[發(fā)明專利]雙面曝光設(shè)備及曝光裝置

在審

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• 申請日: 2020-06-23
• 公開（公告）號: CN113835300A
• 公開（公告）日: 2021-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 阮文興;呂俊賢;尹作均
• 申請（專利權(quán)）人: 志圣科技(廣州)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11240
• 代理人: 陳方鳴

1.一種雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述雙面曝光設(shè)備包括：

曝光裝置，包含有：

曝光腔室，其內(nèi)包含有間隔設(shè)置的上曝光機構(gòu)與下曝光機構(gòu)；

傳輸機構(gòu)，其分別位于所述上曝光機構(gòu)與所述下曝光機構(gòu)之間及所述曝光腔室之外；及

兩個臺框，安裝于所述傳輸機構(gòu)；其中，每個所述臺框能通過所述傳輸機構(gòu)而在所述上曝光機構(gòu)與所述下曝光機構(gòu)之間及所述曝光腔室之外反復(fù)地移動，并且兩個所述臺框分別位于所述上曝光機構(gòu)與所述下曝光機構(gòu)之間及所述曝光腔室之外；其中，每個所述臺框的相反兩側(cè)分別設(shè)置有兩個底片；以及

輸送裝置，對應(yīng)于所述曝光裝置設(shè)置，并且所述輸送裝置包含有：

入料模塊，用以供待曝光電路板位于預(yù)定位置上；

出料模塊，沿產(chǎn)線方向與所述入料模塊間隔設(shè)置，并且所述入料模塊與所述出料模塊之間定義有移載區(qū)域；其中，位于所述曝光腔室之外的所述臺框位于所述移載區(qū)域；及

移載模塊，用以將位于所述預(yù)定位置的所述待曝光電路板移動至位于所述移載區(qū)域的所述臺框的兩個所述底片之間；

其中，所述傳輸機構(gòu)能將位于所述移載區(qū)域且設(shè)置有所述待曝光電路板的所述臺框傳輸至所述上曝光機構(gòu)與所述下曝光機構(gòu)之間，以使所述待曝光電路板能夠被所述上曝光機構(gòu)與所述下曝光機構(gòu)同步進行曝光作業(yè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面曝光設(shè)備，其特征在于，每個所述臺框包含有固定框體及樞接于所述固定框體的活動框體；在每個所述臺框中，所述固定框體與所述活動框體分別安裝兩個所述底片，并且所述固定框體與所述活動框體用以放置所述待曝光電路板。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙面曝光設(shè)備，其特征在于，在每個所述臺框中，所述固定框體包含有位于相反側(cè)的第一側(cè)邊與第二側(cè)邊，所述固定框體的所述第一側(cè)邊樞接于所述活動框體，并且所述固定框體在所述第二側(cè)邊設(shè)置有用來插接于所述活動框體的多個導(dǎo)引件。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面曝光設(shè)備，其特征在于，每個所述臺框能通過所述傳輸機構(gòu)而沿作業(yè)方向反復(fù)地移動，并且所述作業(yè)方向垂直所述產(chǎn)線方向，以使所述作業(yè)方向與所述產(chǎn)線方向共同構(gòu)成T字形動線。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述傳輸機構(gòu)包含有相互平行的兩個軌道組，并且每個所述軌道組分別位于所述上曝光機構(gòu)與所述下曝光機構(gòu)之間及所述曝光腔室之外，而兩個所述臺框分別安裝于兩個所述軌道組。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述移載模塊能用來沿著垂直所述作業(yè)方向與所述產(chǎn)線方向的高度方向來吸取所述待曝光電路板，并且所述移載模塊能用來沿著所述產(chǎn)線方向而將所述待曝光電路板移動至位于所述移載區(qū)域的所述臺框。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述入料模塊包含有平行地排列的多個拋光滾筒及用來驅(qū)動多個所述拋光滾筒的磁力驅(qū)動機構(gòu)，每個所述拋光滾筒的長軸方向垂直于所述產(chǎn)線方向，并且多個所述拋光滾筒能通過所述磁力驅(qū)動機構(gòu)的驅(qū)動而用以傳輸所述待曝光電路板。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述入料模塊包含有鄰近所述移載區(qū)域的前靠整板機構(gòu)及沿著所述產(chǎn)線方向設(shè)置的側(cè)靠整板機構(gòu)，并且多個所述拋光滾筒用來移動所述待曝光電路板以致抵靠于所述前靠整板機構(gòu)與所述側(cè)靠整板機構(gòu)而位于所述預(yù)定位置。