[發(fā)明專利]一種集成電路封裝用BGA錫球的材料配方及熔煉工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010597054.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111705239A | 公開(公告)日: | 2020-09-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐坤;王廣欣;馬慶;王要利;王鈺森 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 泰安晶品新材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C22C13/00 | 分類號(hào): | C22C13/00;C22C1/02;H01L23/498 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 271000 山東省泰安*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 集成電路 封裝 bga 材料 配方 熔煉 工藝 | ||
本發(fā)明公開了一種集成電路封裝用BGA錫球的材料配方及熔煉工藝,包括材料配方中合金成分配比為:96~96.5%錫,3%Ag,0.5%Cu,0.1%~0.5Re。材料配方中添加的保護(hù)劑為KCl、LiCl混合保護(hù)劑;熔煉工藝具體步驟為:Step.1:一種集成電路封裝用BGA錫球的熔煉工藝中合金成分配置;Step.2:一種集成電路封裝用BGA錫球的熔煉工藝中稱重及熔煉;Step.3:一種集成電路封裝用BGA錫球的熔煉工藝添加保護(hù)劑;Step.4:熔煉工藝中融化合金及加入稀土;所述Step.4操作:為打開箱式電阻爐并設(shè)定溫度260度,溫度達(dá)到后260度后,將坩堝放入箱式電阻爐保溫至坩堝內(nèi)金屬完全融化,將稱量后的稀土快速加入熔融合金中并用攪拌均勻。Step.5:合金冷卻及后處理。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于集成電路封裝材料制備技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種集成電路封裝用BGA錫球的材料配方及熔煉工藝。
背景技術(shù)
隨著筆記本電腦、手機(jī)、移動(dòng)通信設(shè)備等微電子產(chǎn)品的迅速發(fā)展,芯片需求量日益增加。傳統(tǒng)的四方扁平及雙列直插式芯片封裝技術(shù)無法滿足技術(shù)發(fā)展要求。BGA封裝以其I/O引腳數(shù)多、引腳間距大、寄生參數(shù)小等優(yōu)點(diǎn),成為CPU、南北橋等VLSI芯片的高密度、高性能、多功能封裝的最佳選擇。然目前國(guó)內(nèi)90%以上的BGA球均以來進(jìn)口。現(xiàn)有的BGA錫球材料中,常見的有SAC305與SAC105,該材料鋪展性及抗蠕變性較差,封裝后錫球經(jīng)常出現(xiàn)未焊合、焊點(diǎn)偏移、接頭力學(xué)性能差現(xiàn)象,導(dǎo)致焊點(diǎn)脫落失效。現(xiàn)有研究表明,稀土可以降低液態(tài)釬料的表面張力,提高液態(tài)釬料的潤(rùn)濕性,同時(shí),隨著RE的加入起到彌散強(qiáng)化作用,使粗大的富Sn相得到細(xì)化,提高封裝界面的剪切強(qiáng)度。所以用于BGA焊球的新型SnAgCuRe材料及熔煉工藝的開發(fā)非常必要。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于現(xiàn)有技術(shù)中所存在的問題,本發(fā)明公開了一種集成電路封裝用BGA錫球的材料配方,采用的技術(shù)方案是,包括材料配方中合金成分配比為:96~96.5%錫,3%Ag,0.5%Cu,0.1%~0.5Re。材料配方中添加的保護(hù)劑為KCl、LiCl混合保護(hù)劑。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案,所述一種集成電路封裝用BGA錫球的材料配方中所用的每種材料純度均為99.9%以上的分析純。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案,所述一種集成電路封裝用BGA錫球的材料配方中添加的KCl、LiCl混合保護(hù)劑中KCl:LiCl比例為3:1。
一種集成電路封裝用BGA錫球的熔煉工藝,具體步驟為:
Step.1:一種集成電路封裝用BGA錫球的熔煉工藝中合金成分配置。
Step.2:一種集成電路封裝用BGA錫球的熔煉工藝中稱重及熔煉;所述Step.2中使用精確度為萬分之一克的電子天平,按比例分別稱量分析純錫,分析純銀,分析純銅,將稱量后的材料用非自耗真空電弧爐熔煉成鈕扣狀態(tài)。
Step.3:一種集成電路封裝用BGA錫球的熔煉工藝添加保護(hù)劑。
Step.4:一種集成電路封裝用BGA錫球的熔煉工藝中融化合金及加入稀土;所述Step.4操作:為打開箱式電阻爐并設(shè)定溫度260度,溫度達(dá)到后260度后,將坩堝放入箱式電阻爐保溫至坩堝內(nèi)金屬完全融化,將稱量后的稀土快速加入熔融合金中并用攪拌均勻。
Step.5:一種集成電路封裝用BGA錫球的熔煉工藝中合金冷卻及后處理;所述Step.5中將攪拌均勻后的液態(tài)合金隨爐冷卻,冷卻后的金屬錠敲掉保護(hù)劑,機(jī)械打磨表面至金屬色并用超聲波清洗,將清洗后的合金放置于干燥的環(huán)境中。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案,所述Step.2中三種成分須為塊狀或大顆粒狀,以及所有的添加材料都不能是粉末狀,主要因?yàn)榉勰?huì)在非自耗真空電弧熔煉過程中被電弧吹跑。
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