[發明專利]一種半導體光刻板清洗機

有效

• 申請號: 202010597763.4
• 申請日: 2020-06-28
• 公開（公告）號: CN111701935B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: 王佩
• 申請（專利權）人: 廣東達源設備科技有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;B08B17/02
• 代理公司: 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) 11638
• 代理人: 楊劍

本發明公開了一種半導體光刻板清洗機，清洗艙、把手、設備艙，清洗艙通過焊接安裝在設備艙的正上方，把手嵌固安裝在設備艙上端左側方；清洗艙包括鑲嵌軌、噴霧器、活動軸端、連通軟管、儲備槽、工作平臺，鑲嵌軌卡合連接著活動軸端的下端面，噴霧器活動卡合在活動軸端正下方，活動軸端嵌固連接在儲備槽左側方，連通軟管鑲嵌連接在噴霧器的右側端面，且與儲備槽表面連接，工作平臺位于噴霧器的正下方，當反應劑與污垢接觸后形成水漬，順著光刻板四周向下流動至防漏板表面的鏤空口，使其順著蓄流槽的內壁向下流動，避免像以往設備的工作平臺形成污垢水漬堆積，使光刻板下端表面，隨著水張力形成漂浮，致使光刻板平衡被打破。

技術領域

本發明屬于半導體光刻機領域，更具體地說，尤其是涉及到一種半導體光刻板清洗機。

背景技術

光刻板清洗機是一種通過反應設備與裝載卡盤相配合，對裝載卡盤上的光刻盤以噴霧式噴灑化學試劑，來對光刻板表面細微殘渣進行清理的設備，主要與光刻機相互配合使用。

基于上述本發明人發現，現有的主要存在以下幾點不足，比如：以往光刻板清理機在通過噴灑化學物品腐蝕光刻板表面污垢時，當噴霧與污垢接觸混合后，會形成液體順著光刻板外壁向下流動至卡盤表面，當下次工作裝夾光刻板時，其背端面與水漬接觸，由于水的張力性，使光刻板的一端漂浮在水漬上，難以保持光刻板平衡。

因此需要提出一種半導體光刻板清洗機。

發明內容

為了解決上述技術的問題。

本發明一種半導體光刻板清洗機的目的與功效，由以下具體技術手段所達成：其結構包括清洗艙、把手、設備艙，所述清洗艙通過焊接安裝在設備艙的正上方，所述把手嵌固安裝在設備艙上端左側方；所述清洗艙包括鑲嵌軌、噴霧器、活動軸端、連通軟管、儲備槽、工作平臺，所述鑲嵌軌卡合連接著活動軸端的下端面，所述噴霧器活動卡合在活動軸端正下方，所述活動軸端嵌固連接在儲備槽左側方，所述連通軟管鑲嵌連接在噴霧器的右側端面，且與儲備槽表面連接，所述工作平臺位于噴霧器的正下方。

更進一步的，所述工作平臺包括蓄流槽、防漏板、鏤空口、支撐弧板、連接塊，所述蓄流槽鑲嵌卡合連接在防漏板的正下方，所述防漏板上表面均勻分布著鏤空口，所述鏤空口鑲嵌安裝在連接塊正上方，所述支撐弧板對稱安裝在防漏板的左右兩側，所述連接塊嵌固安裝在工作平臺的下端面，所述蓄流槽的內端面呈傾斜狀。

更進一步的，所述鏤空口包括鑲嵌螺紋環、分割片、流通口、防護擋板，所述鑲嵌螺紋環鑲嵌環繞在鏤空口的外側端面，所述分割片均勻分布在流通口的內壁上，所述流通口位于防護擋板正下方，所述防護擋板鑲固連接在鏤空口的上端表面，所述分割片呈中空傾斜狀。

更進一步的，所述分割片包括疏油層、切割刀片、流動槽、連接板，所述疏油層均勻包裹在切割刀片的下端外表面，所述切割刀片通過電焊連接在連接板的上方端面，所述流動槽鑲嵌卡合在連接板的內端面，所述連接板鑲嵌安裝在流通口的內端面。

更進一步的，所述支撐弧板包括防漏機構、積流槽、導流口，所述防漏機構嵌固安裝在導流口的正上方，且與積流槽的表面相貼合，所述積流槽位于防漏機構的左下方，所述導流口采用傾斜角度設計。

更進一步的，所述防漏機構包括頂板、彈簧、第二流動槽、支撐塊，所述頂板下端面通過電焊連接著彈簧，所述彈簧位于第二流動槽的左側方，所述第二流動槽的右側端設有支撐塊，所述支撐塊高度略高于左側。

與現有技術相比，本發明具有如下有益效果：

1.當反應劑與污垢接觸后形成水漬，順著光刻板四周向下流動至防漏板表面的鏤空口，使其順著蓄流槽的內壁向下流動，避免像以往設備的工作平臺形成污垢水漬堆積，使光刻板下端表面，隨著水張力形成漂浮，致使光刻板平衡被打破。