[發(fā)明專(zhuān)利]標(biāo)定方法、裝置、電雕控制系統(tǒng)和計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010566283.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111907189A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賈松濤 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 固高科技(深圳)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B41C1/045 | 分類(lèi)號(hào): | B41C1/045 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 熊文杰 |
| 地址: | 518051 廣東省深圳市南山*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 標(biāo)定 方法 裝置 控制系統(tǒng) 計(jì)算機(jī) 可讀 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
本申請(qǐng)涉及一種標(biāo)定方法、裝置、電雕控制系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),標(biāo)定方法包括:根據(jù)雕刻控制信號(hào)驅(qū)動(dòng)雕刻頭在沿版輥的軸向運(yùn)動(dòng)的同時(shí)垂直于版輥的圓柱面往復(fù)運(yùn)動(dòng),以在版輥上形成試雕網(wǎng)穴;控制版輥轉(zhuǎn)動(dòng)并控制靠頭沿版輥的軸向進(jìn)行移動(dòng),以使靠頭利用設(shè)置的傳感器單元獲取試雕網(wǎng)穴的尺寸信息;獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息和所述雕刻控制信號(hào)之間的目標(biāo)標(biāo)定關(guān)系。本申請(qǐng)根據(jù)雕刻控制信號(hào)控制雕刻頭在版輥上形成試雕網(wǎng)穴,采集雕刻的試雕網(wǎng)穴的尺寸信息,從而獲取試雕網(wǎng)穴的尺寸信息和所述雕刻控制信號(hào)之間的目標(biāo)標(biāo)定關(guān)系。可以利用目標(biāo)標(biāo)定關(guān)系在雕刻過(guò)程中對(duì)當(dāng)前雕刻網(wǎng)穴的尺寸信息進(jìn)行實(shí)時(shí)補(bǔ)償,從而提高雕刻控制信號(hào)的準(zhǔn)確性。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及電雕制版,特別是涉及一種標(biāo)定方法、裝置、電雕控制系統(tǒng)和計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。
背景技術(shù)
隨著現(xiàn)代社會(huì)的發(fā)展,人們對(duì)印刷質(zhì)量的要求越來(lái)越高,而版輥是影響其質(zhì)量的關(guān)鍵因素。版輥形式上有凸版、平板和凹版,其中凹版以其優(yōu)良性能占據(jù)著市場(chǎng)主流。凹版印刷制版方法包括:刻蝕、激光雕刻和電雕等幾種方法。電雕制版由于重復(fù)性強(qiáng)、網(wǎng)點(diǎn)面積和深度可變、成本低等優(yōu)點(diǎn),被廣泛應(yīng)用。
然而,現(xiàn)有的電雕設(shè)備雕刻網(wǎng)穴的加工精度靠機(jī)械結(jié)構(gòu)來(lái)保證,加工精度不高。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種標(biāo)定方法、裝置、電雕控制系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),可以提高電雕制版的加工精度。
一種標(biāo)定方法,包括:
根據(jù)雕刻控制信號(hào)驅(qū)動(dòng)雕刻頭在沿版輥的軸向運(yùn)動(dòng)的同時(shí)垂直于所述版輥的圓柱面往復(fù)運(yùn)動(dòng),以在所述版輥上形成試雕網(wǎng)穴;
控制版輥轉(zhuǎn)動(dòng)并控制靠頭沿所述版輥的軸向進(jìn)行移動(dòng),以使所述靠頭利用設(shè)置的傳感器單元獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息;
獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息和所述雕刻控制信號(hào)之間的目標(biāo)標(biāo)定關(guān)系。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息和所述雕刻控制信號(hào)之間的目標(biāo)標(biāo)定關(guān)系,包括:
獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息和所述交流分量信號(hào)之間的第一標(biāo)定關(guān)系;
獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息和所述直流分量信號(hào)之間的第二標(biāo)定關(guān)系;
根據(jù)所述第一標(biāo)定關(guān)系和所述第二標(biāo)定關(guān)系獲取所述目標(biāo)標(biāo)定關(guān)系。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述雕刻控制信號(hào)包括直流分量信號(hào),所述根據(jù)雕刻控制信號(hào)驅(qū)動(dòng)雕刻頭在沿版輥的軸向運(yùn)動(dòng)的同時(shí)垂直于所述版輥的圓柱面往復(fù)運(yùn)動(dòng)之前,所述方法還包括:
設(shè)置所述雕刻控制信號(hào),其中,所述直流分量信號(hào)的幅值按照幅值預(yù)設(shè)規(guī)則進(jìn)行變化。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述傳感器單元包括攝像頭,所述以使所述靠頭利用設(shè)置的傳感器單元獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息,包括:
利用所述攝像頭采集所述試雕網(wǎng)穴對(duì)應(yīng)的檢測(cè)圖像;
對(duì)所述檢測(cè)圖像進(jìn)行識(shí)別以獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述傳感器單元還包括激光傳感器,所述以使所述靠頭利用設(shè)置的傳感器單元獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息,包括:
利用所述激光傳感器發(fā)射激光信號(hào)至雕刻有試雕網(wǎng)穴的所述版輥上;
根據(jù)所述版輥反射的回波信號(hào)獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述獲取所述試雕網(wǎng)穴的尺寸信息和所述雕刻控制信號(hào)之間的目標(biāo)標(biāo)定關(guān)系之后,所述方法還包括:
利用所述雕刻控制信號(hào)驅(qū)動(dòng)所述雕刻頭在所述版輥上雕刻當(dāng)前網(wǎng)穴;
實(shí)時(shí)采集所述當(dāng)前網(wǎng)穴的尺寸信息;
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