[發明專利]曝光裝置、曝光方法和制造物品的方法

在審

• 申請號: 202010590397.X
• 申請日: 2020-06-24
• 公開（公告）號: CN112130421A
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發明（設計）人: 宮野皓貴;小泉僚;茂泉純;三上晃司
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 宋巖

公開了曝光裝置、曝光方法和制造物品的方法。曝光裝置包括：第一溫度控制器，用于控制投影光學系統的光學元件上的溫度分布；第二溫度控制器，用于控制投影光學系統的光學元件上的溫度分布，其中，在執行曝光操作的第一時段中，第一溫度控制器和第二溫度控制器中的至少一個操作以減小由于執行曝光操作而引起的投影光學系統的像差的變化，并且在第一時段之后并且不執行曝光操作的第二時段中，第一溫度控制器和第二溫度控制器中的至少一個操作以減小由于不執行曝光操作而引起的像差的變化。

技術領域

本發明涉及曝光裝置、曝光方法和制造物品的方法。

背景技術

在諸如半導體器件等的物品的制造中，通過照明光學系統對原版(中間掩模或掩模)進行照明的曝光裝置將原版的圖案經由投影光學系統投影到基板上，并曝光基板。由于投影光學系統的成像特性根據曝光光的照射操作而改變，因此可以通過控制光學元件的姿勢和位置來在曝光裝置中校正成像特性。通過控制光學元件的姿勢和位置可以校正的像差分量有限，并且不能校正諸如像散之類的非旋轉對稱成像特性。日本專利No.5266641公開了通過使用調節機構調節光學構件的溫度來改變光學構件上的溫度分布，調節投影光學系統的光學特性，該光學構件布置在投影光學系統的光瞳面附近。

日本專利No.5266641僅公開了在執行曝光操作的時段期間通過調節機構來調節投影光學系統的成像特性，而沒有公開在不執行曝光操作的時段期間通過調節機構來執行成像特性的調節。如果在不執行曝光操作的時段中停止通過調節機構進行的調節，那么當重新開始曝光操作時，存在將生成大的校正殘余誤差的可能性。這是因為在曝光操作結束之后成像特性的時間變化與通過調節機構進行的調節結束之后成像特性的時間變化不同。

發明內容

本發明提供了一種即使在曝光操作已經停止之后重新開始曝光操作的情況下也有利于以高精度校正投影光學系統的像差的技術。

本發明的第一方面提供了一種曝光裝置，該曝光裝置執行曝光操作以經由投影光學系統對基板進行曝光。該裝置包括：第一溫度控制器，被配置成控制投影光學系統的光學元件上的溫度分布；以及第二溫度控制器，被配置成控制投影光學系統的光學元件上的溫度分布，其中，在執行曝光操作的第一時段中，第一溫度控制器和第二溫度控制器中的至少一個操作以減小由于執行曝光操作而引起的投影光學系統的像差的變化，并且在第一時段之后并且不執行曝光操作的第二時段中，第一溫度控制器和第二溫度控制器中的至少一個操作以減小由于不執行曝光操作而引起的像差的變化。

本發明的第二方面提供了一種曝光方法，該曝光方法執行曝光操作以經由投影光學系統對基板進行曝光，該方法包括：執行第一處理以在執行曝光操作的第一時段中，通過使用第一溫度控制器和第二溫度控制器中的至少一個來控制投影光學系統的光學元件上的溫度分布，以使得由于執行曝光操作而引起的投影光學系統的像差的變化減小，以及執行第二處理以在第一時段之后并且不執行曝光操作的第二時段中，通過使用第一溫度控制器和第二溫度控制器中的至少一個來控制投影光學系統的光學元件上的溫度分布，以使得由于不執行曝光操作而引起的投影光學系統的像差的變化減小。

本發明的第三方面提供了一種制造物品的方法，該方法包括：通過被定義為本發明的第一或第二方面的曝光裝置對基板進行曝光；顯影在曝光中被曝光的基板；以及加工在顯影中被顯影的基板；其中物品是從在加工中被加工的基板獲得的。

通過以下參考附圖對示例性實施例的描述，本發明的其它特征將變得清楚。

附圖說明

圖1是示意性地示出根據第一實施例的曝光裝置的布置的視圖；

圖2A和圖2B是示出根據第一實施例的曝光裝置的光學元件和溫度調節單元的布置的示例的視圖；

圖3A和圖3B是例示由溫度調節單元加熱的透鏡上的溫度分布的視圖；

圖4是例示穿過掃描曝光裝置的投影光學系統的透鏡的光束的分布的視圖；