[發明專利]曝光裝置及物品制造方法

在審

• 申請號: 202010556563.4
• 申請日: 2020-06-17
• 公開（公告）號: CN112099318A
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發明（設計）人: 漆原宏亮
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京怡豐知識產權代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍;高華麗

本發明提供曝光裝置及物品制造方法。有利于兼顧投影光學系統的光學性能的校正性能與生產率。曝光裝置具有：投影光學系統，將掩模的圖案投影到基板；供給部，將折射率互不相同的多種氣體以預先設定的混合率即設定混合比來混合而得的混合氣體供給到投影光學系統的內部的光學元件間的空間；控制部，通過控制設定混合比來對投影光學系統的成像特性進行校正并對基板進行曝光。控制部獲取表示供給部以固定的混合比供給混合氣體時的成像特性的演變的響應特性，控制部在將設定混合比設定為目標混合比并對基板進行曝光時，在成像特性轉變為穩定狀態之前的過渡期間中，將設定混合比設定為基于響應特性對目標混合比進行校正而得的值并對基板進行曝光。

技術領域

本發明涉及曝光裝置及物品制造方法。

背景技術

伴隨著近年來半導體器件的高集成化的發展，對曝光裝置的光學性能的要求也越來越高。作為妨礙曝光裝置的光學性能提高的重要原因，能夠列舉出光學性能會受到投影光學系統內外的氣壓變化、溫度變化等環境變化的影響。

針對這樣的環境變化，存在如下方法，向投影光學系統內的空間供給折射率不同的兩種以上氣體，通過改變氣體的混合率來使空間的折射率變化來校正倍率像差(例如專利文獻1、2)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平5-210049號公報

專利文獻2：日本特開平5-144700號公報。

發明內容

發明所要解決的問題

在改變氣體的混合率來校正投影光學系統的光學性能的情況下，在投影光學系統的空間內置換氣體并至光學性能穩定為止需要長時間。以往，在光學性能穩定之前，曝光裝置停止曝光并待機。因此，曝光裝置的停機時間長，生產率下降。

本發明的目的在于提供例如有利于兼顧投影光學系統的光學性能的校正性能與生產率這兩者的曝光裝置。

用于解決問題的方案

根據本發明的第一方面，提供對基板進行曝光的曝光裝置，所述曝光裝置特征在于，具有：投影光學系統，其將掩模的圖案投影到所述基板；供給部，其將混合氣體供給到所述投影光學系統的內部的光學元件間的空間，所述混合氣體是將折射率互不相同的多種氣體以預先設定的混合率即設定混合比進行混合而得的；以及控制部，其通過控制所述設定混合比來對所述投影光學系統的成像特性進行校正并對所述基板進行曝光，所述控制部獲取如下響應特性，該響應特性表示所述供給部以固定的混合比來供給混合氣體時的所述成像特性的演變(變化)，所述控制部在將所述設定混合比設定為目標混合比并對所述基板進行曝光時，在所述成像特性轉變為穩定狀態之前的過渡期間中，所述控制部將所述設定混合比設定為基于所述響應特性來對所述目標混合比進行校正而得的值并對所述基板進行曝光。

根據本發明的第二方面，提供物品制造方法，其特征在于，包括：使用上述第一方面所涉及的曝光裝置來對基板進行曝光的工序；以及對被曝光了的所述基板進行顯影的工序，其中，從被顯影了的所述基板來制造物品。

發明的效果

根據本發明，能夠提供例如有利于兼顧投影光學系統的光學性能的校正性能與生產率這兩者的曝光裝置。

附圖說明

圖1是示出實施方式中的曝光裝置的結構的圖。

圖2是示出實施方式中的與投影光學系統的光學性能的校正相伴隨的曝光處理的流程圖。

圖3是示出混合氣體置換中的像差的響應特性的例子的圖。

圖4是示出球面像差的變化量相對于混合氣體的混合比的變化而言所存在的比例關系的圖。

附圖標記說明