[發(fā)明專利]質(zhì)譜分析裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010567636.X | 申請(qǐng)日: | 2020-06-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112216594A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-01-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 立石勇介 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社島津制作所 |
| 主分類號(hào): | H01J49/06 | 分類號(hào): | H01J49/06;H01J49/40;G01N30/72 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 譜分析 裝置 | ||
提供一種質(zhì)譜分析裝置,獲得減輕了高頻噪聲的影響的品質(zhì)良好的質(zhì)譜。質(zhì)譜分析裝置具備離子阱和TOF質(zhì)譜分析器,重復(fù)執(zhí)行在將源自試樣成分的離子捕捉到離子阱之后從離子阱射出離子并利用TOF質(zhì)譜分析器對(duì)離子進(jìn)行分析的動(dòng)作,還具備:捕捉電壓產(chǎn)生部,對(duì)離子阱施加離子捕捉用的高頻電壓;射出電壓產(chǎn)生部,施加相位與高頻電壓的相位同步的離子射出用電壓;控制部,在TOF質(zhì)譜分析器進(jìn)行質(zhì)譜分析的期間進(jìn)行控制,使得將接下來(lái)要分析的離子導(dǎo)入并捕捉到離子阱中;空白信號(hào)獲取部,在使離子阱進(jìn)行了動(dòng)作的狀態(tài)下獲取測(cè)定期間或測(cè)定窗中的空白信號(hào);噪聲去除部,從通過(guò)測(cè)定樣品得到的信號(hào)強(qiáng)度數(shù)據(jù)減去空白信號(hào)數(shù)據(jù);譜制作部,基于噪聲去除后的數(shù)據(jù)制作質(zhì)譜。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種質(zhì)譜分析裝置,更為詳細(xì)地說(shuō),涉及一種離子阱飛行時(shí)間質(zhì)譜分析裝置。
背景技術(shù)
離子阱飛行時(shí)間質(zhì)譜分析裝置(以下有時(shí)稱為“IT-TOFMS”)具備:離子阱,其通過(guò)高頻電場(chǎng)的作用來(lái)捕捉離子;以及飛行時(shí)間質(zhì)譜分析器(以下稱為“TOF質(zhì)譜分析器”),其基于與離子的質(zhì)荷比m/z相應(yīng)的飛行時(shí)間來(lái)分離并檢測(cè)該離子。在IT-TOFMS中,在將源自試樣中的成分的目標(biāo)離子種暫時(shí)捕捉到離子阱的內(nèi)部之后,在規(guī)定的定時(shí)從該離子阱釋放所述離子種,并將其導(dǎo)入到TOF質(zhì)譜分析器的飛行空間。然后,利用檢測(cè)器檢測(cè)在飛行空間內(nèi)飛行后的離子種,并求出表示飛行時(shí)間與離子強(qiáng)度的關(guān)系的飛行時(shí)間譜,通過(guò)將飛行時(shí)間換算為質(zhì)荷比來(lái)制作質(zhì)譜。
在使用IT-TOFMS作為液相色譜儀(LC)或氣相色譜儀(GC)的檢測(cè)器的情況下(參照專利文獻(xiàn)1等),在IT-TOFMS中,需要針對(duì)包含由LC或GC的柱在時(shí)間上分離出的各種成分的試樣重復(fù)實(shí)施質(zhì)譜分析。在該情況下,一般來(lái)說(shuō),如圖2的(a)所示那樣將以下的三個(gè)工序作為一個(gè)周期并在規(guī)定的條件下重復(fù)執(zhí)行該周期:將在離子源中由試樣成分生成的離子捕捉到離子阱的內(nèi)部的離子蓄積工序;使在離子阱的內(nèi)部蓄積的離子所具有的能量減少的冷卻工序;以及從離子阱射出離子并利用TOF質(zhì)譜分析器分離并檢測(cè)該離子的分析(在圖2中為“TOF質(zhì)譜分析”)工序。
在使用IT-TOFMS作為L(zhǎng)C或GC的檢測(cè)器的情況下,在時(shí)間上連續(xù)地向IT-TOFMS導(dǎo)入作為測(cè)定對(duì)象的試樣。在IT-TOFMS中,在如圖2的(a)所示那樣在結(jié)束了一個(gè)周期之后接著執(zhí)行下一個(gè)周期的情況下,只有在離子蓄積工序的期間內(nèi)被導(dǎo)入到IT-TOFMS的試樣成為測(cè)定對(duì)象,在除此以外的期間內(nèi)被導(dǎo)入到IT-TOFMS的試樣中的成分不被測(cè)定。也就是說(shuō),發(fā)生成分的漏測(cè)定。分析工序的時(shí)間越長(zhǎng),則一個(gè)周期所需的時(shí)間越長(zhǎng)。離子在TOF質(zhì)譜分析器中的飛行距離越長(zhǎng)則分析工序的時(shí)間越長(zhǎng),因此反射型TOF質(zhì)譜分析器的一個(gè)周期的時(shí)間比直線型TOF質(zhì)譜分析器的一個(gè)周期的時(shí)間長(zhǎng),進(jìn)而,在多向轉(zhuǎn)動(dòng)型TOF質(zhì)譜分析器中,一個(gè)周期的時(shí)間進(jìn)一步變長(zhǎng),成分的漏測(cè)定的問(wèn)題變得顯著。
作為避免這種問(wèn)題的對(duì)策之一,已知一種使連續(xù)的周期的一部分期間重疊來(lái)進(jìn)行測(cè)定的方法。圖2的(b)是在某個(gè)周期中的分析工序的執(zhí)行過(guò)程中實(shí)施下一個(gè)周期的離子蓄積工序以及冷卻工序的情況下的例子。在該例中,雖然不同的周期的分析工序的期間不重疊,但只要在不同的周期從離子阱射出的離子種能夠在TOF質(zhì)譜分析器中分離,就可以容許不同的周期的分析工序的期間重疊。這樣,通過(guò)使連續(xù)的周期的一部分期間重疊來(lái)進(jìn)行測(cè)定,能夠使沒(méi)有進(jìn)行離子蓄積工序的期間變短,來(lái)減輕成分的漏測(cè)定。
專利文獻(xiàn)1:國(guó)際公開(kāi)第2009/095957號(hào)刊
專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2011-96542號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
然而,如果使連續(xù)的周期的一部分期間重疊來(lái)進(jìn)行測(cè)定,則存在如下的問(wèn)題。
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