[發(fā)明專利]曝光裝置、曝光方法和制造物品的方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010590397.X
• 申請(qǐng)日: 2020-06-24
• 公開（公告）號(hào): CN112130421A
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宮野皓貴;小泉僚;茂泉純;三上晃司
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 宋巖

1.一種曝光裝置，其特征在于，該裝置執(zhí)行曝光操作以經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)對(duì)基板進(jìn)行曝光，該裝置包括：

第一溫度控制器，被配置成控制投影光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件上的溫度分布；以及

第二溫度控制器，被配置成控制投影光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件上的溫度分布，

其中，在執(zhí)行曝光操作的第一時(shí)段中，第一溫度控制器和第二溫度控制器中的至少一個(gè)操作以減小由于執(zhí)行曝光操作而引起的投影光學(xué)系統(tǒng)的像差的變化，并且

在第一時(shí)段之后并且不執(zhí)行曝光操作的第二時(shí)段中，第一溫度控制器和第二溫度控制器中的至少一個(gè)操作以減小由于不執(zhí)行曝光操作而引起的像差的變化。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，由第一溫度控制器控制其上的溫度分布的光學(xué)元件與由第二溫度控制器控制其上的溫度分布的光學(xué)元件是相同的。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中，在第一時(shí)段中由第一溫度控制器施加到光學(xué)元件的溫度分布與在第二時(shí)段中由第二溫度控制器施加到光學(xué)元件的溫度分布具有相反的相位。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，在第一時(shí)段中，第一溫度控制器根據(jù)與從第一時(shí)段的開始起所經(jīng)過的時(shí)間對(duì)應(yīng)的命令值來控制光學(xué)元件上的溫度分布，以及

在第二時(shí)段中，第二溫度控制器根據(jù)與從第二時(shí)段的開始起所經(jīng)過的時(shí)間對(duì)應(yīng)的命令值來控制光學(xué)元件上的溫度分布。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，在第一時(shí)段中，第一溫度控制器生成熱以便減小由于執(zhí)行曝光操作而引起的像差的變化，并且

在第二時(shí)段中，第二溫度控制器生成熱以便減小由于不執(zhí)行曝光操作而引起的像差的變化。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，在第一時(shí)段中，第一溫度控制器和第二溫度控制器操作以便減小投影光學(xué)系統(tǒng)的像差的變化，并且

在第二時(shí)段中，第一溫度控制器和第二溫度控制器操作以便減小投影光學(xué)系統(tǒng)的像差的變化。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中，在第一時(shí)段和第二時(shí)段中，第一溫度控制器和第二溫度控制器操作以使得在允許像差在預(yù)定范圍內(nèi)改變的同時(shí)像差不會(huì)落在預(yù)定范圍之外。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，第一溫度控制器布置在由第一溫度控制器控制其上的溫度分布的光學(xué)元件的有效直徑的外側(cè)，第二溫度控制器布置在由第二溫度控制器控制其上的溫度分布的光學(xué)元件的有效直徑的外側(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，第一溫度控制器和第二溫度控制器減小作為像差的Zernike多項(xiàng)式的Nθ個(gè)分量中的至少一個(gè)，其中N為自然數(shù)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，第一溫度控制器和第二溫度控制器減小作為像差的像散。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，第一時(shí)段是從對(duì)基板的最初的曝光操作的開始到對(duì)基板的最后的曝光操作的結(jié)束的時(shí)段。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中，第二時(shí)段是從對(duì)基板的最后的曝光操作的結(jié)束開始的時(shí)段。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，第一時(shí)段是從對(duì)第一批的第一基板的最初的曝光操作的開始到對(duì)第一批的最后一個(gè)基板的最后的曝光操作的結(jié)束的時(shí)段。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其中，第二時(shí)段是從對(duì)第一批的最后一個(gè)基板的最后的曝光操作的結(jié)束到對(duì)第一批之后的第二批的第一基板的最初的曝光操作的開始的時(shí)段。