[發明專利]OPC的SSA表的形成方法

有效

• 申請號: 202010563173.X
• 申請日: 2020-06-19
• 公開（公告）號: CN111708255B
• 公開（公告）日: 2023-03-07
• 發明（設計）人: 馮佳計;金曉亮;袁春雨
• 申請（專利權）人: 上海華虹宏力半導體制造有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/36
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 郭四華

1.一種OPC的SSA表的形成方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟一、對原始層圖形進行OPC得到OPC后的仿真層圖形，所述仿真層圖形和對應的所述原始層圖形疊加在一起；

步驟二、對所述原始層圖形的各邊做維度區分，所述維度區分將對應的邊區分成一維邊和二維邊；所述維度區分包括：

計算所述原始層圖形的邊和對應所述仿真層圖形的邊的多個位置處的位置差值；

所述位置差值具有正值和負值，當所述仿真層圖形的邊位于所述原始層圖形的邊的外側時所述位置差值為正值，當所述仿真層圖形的邊位于所述原始層圖形的邊的內側時所述位置差值為負值；

根據所計算的所述位置差值區分出對應的邊是一維邊還是二維邊，其中，將各位置處的最大位置差值和最小位置差值的差值大于規定值且最小位置差值為負值的邊定義為所述二維邊，將各位置處的最大位置差值和最小位置差值的差值小于等于規定值的邊定義為所述一維邊；

步驟三、抽取出每一條所述一維邊的偏離值并得到一組對應的(W,S,B)測量值，W表示所述一維邊對應的所述原始層圖形的寬度，S表示所述一維邊對應的所述原始層圖形的間距，B表示所述一維邊的偏離值；所述一維邊的偏離值由所述一維邊的各位置處的所述位置差值得到；

步驟四、進行(W，S)區間劃分，包括：

將W作為橫坐標且W的取值范圍為0到Wmax，Wmax表示所有的所述一維邊的W中的最大值；

將S作為縱坐標且S的取值范圍為0到Smax，Smax表示所有的所述一維邊的S中的最大值；

以間距ΔW等間隔劃分所述橫坐標以及以間距ΔS等間隔劃分所述縱坐標從而形成多個所述(W，S)區間；

步驟五、進行所述偏離值的區間分布計算，包括：

按照各所述一維邊的(W，S，B)測量值中的W和S所屬的所述(W，S)區間將所述一維邊對應的B放置在對應的所述(W，S)區間中；

所有的所述一維邊的B都放置到對應的所述(W，S)區間后，各所述(W，S)區間中包括多個對應的B；

根據各所述(W，S)區間中的多個B計算出一個B的最終值并形成對應的(W,S,B)最終值；

由所有的所述(W,S,B)最終值形成SSA表。

2.如權利要求1所述的OPC的SSA表的形成方法，其特征在于：步驟二中的所述維度區分中，首先需要將所述原始層圖形的邊分割成多個分段邊，在各所述分段邊的中心放置位置線，所述位置線和所述原始層圖形的邊垂直相交且和所述仿真層圖形的邊相交；之后，在各所述分段邊的中心位置之外的各等間距位置處放置對應的所述位置線；

讀取各所述位置線對應的所述位置差值；

根據所述位置差值依次判斷各所述分段邊是一維邊還是二維邊。

3.如權利要求2所述的OPC的SSA表的形成方法，其特征在于：如果所述原始層圖形的邊的各所述分段邊都為一維邊，則整個所述原始層圖形的邊合并為一條一維邊；

如果所述原始層圖形的邊的各所述分段邊中包括一維邊和二維邊，則所述一維邊對應于所述分段邊。

4.如權利要求1所述的OPC的SSA表的形成方法，其特征在于：步驟三中，所述(W,S,B)測量值中：當所述一維邊對應的所述原始層圖形在各位置處具有不同的W時取各W中的最小值。

5.如權利要求1或4所述的OPC的SSA表的形成方法，其特征在于：步驟三中，所述(W,S,B)測量值中：

所述一維邊的偏離值取為所述一維邊的各位置處的所述位置差值的平均值；

或者，所述一維邊的偏離值取為所述一維邊的中點處的所述位置差值。

6.如權利要求1所述的OPC的SSA表的形成方法，其特征在于：步驟一中，所述原始層圖形包括多個。

7.如權利要求6所述的OPC的SSA表的形成方法，其特征在于：所述原始層圖形包括了OPC工藝中所需要用到的所有圖形。