[發明專利]雙面曝光設備及曝光裝置

在審

• 申請號: 202010577840.X
• 申請日: 2020-06-23
• 公開（公告）號: CN113835300A
• 公開（公告）日: 2021-12-24
• 發明（設計）人: 阮文興;呂俊賢;尹作均
• 申請（專利權）人: 志圣科技(廣州)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 陳方鳴

本發明涉及一種雙面曝光設備及曝光裝置。所述雙面曝光設備包含曝光裝置以及對應于所述曝光裝置設置的輸送裝置，所述曝光裝置包含曝光腔室、傳輸機構以及兩個臺框。所述曝光腔室包含有間隔設置的上曝光機構與下曝光機構，所述傳輸機構分別位于所述上曝光機構與所述下曝光機構之間及所述曝光腔室之外，兩個所述臺框安裝于所述傳輸機構且每個所述臺框的相反兩側分別設置有兩個底片。所述輸送裝置包含入料模塊、出料模塊以及移載模塊。所述出料模塊沿產線方向與所述入料模塊間隔設置。通過所述上曝光機構、所述下曝光機構、以及所述傳輸機構，所述臺框僅需在單一腔室內外移動，使原有曝光時間縮短為至少一半。

技術領域

本發明涉及一種曝光設備，特別是涉及一種雙面曝光設備及曝光裝置。

背景技術

現有的曝光設備是將對位裝置與曝光裝置安置于不同的區域，例如是將曝光裝置設置于工作腔室內，而將對位裝置設置于工作腔室外，且現有的曝光設備單次僅能對一印刷電路板的單面進行曝光。因此，現有的曝光設備是先通過對位裝置進行臺框及工件的對位作業，而后才將臺框及工件移動至工作腔室內并對印刷電路板的單面進行曝光。

然而，若要對印刷電路板進行雙面曝光，由于現有的曝光設備一次僅能曝光單面印刷電路板，導致現有的曝光設備需要進行多次的對位以及曝光作業。是以，現有的曝光設備構造及其運作方式已無形中降低整體制程的作業效率。于是，本發明人認為上述缺陷可改善，乃特潛心研究并配合科學原理的運用，終于提出一種設計合理且有效改善上述缺陷的本發明。

發明內容

本發明實施例在于提供一種雙面曝光設備及曝光裝置，其用以改善現有的曝光設備需要進行多次的對位以及曝光作業的問題。

本發明的其中一個實施例公開一種雙面曝光設備，其包括一曝光裝置，所述曝光裝置包含有：一曝光腔室，其內包含有：間隔設置的一上曝光機構與一下曝光機構；一傳輸機構，其分別位在所述上曝光機構與所述下曝光機構之間及所述曝光腔室之外；及兩個臺框，安裝于所述傳輸機構。其中，每個所述臺框能通過所述傳輸機構而于所述上曝光機構與所述下曝光機構之間及所述曝光腔室之外反復地移動，并且兩個所述臺框分別位于所述上曝光機構與所述下曝光機構之間及所述曝光腔室之外；其中，每個所述臺框的相反兩側分別設置有兩個底片；以及一輸送裝置，對應于所述曝光裝置設置，并且所述輸送裝置包含有：一入料模塊，用以供一待曝光電路板位于一預定位置上；一出料模塊，沿一產線方向與所述入料模塊間隔設置，并且所述入料模塊與所述出料模塊之間定義有一移載區域；其中，位于所述曝光腔室之外的所述臺框位在所述移載區域；及一移載模塊，用以將位于所述預定位置的所述待曝光電路板移動至位于所述移載區域的所述臺框的兩個所述底片之間；其中，所述傳輸機構能將位于所述移載區域且設置有所述待曝光電路板的所述臺框傳輸至所述上曝光機構與所述下曝光機構之間，以使所述待曝光電路板能夠被所述上曝光機構與所述下曝光機構同步進行曝光作業。

優選地，每個所述臺框包含有一固定框體及樞接于所述固定框體的一活動框體；于每個所述臺框中，所述固定框體與所述活動框體分別安裝兩個所述底片，并且所述固定框體與所述活動框體用以放置所述待曝光電路板。

優選地，于每個所述臺框中，所述固定框體包含有位于相反側的一第一側邊與一第二側邊，所述固定框體的所述第一側邊樞接于所述活動框體，并且所述固定框體于所述第二側邊設置有用來插接于所述活動框體的多個導引件。

優選地，每個所述臺框能通過所述傳輸機構而沿一作業方向反復地移動，并且所述作業方向垂直所述產線方向，以使所述作業方向與所述產線方向共同構成一T字形動線。

優選地，所述傳輸機構包含有相互平行的兩個軌道組，并且每個所述軌道組分別位在所述上曝光機構與所述下曝光機構之間及所述曝光腔室之外，而兩個所述臺框分別安裝于兩個所述軌道組。

優選地，所述移載模塊能用來沿著垂直所述作業方向與所述產線方向的一高度方向來吸取所述待曝光電路板，并且所述移載模塊能用來沿著所述產線方向而將所述待曝光電路板移動至位于所述移載區域的所述臺框。