[發(fā)明專利]PEG改性的SiO2

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010581005.3
• 申請日: 2020-06-23
• 公開（公告）號: CN111718129B
• 公開（公告）日: 2022-07-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 魏永帥;許少輝;費廣濤;倪志龍;王彪;張敏
• 申請（專利權(quán)）人: 上海西源新能源技術(shù)有限公司
• 主分類號: C03C17/25
• 分類號: C03C17/25
• 代理公司: 合肥和瑞知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 34118
• 代理人: 魏玉嬌

本發(fā)明公開了一種PEG改性的SiO₂?TiO₂復(fù)合自清潔減反射膜及其制備方法。該自清潔減反射膜含有20～25wt％的TiO₂和75～80wt％的SiO₂，該膜背離玻璃基板的一面分布有直徑為10～40nm的圓形孔洞。本發(fā)明還公開了減反射膜的制備方法，通過將SiO₂添加到TiO₂制成SiO₂?TiO₂混合溶膠并分成兩份，其中一份中加入PEG，然后依次用SiO₂?TiO₂混合溶膠和摻雜PEG的SiO₂?TiO₂混合溶膠鍍膜，退火后，頂層的PEG揮發(fā)形成孔洞結(jié)構(gòu)，這樣所制備的折射率漸變的減反射膜，在可見光區(qū)間平均透過率為97.4％，且其最高透過率高于99％；另外，由于TiO₂的加入，在光照條件，可以使薄膜的接觸角減小，有利于改善薄膜的自清潔性能。該方法成本低、制備簡單且環(huán)保，對基底的形狀要求低，可實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于自清潔薄膜材料技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及PEG改性的SiO₂-TiO₂復(fù)合自清潔減反射膜及其制備方法。

背景技術(shù)

減反射膜又稱增透薄膜，在平板顯示、車窗玻璃、太陽能電池等方面有著廣泛的應(yīng)用。但隨著灰塵和有機污染物的沉積，其減反射性能會嚴重下降。因此，具有自清潔功能的減反射膜逐漸引起人們的廣泛關(guān)注。研究發(fā)現(xiàn)TiO₂薄膜在光照射后，表面會產(chǎn)生羥基，使薄膜達到超親水狀態(tài)，從而具有自清潔功能。然而，由于TiO₂薄膜的折射率較大，在可見光波段透過率很低，達不到應(yīng)用的要求。SiO₂是一種常用的低折射率材料，現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)有公開文獻將SiO₂添加到TiO₂薄膜中用來改善TiO₂薄膜的折射率，但均存在一定的缺點。

有現(xiàn)有技術(shù)制備了底層為SiO₂薄膜、頂層為較薄的一層TiO₂薄膜的雙層減反射膜，其透過率不是很高。另外，也有研究者將SiO₂和TiO₂兩種材料按1:1的比例混合，這樣就利用了TiO2的催化性，又可以調(diào)節(jié)混合薄膜的折射率，但僅僅通過將酸性催化得到的SiO2溶膠和TiO2溶膠兩種材料進行混合，制得混合材料的折射率調(diào)節(jié)范圍有限。公開號為CN103426939A的中國專利文獻公開了一種減反射膜的制備方法，該方法用TiO₂和SiO₂薄膜交替4-6次制備得到所需減反射膜，其制備過程比較復(fù)雜；另外，該SiO₂溶膠是在酸性條件下制備得到，其薄膜較致密，折射率較大，不利于透過率的提高。公開號為CN103613282A的中國專利文獻公開了一種雙層復(fù)合減反射膜的制備方法，該方法利用SiO₂-TiO₂混合溶膠解決雙層復(fù)合減反射膜膜層之間不匹配和性能下降問題，第一層用SiO₂-TiO₂混合溶膠提拉鍍膜，其 SiO₂溶膠是酸性條件下得到的，膜層較致密；第二層用硅酸鹽溶膠鍍制，但是第二層需要用酸性溶液進行浸蝕，這將會產(chǎn)生大量酸性的廢液，污染環(huán)境。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題為克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處，提供一種PEG 改性的SiO₂-TiO₂復(fù)合自清潔減反射膜；

本發(fā)明要解決的另一個技術(shù)問題為克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處，提供一種PEG改性的SiO₂-TiO₂復(fù)合自清潔減反射膜的制備方法。