[發(fā)明專利]一種近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置及采集方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010579140.4
• 申請日: 2020-06-23
• 公開（公告）號: CN111781224B
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發(fā)明（設計）人: 章輝;李小寶;汪威;劉志
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術研究所
• 主分類號: G01N23/2273
• 分類號: G01N23/2273;G01N23/2204
• 代理公司: 上海泰能知識產權代理事務所(普通合伙) 31233
• 代理人: 錢文斌;黃志達

1.一種近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置，其特征在于，包括：

單色器，用于提供能量連續(xù)可調的X射線單色入射光；

光強監(jiān)測機構，用于獲取所述X射線單色入射光的光強度信號；

光電子能譜裝置，用于檢測所述X射線單色入射光照射到待測樣品后產生的第一出射光電子信號；

近常壓氣室，所述近常壓氣室內設置有用于放置待測樣品的固定支撐結構，所述固定支撐結構連接有接地的第一電流檢測裝置，所述第一電流檢測裝置用于檢測所述X射線單色入射光照射到待測樣品后產生的第二出射光電子信號；

控制分析模塊，分別與所述單色器、光強監(jiān)測機構、光電子能譜裝置和第一電流檢測裝置相連；

所述控制分析模塊用于控制所述單色器，根據(jù)采集到的所述X射線單色入射光的光強度信號、第一出射光電子信號和第二出射光電子信號進行處理分析，并根據(jù)分析結果輸出所需電子產額模式的X射線吸收譜圖。

2.根據(jù)權利要求1所述的近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置，其特征在于，所述光強監(jiān)測機構包括金屬網和第二電流檢測裝置，所述金屬網通過所述第二電流檢測裝置接地。

3.根據(jù)權利要求1所述的近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置，其特征在于，所述固定支撐結構包括樣品臺，所述樣品臺表面設置有金屬承載組件，所述金屬承載組件用于承載所述待測樣品；所述樣品臺與所述金屬承載組件之間設置有絕緣材料。

4.根據(jù)權利要求3所述的近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置，其特征在于，所述金屬承載組件上設置有用于固定所述待測樣品的固定金屬片，所述固定金屬片通過第一導線與連接所述樣品臺的第二導線相連，所述第二導線與所述第一電流檢測裝置相連。

5.根據(jù)權利要求1所述的近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置，其特征在于，所述控制分析模塊包括：

單色器控制單元，用于控制所述單色器提供能量可調的X射線單色入射光；

入射信號采集單元，用于采集所述光強監(jiān)測機構獲取的X射線單色入射光的光強度信號；

第一出射信號采集單元，用于采集所述光電子能譜裝置檢測到的第一出射光電子信號；

數(shù)據(jù)分析單元，用于對所述X射線單色入射光的光強度信號和/或所述第一出射光電子信號進行處理分析，輸出部分電子產額模式的X射線吸收譜圖。

6.根據(jù)權利要求1所述的近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置，其特征在于，所述控制分析模塊包括：

單色器控制單元，用于控制所述單色器提供能量可調的X射線單色入射光；

入射信號采集單元，用于采集所述光強監(jiān)測機構獲取的X射線單色入射光的光強度信號；

第二出射信號采集單元，用于采集所述第一電流檢測裝置檢測到的第二出射光電子信號；

數(shù)據(jù)分析單元，用于對所述X射線單色入射光的光強度信號和/或所述第二出射光電子信號進行處理分析，并根據(jù)分析結果輸出全電子產額模式的X射線吸收譜圖。

7.根據(jù)權利要求1所述的近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置，其特征在于，所述單色器包括光柵型的單色器或單晶型單色器。

8.根據(jù)權利要求1所述的近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置，其特征在于，所述近常壓氣室設置有氣壓檢測裝置，且所述近常壓氣室連通抽真空裝置，所述控制分析模塊分別與所述氣壓檢測裝置和抽真空裝置連接，以控制所述近常壓氣室的氣壓。

9.根據(jù)權利要求8所述的近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置，其特征在于，所述近常壓氣室設置有至少一個進氣控制閥，所述進氣控制閥連接有進氣控制裝置，所述控制分析模塊分別與所述進氣控制閥和進氣控制裝置連接，以控制所述近常壓氣室的氣氛環(huán)境。

10.根據(jù)權利要求1所述的近常壓電子產額模式X射線吸收譜裝置，其特征在于，所述X射線吸收譜圖包括一維X射線吸收譜圖和/或二維X射線吸收譜圖。