[發(fā)明專利]熱處理的控制方法、裝置及設(shè)備

有效

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• 申請日: 2020-06-19
• 公開（公告）號: CN111781870B
• 公開（公告）日: 2022-02-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋興亮
• 申請（專利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類號: G05B19/042
• 分類號: G05B19/042;B05D3/06
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 朱文杰

本申請實(shí)施例公開了一種熱處理的控制方法、裝置及設(shè)備，用以解決現(xiàn)有的熱處理配方執(zhí)行效率低、耗時(shí)長的問題。該熱處理的控制方法包括：判斷熱處理過程的當(dāng)前待處理步驟與上一已處理步驟中的電機(jī)參數(shù)是否滿足跳過執(zhí)行設(shè)定操作的條件，電機(jī)參數(shù)包括電機(jī)速度、電機(jī)起點(diǎn)及電機(jī)終點(diǎn)；若滿足跳過執(zhí)行設(shè)定操作的條件，則跳過執(zhí)行設(shè)定操作；確定當(dāng)前待處理步驟與上一已處理步驟分別對應(yīng)的熱處理參數(shù)的不同參數(shù)值，并根據(jù)不同參數(shù)值對當(dāng)前待處理步驟對應(yīng)的熱處理參數(shù)進(jìn)行調(diào)整；在當(dāng)前待處理步驟的計(jì)時(shí)開始時(shí)，基于調(diào)整后的熱處理參數(shù)執(zhí)行當(dāng)前待處理步驟。該技術(shù)方案節(jié)省了熱處理配方的整體執(zhí)行時(shí)間，提高了熱處理配方的執(zhí)行效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種熱處理的控制方法、裝置及設(shè)備。

背景技術(shù)

紫外固化(UV Cure)如UV輔助熱處理，是利用紫外光高能量(即光能量高、波長短)的特點(diǎn)來處理已經(jīng)沉積好的薄膜，對其進(jìn)行改性處理。在印刷、汽車、平板顯示等涉及有機(jī)物固化的行業(yè)早有類似的應(yīng)用。UV Cure目前在集成電路制造中主要應(yīng)用于在前段制程(FEOL)，如處理氮化硅、氧化硅、非晶碳等，用來改變薄膜密度、應(yīng)力分布等；或應(yīng)用在后段制程(BEOL)中固化處理預(yù)沉積的絕緣薄膜、修復(fù)刻蝕等。此外，UV Cure還可以用來去除水汽、有機(jī)物污染、電荷累積等。

配方(Recipe)，即工業(yè)自動(dòng)化制造中的配方，其內(nèi)容包含加工過程中的多個(gè)步驟，以及各個(gè)步驟中各種工藝參數(shù)值和各步驟持續(xù)時(shí)間。對于產(chǎn)線來說，機(jī)臺(Tool)端軟件最重要的工作就是準(zhǔn)確、快速、穩(wěn)定的執(zhí)行配方，保證每片晶片的執(zhí)行效果良好、一致。對于UVCure機(jī)臺而言，配方執(zhí)行過程中需要重點(diǎn)關(guān)注的是UV燈和旋轉(zhuǎn)電機(jī)的配合，要求晶圓表面光照均勻的前提下盡可能提高產(chǎn)能。

現(xiàn)有技術(shù)中，半導(dǎo)體領(lǐng)域的UV Cure在一個(gè)處理腔室中執(zhí)行，該處理腔室包括燈頭、旋轉(zhuǎn)電機(jī)、石英窗、氦氣氣路、干泵及托盤(Ped)。其中，燈頭用于產(chǎn)生紫外光；旋轉(zhuǎn)電機(jī)用于承載燈頭，且由于連接有燈頭供電線，所以旋轉(zhuǎn)電機(jī)只能進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)；石英窗位于燈頭正下方，用于隔離腔室和燈頭；紫外光可穿透石英窗照射晶片；托盤位于腔室的內(nèi)部空間中，用于放置晶片；氦氣氣路為腔室通入氦氣；干泵用于提供抽真空能力。

在上述處理腔室中，UV Cure中的各步驟時(shí)間按照電機(jī)旋轉(zhuǎn)整周(起點(diǎn)到終點(diǎn)再回到起點(diǎn))設(shè)定，為了保證均勻性，每個(gè)步驟的計(jì)時(shí)時(shí)間到時(shí)則停止旋轉(zhuǎn)電機(jī)、關(guān)閉紫外燈，然后再執(zhí)行下一步驟，各步驟之間的繁瑣操作導(dǎo)致機(jī)臺的生產(chǎn)效率下降。

發(fā)明內(nèi)容

本申請實(shí)施例的目的是提供一種熱處理的控制方法、裝置及設(shè)備，用以解決現(xiàn)有的熱處理配方執(zhí)行效率低、耗時(shí)長的問題。

為解決上述技術(shù)問題，本申請實(shí)施例是這樣實(shí)現(xiàn)的：

一方面，本申請實(shí)施例提供一種熱處理的控制方法，應(yīng)用于熱處理腔室，所述熱處理腔室包括電機(jī)、加熱裝置、用于放置待處理件的承載裝置及惰性氣體氣路；所述方法包括：

判斷熱處理過程的當(dāng)前待處理步驟與上一已處理步驟中的電機(jī)參數(shù)是否滿足跳過執(zhí)行設(shè)定操作的條件，所述電機(jī)參數(shù)包括電機(jī)速度、電機(jī)起點(diǎn)及電機(jī)終點(diǎn)；

若滿足跳過執(zhí)行設(shè)定操作的條件，則跳過執(zhí)行所述設(shè)定操作；

確定所述當(dāng)前待處理步驟與所述上一已處理步驟分別對應(yīng)的熱處理參數(shù)的不同參數(shù)值，并根據(jù)所述不同參數(shù)值對所述當(dāng)前待處理步驟對應(yīng)的熱處理參數(shù)進(jìn)行調(diào)整；

在所述當(dāng)前待處理步驟的計(jì)時(shí)開始時(shí)，基于調(diào)整后的所述熱處理參數(shù)執(zhí)行所述當(dāng)前待處理步驟。

另一方面，本申請實(shí)施例提供一種熱處理的控制裝置，應(yīng)用于熱處理腔室，所述熱處理腔室包括電機(jī)、加熱裝置、用于放置待處理件的承載裝置及惰性氣體氣路；所述裝置包括：

第一判斷模塊，用于判斷熱處理過程的當(dāng)前待處理步驟與上一已處理步驟中的電機(jī)參數(shù)是否滿足跳過執(zhí)行設(shè)定操作的條件，；所述電機(jī)參數(shù)包括電機(jī)速度、電機(jī)起點(diǎn)及電機(jī)終點(diǎn)；