[發明專利]標定方法、裝置、電雕控制系統和計算機可讀存儲介質在審
| 申請號: | 202010566283.1 | 申請日: | 2020-06-19 |
| 公開(公告)號: | CN111907189A | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發明(設計)人: | 賈松濤 | 申請(專利權)人: | 固高科技(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | B41C1/045 | 分類號: | B41C1/045 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 熊文杰 |
| 地址: | 518051 廣東省深圳市南山*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 標定 方法 裝置 控制系統 計算機 可讀 存儲 介質 | ||
1.一種標定方法,其特征在于,包括:
根據雕刻控制信號驅動雕刻頭在沿版輥的軸向運動的同時垂直于所述版輥的圓柱面往復運動,以在所述版輥上形成試雕網穴;
控制版輥轉動并控制靠頭沿所述版輥的軸向進行移動,以使所述靠頭利用設置的傳感器單元獲取所述試雕網穴的尺寸信息;
獲取所述試雕網穴的尺寸信息和所述雕刻控制信號之間的目標標定關系。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述獲取所述試雕網穴的尺寸信息和所述雕刻控制信號之間的目標標定關系,包括:
獲取所述試雕網穴的尺寸信息和所述交流分量信號之間的第一標定關系;
獲取所述試雕網穴的尺寸信息和所述直流分量信號之間的第二標定關系;
根據所述第一標定關系和所述第二標定關系獲取所述目標標定關系。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述雕刻控制信號包括直流分量信號,所述根據雕刻控制信號驅動雕刻頭在沿版輥的軸向運動的同時垂直于所述版輥的圓柱面往復運動之前,所述方法還包括:
設置所述雕刻控制信號,其中,所述直流分量信號的幅值按照幅值預設規則進行變化。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述傳感器單元包括攝像頭,所述以使所述靠頭利用設置的傳感器單元獲取所述試雕網穴的尺寸信息,包括:
利用所述攝像頭采集所述試雕網穴對應的檢測圖像;
對所述檢測圖像進行識別以獲取所述試雕網穴的尺寸信息。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述傳感器單元還包括激光傳感器,所述以使所述靠頭利用設置的傳感器單元獲取所述試雕網穴的尺寸信息,包括:
利用所述激光傳感器發射激光信號至雕刻有試雕網穴的所述版輥上;
根據所述版輥反射的回波信號獲取所述試雕網穴的尺寸信息。
6.根據權利要求1至5任一項所述的方法,其特征在于,所述獲取所述試雕網穴的尺寸信息和所述雕刻控制信號之間的目標標定關系之后,所述方法還包括:
利用所述雕刻控制信號驅動所述雕刻頭在所述版輥上雕刻當前網穴;
實時采集所述當前網穴的尺寸信息;
根據所述當前網穴的尺寸信息和所述目標標定關系對所述雕刻控制信號進行補償。
7.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,所述根據所述當前網穴的尺寸信息和所述目標標定關系對所述雕刻控制信號進行補償,包括:
當所述當前網穴的尺寸信息和所述預設網穴的尺寸信息不一致時,利用所述目標標定關系對所述雕刻控制信號進行實時補償。
8.一種標定裝置,其特征在于,包括:
試雕模塊,用于根據雕刻控制信號驅動雕刻頭在沿版輥的軸向運動的同時垂直于所述版輥的圓柱面往復運動,以在所述版輥上形成試雕網穴,所述雕刻控制信號與預設網穴的尺寸信息對應;
獲取模塊,控制版輥轉動并控制靠頭沿所述版輥的軸向進行移動,以使所述靠頭利用設置的傳感器單元獲取所述試雕網穴的尺寸信息;
標定模塊,用于獲取所述試雕網穴的尺寸信息和所述雕刻控制信號之間的目標標定關系。
9.一種電雕控制系統,包括存儲器及處理器,所述存儲器中儲存有計算機程序,所述計算機程序被所述處理器執行時,使得所述處理器執行如權利要求1至7中任一項所述的標定方法的步驟。
10.一種計算機可讀存儲介質,其上存儲有計算機程序,其特征在于,所述計算機程序被處理器執行時實現如權利要求1至7中任一項所述方法的步驟。
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