[發明專利]X射線成像裝置和X射線成像方法

在審

• 申請號: 202010590946.3
• 申請日: 2020-06-24
• 公開（公告）號: CN112304986A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 森本直樹;木村健士;白井太郎;土岐貴弘
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: G01N23/041
• 分類號: G01N23/041;G01N23/083;G01N23/20025;G01N23/20
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種X射線成像裝置，具備：

X射線源；

檢測器，其檢測從所述X射線源照射并通過了被攝體的X射線；以及

圖像處理部，其基于由所述檢測器得到的X射線的檢測數據，通過重構處理來獲取三維的體數據，

其中，所述圖像處理部構成為：從所述體數據獲取多個切片圖像數據，通過對獲取到的所述多個切片圖像數據中的各個切片圖像數據進行作為第一處理的微分處理，來獲取各自與所述多個切片圖像數據中的各個切片圖像數據對應的多個第一處理圖像數據，通過對獲取到的所述多個第一處理圖像數據進行包括加法處理的第二處理，來獲取多個第二處理圖像數據，基于獲取到的所述多個第二處理圖像數據來檢測所述被攝體的邊緣，獲取包括檢測到的所述被攝體的邊緣的邊緣圖像數據。

2.根據權利要求1所述的X射線成像裝置，其中，

所述圖像處理部構成為：通過對所述多個第一處理圖像數據進行作為包括加法處理的所述第二處理的平均化處理，來獲取所述多個第二處理圖像數據。

3.根據權利要求2所述的X射線成像裝置，其中，

所述圖像處理部構成為：通過對所述多個第一處理圖像數據中的一部分的第一處理圖像數據進行作為所述第二處理的平均化處理，來獲取一個第二處理圖像數據。

4.根據權利要求1所述的X射線成像裝置，其中，

所述被攝體具有隨機配置的多個板層疊而成的構造，

所述圖像處理部構成為：檢測所述被攝體的板的邊緣，獲取包括檢測到的所述被攝體的板的邊緣的所述邊緣圖像數據。

5.根據權利要求4所述的X射線成像裝置，其中，

所述圖像處理部構成為：還對所述多個第二處理圖像數據進行作為第三處理的投影處理，由此獲取第三處理圖像數據，基于獲取到的所述第三處理圖像數據來檢測所述被攝體的板的邊緣，獲取包括檢測到的所述被攝體的板的邊緣的所述邊緣圖像數據。

6.根據權利要求5所述的X射線成像裝置，其中，

所述圖像處理部構成為獲取正側第三處理圖像數據和負側第三處理圖像數據來作為所述第三處理圖像數據，所述正側第三處理圖像數據是將在微分處理時以正的信號表示的所述被攝體的板的邊緣即正邊緣匯集成一個所得到的，所述負側第三處理圖像數據是將在微分處理時以負的信號表示的所述被攝體的板的邊緣即負邊緣匯集成一個所得到的。

7.根據權利要求6所述的X射線成像裝置，其中，

所述圖像處理部構成為：通過對所述正側第三處理圖像數據進行極大值檢索處理來從所述正側第三處理圖像數據檢測所述正邊緣，并且通過對所述負側第三處理圖像數據進行極小值檢索處理來從所述負側第三處理圖像數據檢測所述負邊緣，獲取包括檢測到的所述正邊緣和所述負邊緣的所述邊緣圖像數據。

8.根據權利要求1所述的X射線成像裝置，其中，

所述X射線成像裝置還具備：

第一光柵，其配置在所述X射線源與所述檢測器之間，被照射來自所述X射線源的X射線；以及

第二光柵，其配置在所述第一光柵與所述檢測器之間，被照射通過了所述第一光柵的X射線。

9.根據權利要求8所述的X射線成像裝置，其中，

所述圖像處理部構成為基于暗場像的所述體數據來獲取所述邊緣圖像數據。

10.一種X射線成像方法，包括以下步驟：

檢測通過了被攝體的X射線；

基于X射線的檢測數據，通過重構處理來獲取三維的體數據；

從所述體數據獲取多個切片圖像數據；

通過對所述多個切片圖像數據中的各個切片圖像數據進行作為第一處理的微分處理，來獲取各自與所述多個切片圖像數據中的各個切片圖像數據對應的多個第一處理圖像數據；

通過對所述多個第一處理圖像數據進行包括加法處理的第二處理，來獲取多個第二處理圖像數據；以及

基于所述多個第二處理圖像數據來檢測所述被攝體的邊緣，獲取包括檢測到的所述被攝體的邊緣的邊緣圖像數據。