[發明專利]測量裝置、光刻裝置和制造物品的方法

在審

• 申請號: 202010592420.9
• 申請日: 2020-06-24
• 公開（公告）號: CN112130430A
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發明（設計）人: 古卷貴光;中村忠央
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/00;G01B11/00
• 代理公司: 北京怡豐知識產權代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍;高華麗

1.一種測量裝置，其測量包括第一標記和第二標記的被檢體的位置，所述測量裝置包括：

攝像單元，其被構造為在視場中包含第一標記和第二標記的狀態下拍攝第一標記和第二標記；以及

偏振元件，其被構造為在入射到攝像單元上的來自第一標記的光和來自第二標記的光中產生彼此不同的偏振方向。

2.根據權利要求1所述的測量裝置，所述測量裝置還包括：

照明光學系統，其被構造為照明第一標記和第二標記，

其中，偏振元件包括在照明光學系統中，并且在照明第一標記的第一光和照明第二標記的第二光中產生彼此不同的偏振方向。

3.根據權利要求2所述的測量裝置，其中，偏振元件布置在照明光學系統的光瞳平面上。

4.根據權利要求2所述的測量裝置，其中，

照明光學系統包括光學元件，該光學元件被構造為通過使用來自光源的光來產生第一光和第二光，并且

光學元件產生第一光以按第一角度分布照明第一標記，并且產生第二光以按不同于第一角度分布的第二角度分布照明第二標記。

5.根據權利要求4所述的測量裝置，其中，光學元件由一個構件形成，所述一個構件包括用于產生第一光的區域和用于產生第二光的區域。

6.根據權利要求4所述的測量裝置，其中，偏振元件被布置在光學元件與被檢體之間的光路上。

7.根據權利要求4所述的測量裝置，其中，偏振元件使光學元件在以第一角度分布形成的第一光中產生第一偏振方向，并且使光學元件在以第二角度分布形成的第二光中產生與第一偏振方向不同的第二偏振方向。

8.根據權利要求4所述的測量裝置，其中，光學元件包括衍射光學元件、微透鏡陣列和空間光調制器中的至少一個。

9.根據權利要求4所述的測量裝置，其中，所述測量裝置還包括：多種類型的光學元件；以及改變單元，其被構造為改變所述多種類型的光學元件當中的要布置在光路上的光學元件。

10.根據權利要求1所述的測量裝置，其中，所述測量裝置還包括：多種類型的偏振元件；以及第二改變單元，其被構造為改變所述多種類型的偏振元件當中的要布置在光路上的偏振元件。

11.根據權利要求1所述的測量裝置，其中，偏振元件包括偏振器、旋光器和波片中的至少一個。

12.根據權利要求1所述的測量裝置，其中，第一標記和第二標記被形成為在彼此不同的方向上測量被檢體的位置。

13.一種在基板上形成圖案的光刻裝置，包括：

權利要求1至12中的任一項中所限定的測量裝置，其被構造為檢測作為被檢體的基板的位置；以及

控制單元，其被構造為基于由所述測量裝置獲得的測量結果來控制基板的位置。

14.一種制造物品的方法，所述方法包括：

使用光刻裝置在基板上形成圖案；

對已經形成有圖案的基板進行處理，以制造物品，

其中，光刻裝置包括：

測量裝置，其被構造為檢測包括第一標記和第二標記的基板的位置，以及

控制單元，其被構造為基于由測量裝置獲得的測量結果來控制基板的位置，并且

其中，測量裝置包括：

攝像單元，其被構造為在視場中包含第一標記和第二標記的狀態下拍攝第一標記和第二標記；以及

偏振元件，其被構造為在入射到攝像單元上的來自第一標記的光和來自第二標記的光中產生彼此不同的偏振方向。