[發(fā)明專利]保護(hù)膜形成膜、保護(hù)膜形成用片、保護(hù)膜形成用復(fù)合片及加工物的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010572379.9
• 申請(qǐng)日: 2015-01-21
• 公開（公告）號(hào): CN111785673A
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山本大輔;米山裕之
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 琳得科株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/683
• 分類號(hào): H01L21/683;H01L21/268;H01L21/56;H01L21/78;C09J7/00;C09J7/10;C09J7/20;C09J7/25;C09J7/35;C09J11/06;C09J133/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 王利波

1.一種保護(hù)膜形成膜，其在波長(zhǎng)1064nm的透光率為55％以上、在波長(zhǎng)550nm的透光率為20％以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜形成膜，其中，所述保護(hù)膜形成膜包含在常溫下為液態(tài)的環(huán)氧樹脂和在常溫下為固體的環(huán)氧樹脂。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜形成膜，其中，所述保護(hù)膜形成膜含有有機(jī)系著色劑。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的保護(hù)膜形成膜，其中，所述有機(jī)系著色劑包含顏料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜形成膜，其中，所述保護(hù)膜形成膜是由未固化的固化性粘接劑構(gòu)成的單層。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的保護(hù)膜形成膜，其中，所述固化性粘接劑含有平均粒徑0.01～3μm的填料。

7.一種保護(hù)膜形成用復(fù)合片，其具備：

在基材的一面?zhèn)券B層粘合劑層而成的粘合片、和

疊層于所述粘合片的所述粘合劑層側(cè)的權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的保護(hù)膜形成膜。

8.一種激光打印方法，該方法包括：

在表面形成有電路、且經(jīng)過了背面研磨處理加工的半導(dǎo)體晶片的背面粘貼權(quán)利要求7所述的保護(hù)膜形成用復(fù)合片的保護(hù)膜形成膜的工序；

使所述保護(hù)膜形成膜固化而形成保護(hù)膜的工序；以及

對(duì)所述保護(hù)膜照射激光而進(jìn)行激光打印的工序。

9.一種存在于經(jīng)過了背面研磨處理加工的半導(dǎo)體晶片的背面的磨痕的掩蔽方法，該方法包括：

在表面形成有電路、且經(jīng)過了背面研磨處理加工的半導(dǎo)體晶片的背面粘貼權(quán)利要求7所述的保護(hù)膜形成用復(fù)合片的保護(hù)膜形成膜的工序；以及

使所述保護(hù)膜形成膜固化而形成保護(hù)膜的工序。