[發明專利]測量裝置、光刻裝置和制造物品的方法

在審

• 申請號: 202010592420.9
• 申請日: 2020-06-24
• 公開（公告）號: CN112130430A
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發明（設計）人: 古卷貴光;中村忠央
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/00;G01B11/00
• 代理公司: 北京怡豐知識產權代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍;高華麗

本發明提供一種測量裝置、光刻裝置和制造物品的方法。所述測量裝置測量包括第一標記和第二標記的被檢體的位置，并且包括：攝像單元，其被構造為在視場中包含第一標記和第二標記的狀態下拍攝第一標記和第二標記；以及偏振元件，其被構造為在入射到攝像單元上的來自第一標記的光和來自第二標記的光中產生彼此不同的偏振方向。

技術領域

本發明涉及測量被檢體的位置的測量裝置、光刻裝置以及制造物品的方法。

背景技術

作為用于批量生產半導體器件、磁存儲器件等的光刻裝置，通過使用模具在基板上形成壓印材料圖案的壓印裝置正備受關注。壓印裝置可以通過在基板上的壓印材料與模具彼此接觸的狀態下固化壓印材料并將模具與固化后的壓印材料分離，在基板上形成壓印材料圖案。

在壓印裝置中，逐個管芯(die-by-die)的方法被用作用于定位模具和基板的照射區域的方法。逐個管芯的方法是對各個照射區域測量在基板的照射區域上形成的標記和在模具上形成的標記的相對位置，并基于該測量結果校正相對位置和照射區域與模具之間的形狀差的方法。

日本特開第2013-102139號公報公開了一種壓印裝置，該壓印裝置包括檢測器，該檢測器檢測在模具上形成的用于定位的標記和在基板上形成的用于定位的標記，并測量模具和基板在X方向和Y方向上的相對位置。日本特開第2013-102139號公報中公開的檢測器被形成為照明用于測量X方向位置的X標記和用于測量Y方向位置的Y標記兩者，并且由單個攝像元件拍攝來自兩個標記的光束。

在日本特開第2013-102139號公報中公開的檢測器中，有時會產生已經被用于定位的標記的邊緣散射的不必要的光。由于入射到攝像元件上的這種不必要的光將成為來自標記的檢測光的噪聲，因此在標記位置處將會發生測量誤差，并且可能變得難以精確地測量作為被檢體的基板和模具的相對位置。

發明內容

本發明提供例如有利于精確地測量被檢體的位置的技術。

根據本發明的一個方面，提供一種測量裝置，其測量包括第一標記和第二標記的被檢體的位置，所述測量裝置包括：攝像單元，其被構造為在視場中包含第一標記和第二標記的狀態下拍攝第一標記和第二標記；以及偏振元件，其被構造為在入射到攝像單元上的來自第一標記的光和來自第二標記的光中產生彼此不同的偏振方向。

根據本發明的一個方面，提供了一種制造物品的方法，所述方法包括：使用光刻裝置在基板上形成圖案；對已經形成有圖案的基板進行處理，以制造物品，其中，光刻裝置包括：測量裝置，其被構造為檢測包括第一標記和第二標記的基板的位置，以及控制單元，其被構造為基于由測量裝置獲得的測量結果來控制基板的位置，并且其中，測量裝置包括：攝像單元，其被構造為在視場中包含第一標記和第二標記的狀態下拍攝第一標記和第二標記；以及偏振元件，其被構造為在入射到攝像單元上的來自第一標記的光和來自第二標記的光中產生彼此不同的偏振方向。

根據下面參照附圖對示例性實施例的描述，本發明的進一步特征將變得顯而易見。

附圖說明

圖1是示出壓印裝置的布置的示例的示意圖；

圖2是示出對準標記的布置的示例的圖；

圖3是用于說明常規對準示波器(alignment scope)的標記照明的圖；

圖4A和圖4B是用于說明與常規對準示波器有關的問題點的圖；

圖5A至圖5D是用于說明與常規對準示波器有關的問題點的圖；

圖6是示出根據第一實施例的對準示波器的示例的示意圖；

圖7是示出根據第一實施例的光學元件的布置的示例的示意圖；

圖8A和圖8B是示出由根據第一實施例的光學元件偏振的光的圖；