[發明專利]蒸鍍系統及蒸鍍方法

在審

• 申請號: 202010590351.8
• 申請日: 2020-06-24
• 公開（公告）號: CN111663104A
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發明（設計）人: 馬昆松
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04;C23C14/56
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 李新干

本發明提供一種蒸鍍系統及蒸鍍方法，通過在真空腔室中，將蒸鍍源垂直設置，將多個基板設置在深蒸鍍源的兩側，進而可以對兩側的基板進行蒸鍍，可以提高生產節拍，降低生產成本，提高產品質量。并且本發明將真空腔室設置成多個子真空腔室，可以進一步的對多塊基板進行蒸鍍，且通過使用一個蒸鍍源進行不同子真空腔室的蒸鍍，減小了成本。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種蒸鍍系統及蒸鍍方法。

背景技術

有機電致發光顯示器(OLED)的發光層的制備通過蒸鍍工藝來完成，目前蒸鍍機臺設計通常為多層膜層結構在同一個腔室內蒸鍍完成。因為蒸鍍需要真空環境，每次更換補充材料就需要很長時間，尤其是金屬鍍膜腔室，都是高溫點源，并且每次只能蒸鍍一片基板，這會影響生產節拍的提高。在同一個腔室蒸鍍多種材料，也容易造成相互之間的交叉污染，影響器件的品質。

因此，急需提供一種蒸鍍系統及蒸鍍方法，可以提高生產節拍，降低生產成本，提高產品質量。

發明內容

為了解決上述技術問題，本發明提供一種蒸鍍系統及蒸鍍方法，可以提高生產效率，降低生產成本，提高產品質量。

具體地，為了實現上述方法，本發明提供一種蒸鍍系統，包括：搬運裝置，用以承載并搬運待蒸鍍的多個基板；第一真空腔室，用以接受所述基板并垂直蒸鍍所述基板；所述第一真空腔室包括：第一進口，所述搬運裝置水平搬運所述基板至所述第一進口；翻轉裝置，用以將所述基板由水平狀態翻轉為豎直狀態；蒸發源，垂直設于所述第一真空腔室的中間，翻轉后的基板與所述蒸發源平行設置且設于所述蒸發源的兩側；以及第一出口，將蒸鍍好的基板運送出所述第一出口；其中，所述蒸發源的兩側具有噴射出口，所述噴射出口的中心與所述基板中心位置一致，用以對位于所述蒸發源兩側的基板同時進行蒸鍍。

進一步地，所述搬運裝置包括：導軌；載物臺，滑動連接所述導軌。

進一步地，所述的蒸鍍系統還包括對位系統，用以將待蒸鍍的所述基板與第一掩膜板進行對位，然后放置在所述載物臺上并與所述載物臺貼合。

進一步地，所述基板與所述搬運裝置在所述第一真空腔室為豎直狀態；所述基板與所述搬運裝置在未進入所述第一真空腔室為水平狀態。

進一步地，所述的蒸鍍系統還包括：交換裝置，用以接收從所述第一出口蒸鍍好的基板，并將所述基板的第一掩膜板更換為第二掩膜板，進行對位并傳送至第二真空腔室并再次蒸鍍；所述第二真空腔室包括：第二進口，用以接收所述更換為第二掩膜板的所述基板；翻轉裝置，用以將所述多個基板由水平狀態翻轉為豎直狀態；蒸發源，垂直設于所述第二真空腔室的中間，翻轉后的基板與所述蒸發源平行設置且設于所述蒸發源的兩側；以及第二出口，用以將蒸鍍好的基板運送出所述第二出口。

進一步地，所述蒸發源包括：噴嘴，設于所述噴射出口處；主體結構，所述主體結構內設有蒸鍍材料、加熱系統以及水冷系統；導流裝置，設于所述主體結構上，用以將加熱后的蒸鍍材料輸送所述噴嘴。

進一步地，所述導流裝置垂直或平行于所述主體結構。

進一步地，所述第一真空腔室內包括多個子真空腔室；所述多個子真空腔室通過鋪設導軌相互連通；所述蒸發源滑動連接至所述導軌上，用以在所述子真空腔室進行蒸鍍。

進一步地，所述水冷系統包括一進水口以及一出水口；所述進水口以及所述出水口的水流速度相同，用以將所述水冷系統保持在一個動態平衡的狀態。

本發明還提供一種蒸鍍方法，包括：提供所述的蒸鍍系統；將待蒸鍍的基板與所述第一掩膜板進行對位并與所述載物臺一起貼合在一起；將所述基板傳送至所述第一真空腔室的多個子真空腔室中，所述基板平行設置于所述蒸發源的兩側；在多個子真空腔室移動所述蒸發源，對所述基板進行蒸鍍。