所述接觸塊(b53)設有三個,且橫向排列在壓塊(b51)的內部,所述橡膠塊(b54)為三角形狀,設有十個以上,且分別排列在接觸塊(b53)的表面。
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