[發明專利]狹縫鍍膜裝置在審
| 申請號： | 202010559361.5 | 申請日： | 2020-06-18 |
| 公開（公告）號： | CN111809153A | 公開（公告）日： | 2020-10-23 |
| 發明（設計）人： | 馬永勝;孫飛;黃濤;劉佰奇;郭迪舟;何平;董海義 | 申請（專利權）人： | 中國科學院高能物理研究所 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 石茵汀 |
| 地址： | 100049 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 狹縫 鍍膜 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種狹縫鍍膜裝置，其特征在于，所述裝置包括：
法蘭，所述法蘭的個數為兩個，兩個法蘭平行放置，用于固定待鍍膜的真空管；
陰極絲，所述陰極絲固定在所述真空管的中心位置；
陰極絲固定結構，所述陰極絲固定結構設置在所述陰極絲上，用于固定所述陰極絲；其中，所述陰極絲上每間隔預設距離設置一個所述陰極絲固定結構。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：
夾緊件，所述夾緊件的個數為兩個，分別固定在兩個法蘭的外側壁，用于拉緊且固定所述陰極絲。
3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述夾緊件為內部中空的圓柱體，并且在所述夾緊件的中心位置處設置有兩個螺釘孔以固定所述陰極絲。
4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：
設置在所述陰極絲一端的重物，用于將所述陰極絲拉直。
5.根據權利要求4所述的裝置，其特征在于，所述重物的重量處于0.5kg至1kg之間。
6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述預設距離為80mm至120mm的距離區間。
7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，采用直流磁控濺射方法對所述真空管內壁進行鍍膜，其中，沉積溫度為80～100℃，流量計的流量為0.5～2sccm，濺射功率為10～25W，氣體壓強為5～15Pa，磁場強度為500～750Gauss，沉積時間為4～8h。
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