[發(fā)明專利]半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法、存儲介質(zhì)以及半導(dǎo)體設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010566033.8
• 申請日: 2020-06-19
• 公開（公告）號: CN113823581B
• 公開（公告）日: 2023-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃進(jìn)昌
• 申請（專利權(quán)）人: 長鑫存儲技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 史治法

1.一種半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，包括：

獲取機臺待曝光產(chǎn)品批次的套刻誤差基準(zhǔn)曲線；

根據(jù)所述套刻誤差基準(zhǔn)曲線，設(shè)定套刻誤差范圍；

獲取所述待曝光產(chǎn)品批次曝光后的套刻誤差；

判斷所述套刻誤差是否落入所述套刻誤差范圍內(nèi)；

若所述套刻誤差落入所述套刻誤差范圍內(nèi)，則對所述機臺進(jìn)行預(yù)冷卻處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，所述對所述機臺進(jìn)行預(yù)冷卻處理，包括：

控制所述機臺在曝光下一產(chǎn)品批次之前曝光調(diào)試產(chǎn)品批次或等待預(yù)設(shè)時間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，在所述獲取所述待曝光產(chǎn)品批次曝光后的套刻誤差之前，還包括：

判斷所述機臺連續(xù)曝光的高曝光能量產(chǎn)品批次的晶圓數(shù)量是否超過預(yù)設(shè)晶圓數(shù)量，其中所述高曝光能量產(chǎn)品批次為曝光能量大于預(yù)設(shè)曝光能量的待曝光產(chǎn)品批次；

若所述高曝光能量產(chǎn)品批次的晶圓數(shù)量大于所述預(yù)設(shè)晶圓數(shù)量，則對所述機臺進(jìn)行冷卻處理。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，所述對所述機臺進(jìn)行冷卻處理，包括：

調(diào)整所述待曝光產(chǎn)品批次的順序。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，所述套刻誤差基準(zhǔn)曲線為三階變形套刻誤差基準(zhǔn)曲線。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，所述根據(jù)所述套刻誤差基準(zhǔn)曲線，設(shè)定套刻誤差范圍，包括：

根據(jù)所述三階變形套刻誤差基準(zhǔn)曲線中三階變形套刻誤差的爬升速度以及飽和高度設(shè)置套刻誤差閾值；

根據(jù)所述套刻誤差閾值設(shè)置所述套刻誤差范圍，其中所述套刻誤差范圍的最大值小于所述套刻誤差閾值。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，在控制所述機臺曝光調(diào)試產(chǎn)品批次之前，還包括：

獲取前一產(chǎn)品批次的第一曝光能量和所述待曝光產(chǎn)品批次的第二曝光能量，其中所述前一產(chǎn)品批次為與所述待曝光產(chǎn)品批次相鄰的已曝光產(chǎn)品批次；

根據(jù)所述第一曝光能量和所述第二曝光能量確定所述調(diào)試產(chǎn)品批次的第三曝光能量，所述第三曝光能量在所述第一曝光能量和所述第二曝光能量之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，在所述根據(jù)所述第一曝光能量和所述第二曝光能量確定所述調(diào)試產(chǎn)品批次之后，還包括：

根據(jù)所述前一產(chǎn)品批次的所述第一曝光能量與所述待曝光產(chǎn)品批次的所述第二曝光能量之間的差值，設(shè)定所述調(diào)試產(chǎn)品批次中的晶圓數(shù)量。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，所述調(diào)整所述待曝光產(chǎn)品批次的順序之前，還包括：

判斷所述機臺是否預(yù)約有所述待曝光產(chǎn)品批次；

若所述機臺預(yù)約有所述待曝光產(chǎn)品批次，則調(diào)整所述待曝光產(chǎn)品批次。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，調(diào)整所述待曝光產(chǎn)品批次包括：

獲取所述待曝光產(chǎn)品批次的前一產(chǎn)品批次的第一批次編號和所述待曝光產(chǎn)品批次的后一產(chǎn)品批次的第二批次編號；

將第三批次編號的備選產(chǎn)品批次與所述待曝光產(chǎn)品批次的曝光順序進(jìn)行調(diào)換，所述第三批次編號不同于所述第一批次編號和所述第二批次編號。

11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，在控制所述機臺等待預(yù)設(shè)時間之前，還包括：

根據(jù)所述機臺的透鏡加熱和透鏡冷卻曲線設(shè)定所述機臺所需等待的所述預(yù)設(shè)時間。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)線派貨方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)時間大于1小時。