[發(fā)明專利]密封結(jié)構(gòu)、真空處理裝置和密封方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010578342.7
• 申請日: 2020-06-23
• 公開（公告）號: CN112178332B
• 公開（公告）日: 2022-05-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 飯塚八城;渡邊將久;我妻雄一郎
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: F16L39/00
• 分類號: F16L39/00;C23C14/56;H01L21/67
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;劉芃茜

本發(fā)明提供密封結(jié)構(gòu)、真空處理裝置和密封方法。在真空氣氛下進(jìn)行基片的處理的處理腔室所連接的氣體供給配管的密封結(jié)構(gòu)，其包括：第1配管部件，其構(gòu)成上述氣體供給配管，具有形成有與處理腔室連通的開口部的端面；第2配管部件，其構(gòu)成上述氣體供給配管，具有被配置在與上述第1配管部件的端面對置的位置的對置面；彈性體制的密封部件，其以包圍上述開口部的方式設(shè)置在上述第1配管部件的端面與上述第2配管部件的對置面之間；和片狀的多孔部件，其以包圍上述密封部件的周圍的方式設(shè)置在上述第1配管部件的端面與上述第2配管部件的對置面之間。本發(fā)明在使用彈性體制的密封部件進(jìn)行密封時，能夠抑制大氣透過。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及密封結(jié)構(gòu)、真空處理裝置和密封方法。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體裝置的制造工序中，例如在成膜處理等中使用在真空氣氛下對基片進(jìn)行處理的真空處理裝置。在這樣的真空處理裝置中，設(shè)置有：形成真空氣氛的真空腔室；對真空腔室供給成膜用氣體的氣體供給管；和從真空腔室進(jìn)行排氣等的配管。于是，通過連接構(gòu)成這樣的真空腔室或配管的部件而組裝成真空處理裝置時，為了防止大氣從連接部分流入真空腔室或配管內(nèi)，使用將連接部分密封的密封結(jié)構(gòu)。

當(dāng)在這種密封結(jié)構(gòu)中將真空腔室的開口部氣密地密封時，使用與開口部周圍的密封面抵接，將開口部內(nèi)氣密地密封的O形環(huán)，尤其是耐熱性、耐腐蝕性優(yōu)異的彈性體O形環(huán)。然而，在使用亂這樣的彈性體O形環(huán)的密封結(jié)構(gòu)中，存在透過該O形環(huán)的氣體，產(chǎn)生例如大氣透過的問題，因而需要抑制大氣滲透的密封結(jié)構(gòu)。

在專利文獻(xiàn)1中記載了這樣一種結(jié)構(gòu)，在將壁部件與封閉筒狀的壁部件的開口部的頂板之間密封時，在壁部件與頂板之間的抵接部分形成為同心圓狀的外槽和內(nèi)槽中，分別嵌入了密封部件(O形環(huán))。此外，通過用非活性氣體填充配置于內(nèi)外的密封部件之間的區(qū)域，抑制大氣進(jìn)入開口部內(nèi)。

另外，在專利文獻(xiàn)2中記載了這樣的技術(shù)，通過使在內(nèi)外配置有的密封件(O形環(huán))所設(shè)置于的各槽部中的密封件的大氣側(cè)成為真空氣氛，來抑制大氣透過密封件的待機(jī)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2004-99924號公報

專利文獻(xiàn)2：日本特開平7-68152號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的技術(shù)問題

本發(fā)明是在這樣的情況下完成的，其目的在于提供一種使用彈性體制的密封部件進(jìn)行密封時抑制大氣透過的技術(shù)。

用于解決技術(shù)問題的技術(shù)方案

本發(fā)明的密封結(jié)構(gòu)是在真空氣氛下進(jìn)行基片的處理的處理腔室所連接的氣體供給配管的密封結(jié)構(gòu)，其包括：

第1配管部件，其構(gòu)成上述氣體供給配管，具有形成有與處理腔室連通的開口部的端面；

第2配管部件，其構(gòu)成上述氣體供給配管，具有被配置在與上述第1配管部件的端面對置的位置的對置面；

彈性體制的密封部件，其以包圍上述開口部的方式設(shè)置在上述第1配管部件的端面與上述第2配管部件的對置面之間；和

片狀的多孔部件，其以包圍上述密封部件的周圍的方式設(shè)置在上述第1配管部件的端面與上述第2配管部件的對置面之間。

發(fā)明效果

依照本發(fā)明，當(dāng)使用彈性體制的密封部件進(jìn)行密封時，能夠抑制大氣透過。

附圖說明

圖1是一實施方式的真空處理裝置的側(cè)視圖。

圖2是表示設(shè)置于上述真空處理裝置中的氣體供給配管的密封結(jié)構(gòu)的一例的分解立體圖。

圖3是上述密封結(jié)構(gòu)的縱截面圖。