[發明專利]一種硅晶圓蝕刻輔助裝置

在審

• 申請號: 202010561665.5
• 申請日: 2020-06-18
• 公開（公告）號: CN111672227A
• 公開（公告）日: 2020-09-18
• 發明（設計）人: 吳美華
• 申請（專利權）人: 吳美華
• 主分類號: B01D46/24
• 分類號: B01D46/24;B01D46/00;B01D46/10;B01D53/04;H01L21/67
• 代理公司: 北京勁創知識產權代理事務所(普通合伙) 11589
• 代理人: 曹玉清

本發明屬于蝕刻領域，尤其是一種硅晶圓蝕刻輔助裝置，針對現有的晶圓蝕刻產生的氣體處理成本高以及零部件更換不便的問題，現提出如下方案：包括矩形盒，所述矩形盒的四個側面與頂部均設置有活性炭濾網，且矩形盒的底部固定安裝有底固定板，所述活性炭濾網與矩形盒之間設置有密封框，所述底固定板的底部固定安裝有四個支撐柱，四個所述支撐柱的底部固定安裝有同一個底支撐板，所述底固定板與底支撐板之間設置有導氣管，且導氣管的一端固定安裝有法蘭盤，所述底支撐板的底部固定安裝有四個萬向輪，本發明利用低成本的結構實現了對有毒有害氣體的吸附過濾，同時方便了活性炭濾網與活性炭空氣濾筒的拆裝更換與清理，且結構簡單，實用性強。

技術領域

本發明涉及蝕刻技術領域，尤其涉及一種硅晶圓蝕刻輔助裝置。

背景技術

蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術，蝕刻技術可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類，通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

目前的蝕刻裝置在進行晶圓的蝕刻時會產生一定量的有毒有害氣體，一般會采用特定的裝置對其進行處理，但該裝置結構復雜，生產成本高，且整體的拆裝操作麻煩，零部件的更換不便，不利于實際的使用，因此，我們提出一種硅晶圓蝕刻輔助裝置。

發明內容

本發明提出的一種硅晶圓蝕刻輔助裝置，解決了目前晶圓蝕刻產生的氣體處理成本高以及零部件更換不便的問題。

為了實現上述目的，本發明采用了如下技術方案：

一種硅晶圓蝕刻輔助裝置，包括矩形盒，所述矩形盒的四個側面與頂部均設置有活性炭濾網，且矩形盒的底部固定安裝有底固定板，所述活性炭濾網與矩形盒之間設置有密封框，所述底固定板的底部固定安裝有四個支撐柱，四個所述支撐柱的底部固定安裝有同一個底支撐板，所述底固定板與底支撐板之間設置有導氣管，且導氣管的一端固定安裝有法蘭盤，所述底支撐板的底部固定安裝有四個萬向輪，所述活性炭濾網的兩側均通過搭扣與矩形盒相連接，且搭扣的一側設置有限位機構，所述矩形盒的四個側面與頂部均開設有矩形孔，且矩形孔的內部固定安裝有十字架，所述矩形盒的內底面固定安裝有環形座，且矩形盒的內部設置有活性炭空氣濾筒，所述活性炭空氣濾筒的頂部固定安裝有端蓋，且活性炭空氣濾筒的底部設置有密封圈，所述環形座的內側面頂部開設有錐形面，且環形座的內側面開設有兩個卡位槽，所述活性炭空氣濾筒上固定有兩個卡位凸起，所述限位機構包括固定柱與限位塊，所述固定柱的外側面底部設置有環形凸起，且環形凸起通過緊固螺釘固定安裝在矩形盒上，所述固定柱的上端外表面開設有螺紋孔，且固定柱的側面固定連接有直角板，且直角板上焊接有彈性片，所述固定柱與限位塊之間設置有第一橡膠圈，所述彈性片與限位塊之間設置有第二橡膠圈，所述限位塊上開設有通孔，所述彈性片上貫穿有壓緊螺栓，且壓緊螺栓通過螺紋孔與固定柱螺紋連接。

優選的，所述卡位槽包括豎槽、斜槽、橫槽與定位卡槽，且豎槽通過斜槽與橫槽相連通，所述定位卡槽與橫槽相連通，所述豎槽、斜槽、橫槽與定位卡槽的內表面均為光滑面。

優選的，所述密封框與密封圈均為橡膠材質制成，所述彈性片為不銹鋼材質制成。

優選的，所述活性炭空氣濾筒通過密封圈與矩形盒的內底面密封連接，所述活性炭濾網通過密封框與矩形盒密封連接。

優選的，所述導氣管貫穿底固定板，且導氣管的另一端與活性炭空氣濾筒的內腔相連通。

優選的，四個所述支撐柱分別位于底支撐板的頂部四個拐角處，四個所述萬向輪分別位于底支撐板的底部四個拐角處。

優選的，所述壓緊螺栓貫穿第一橡膠圈、第二橡膠圈與通孔，所述卡位凸起的一端外表面為半球面。