[發(fā)明專利]一種導(dǎo)電膜層、導(dǎo)電膜層制備方法及顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010596512.4
• 申請日: 2020-06-28
• 公開（公告）號: CN111613629B
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃建龍
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 李新干

1.一種導(dǎo)電膜層的制備方法，其特征在于，包括：

提供一基板，所述基板具有相對設(shè)置的第一面和第二面；

在所述第一面形成第一金屬層和第二金屬層，所述第一金屬層位于所述第一面，所述第二金屬層位于所述第二金屬層遠(yuǎn)離所述第一金屬層的一面；

在所述第二金屬層遠(yuǎn)離所述基板的一面形成第三金屬層，所述第三金屬層覆蓋所述第二金屬層邊緣并與所述第一金屬層接觸；

在所述第一面形成所述第一金屬層和所述第二金屬層之后，對所述第一金屬層和所述第二金屬層進(jìn)行蝕刻，所述第二金屬層的刻蝕速度大于所述第一金屬層，形成所述第二金屬層比所述第一金屬層窄；

在所述第二金屬層遠(yuǎn)離所述基板的一面形成第三金屬層之后，對所述第三金屬層進(jìn)行蝕刻；

對所述第三金屬層進(jìn)行蝕刻之后，在所述第三金屬層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)設(shè)置遮光層，所述遮光層遮擋住所述第二金屬層兩側(cè)的反射光；

其中，所述第二金屬層以及所述第三金屬層的橫截面形狀為梯形。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電膜層的制備方法，其特征在于，所述第一金屬層和第三金屬層采用的材料為鈦，所述第二金屬層采用的材料為鋁。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電膜層的制備方法，其特征在于，所述第二金屬層的厚度為4500A至5500A。

4.一種導(dǎo)電膜層，其特征在于，包括：

第一金屬層，具有相對設(shè)置的上表面和下表面；

第二金屬層，設(shè)置在所述上表面，所述第二金屬層比所述第一金屬層窄；

第三金屬層，設(shè)置在所述第二金屬層遠(yuǎn)離所述第一金屬層的一面，且所述第三金屬層覆蓋所述第二金屬層邊緣并與所述第一金屬層接觸；

遮光層，所述遮光層設(shè)置在所述第三金屬層遠(yuǎn)離基板的一側(cè)；

其中，所述第二金屬層以及所述第三金屬層的橫截面形狀為梯形。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的導(dǎo)電膜層，其特征在于，所述第一金屬層和第三金屬層采用的材料為鈦，所述第二金屬層采用的材料為鋁。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的導(dǎo)電膜層，其特征在于，所述第二金屬層的厚度為4500A至5500A。

7.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求4至6任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電膜層。