[發(fā)明專利]一種改善方片邊緣涂膠風(fēng)紋的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010589281.4
• 申請日: 2020-06-24
• 公開（公告）號: CN111722474A
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張德強(qiáng);樸勇男;邊疆;王延明;藺偉聰
• 申請（專利權(quán)）人: 沈陽芯源微電子設(shè)備股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 21002
• 代理人: 于曉波

1.一種改善方片邊緣涂膠風(fēng)紋的方法，其特征在于：該方法是針對方片進(jìn)行涂覆光刻膠的過程中，通過調(diào)整涂膠腔體內(nèi)部環(huán)形流場及濕度，加速了光刻膠在方片內(nèi)切圓外流動(dòng)效果，從而減小方片邊緣風(fēng)紋面積；該方法具體包括如下步驟：

(1)將方片送入帶有密閉腔體的涂膠單元內(nèi)，采用涂膠噴嘴將光刻膠噴灑于方片中心處，承片臺帶動(dòng)方片轉(zhuǎn)動(dòng)，光刻膠均勻的涂覆在方片表面；

(2)涂膠完成后，將方片送入熱板烘烤，完成光刻膠固化。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善方片邊緣涂膠風(fēng)紋的方法，其特征在于：所述涂膠單元設(shè)有密閉腔體，承片臺上部設(shè)于密閉腔體內(nèi)，所述密閉腔體包括上蓋，上蓋通過螺釘與密閉腔體可拆卸連接；密閉腔體的上蓋上開有噴膠口，涂膠噴嘴可在噴膠口位置平移并向方片噴灑光刻膠。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善方片邊緣涂膠風(fēng)紋的方法，其特征在于：所述光刻膠(厚膜光刻膠)的涂布厚度為1～3μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善方片邊緣涂膠風(fēng)紋的方法，其特征在于：步驟(1)中，光刻膠涂覆過程中，涂膠噴嘴移動(dòng)速度為100～150mm/s，噴膠量為2～5ml，噴膠速度為0.5～2ml/s，方片(承片臺)轉(zhuǎn)速500～3500r/min。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善方片邊緣涂膠風(fēng)紋的方法，其特征在于：步驟(2)中，熱板的烘烤溫度為90～120℃，烘烤時(shí)間為90～120s。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善方片邊緣涂膠風(fēng)紋的方法，其特征在于：所述方片為8英寸方片時(shí)，經(jīng)所述方法處理后，方片上涂膠風(fēng)紋寬度小于5mm。